[0001]本发明涉及材料表面处理技术领域，具体是一种立方氮化硼表面复合处理方法、立方氮化硼磨粒、应用。背景技术：[0002]立方氮化硼作为一种人工合成的新型材料，具有很高的硬

• 立方氮化硼
• 磁控溅射
• 镀镍

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[0001]本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是指一种涂层机的机芯构造。背景技术：[0002]真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空

• 靶材
• 磁控溅射
• 分子和原子
• 弯管

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[0001]本公开涉及光学薄膜制备技术领域，尤其涉及一种塑料基底硬质减反射膜及其镀膜方法。背景技术：[0002]光学塑料元件具有质量轻，加工易成型的优点，已逐渐取代光学玻璃，但

• 反射膜
• 磁控溅射

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[0001]本发明涉及一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法，属于表面加工、涂层技术领域。背景技术：[0002]石墨是传统的燃料电池双极板材料，导电性和耐腐蚀性俱佳，并且与气体扩散

• 物理气相沉积
• 载玻片
• 磁控溅射
• 甲烷

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一种基于离子注渗的齿轮钢wc-dlc涂层及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及齿轮钢表面涂层制备领域，尤其涉及基于离子注渗的齿轮钢wc-dlc涂层的制备方法及制备得到的涂层

• 磁控溅射
• wc
• 齿轮加工

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[0001]本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置。背景技术：[0002]目前，提高磁控溅射设备的自动化集成度，增加产能以及提高溅射设备

• 插板阀
• 磁控溅射
• 真空环境
• 旋转变换
• 设备搬运

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[0001]本发明涉及镀膜工艺技术领域，更具体地说，是涉及一种镀膜方法。背景技术：[0002]ar(iantireflection)减反膜(又称增透膜)，主要应用于手机玻璃盖板

• 磁控溅射
• 玻璃镀膜
• 玻璃清洗
• 靶材

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[0001]本实用新型涉及卷绕机构技术领域，尤其涉及一种用于电磁屏蔽膜增强型磁控溅射卷绕镀膜机构。背景技术：[0002]电磁兼容性缩写emc，就是指某电子设备既不干扰其它设备，

• 减速电机
• 磁控溅射
• 电机轴承
• 螺纹连接
• 螺纹加工

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[0001]本实用新型涉及镀膜机技术领域，具体为一种磨损试验件磁控溅射镀膜装置。背景技术：[0002]磁控溅射是物理气相沉积（physicalvapordeposition，p

• 磁控溅射

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[0001]本实用新型涉及靶台技术领域，具体来说，涉及一种用于磁控溅射真空机的靶台。背景技术：[0002]溅射是指用高能粒子轰击固体靶材表面，使得固体靶材表面的原子和分子与入射

• 真空机
• 靶材
• 磁控溅射

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