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一种内置喷码组件的靶材溅射镀膜设备的制作方法
2021-01-30[0001]本实用新型属于磁控溅射技术领域，具体涉及一种内置喷码组件的靶材溅射镀膜设备。背景技术：[0002]随着科学技术的发展，真空镀膜技术得到了飞速的发展。薄膜技术可以改变
一种溅射镀膜上料系统的制作方法
2021-01-30[0001]本实用新型涉及溅射镀膜技术领域，较为具体的，涉及到一种溅射镀膜上料系统。背景技术：[0002]目前，真空磁控溅射镀膜机是对金属、玻璃和塑料表面进行镀膜的专用设备，其
二硫化钼基掺杂陶瓷相多元复合薄膜及其制备方法与应用与流程
2021-01-30[0001]本发明涉及一种二硫化钼基陶瓷相掺杂多元复合薄膜，特别涉及一种二硫化钼基陶瓷相掺杂多元复合薄膜及其制备方法，可用于真空及不同湿度环境下服役的基体表面，属于表面处理技术
连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线的制作方法
2021-01-30[0001]本发明涉及溅射镀膜设备技术领域，具体为一种连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线。背景技术：[0002]目前，磁控溅射镀膜技术是当前广泛应用的真空镀膜技术方法，被普遍
一种无基体偏压下获得的刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层及其制备方法与流程
2021-01-30[0001]本发明属于涂层技术领域，涉及无基体偏压下获得的刚玉和立方结构三氧化二铝铬混合相涂层（即α-(al,cr)2o3和fcc-(al,cr)2o3混合相涂层），还涉及无基
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