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一种真空磁控溅射镀膜机的制作方法
2021-01-30本实用新型涉及镀膜机加工领域，具体涉及到一种真空磁控溅射镀膜机。背景技术：磁控溅射镀膜主要用于电子工业、磁性材料及记录介质、光学及光导通讯等，具有高速、低温、低损伤等优点.高速
一种长寿命溅射靶材组件的制作方法
2021-01-30本实用新型属于磁控溅射技术领域：，涉及一种溅射靶材组件，尤其涉及一种长寿命溅射靶材组件。背景技术：：溅射靶材是半导体集成电路制备过程中重要的原材料之一，靶材的材质主要包括al、
多腔体超低温磁控溅射镀膜机的制作方法
2021-01-30本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及多腔体超低温磁控溅射镀膜机。背景技术：磁控溅射镀膜机包括依次连通的放卷室、前处理室、工艺室和收卷室，工艺室内设有冷却辊和溅射腔室
一种氢气分离提纯膜的制作方法
2021-01-30[0001]本实用新型涉及氢气分离技术领域，尤其是涉及一种氢气分离提纯膜。背景技术：[0002]在全面建成小康社会来临之际，能源问题与环境问题成了制约工业发展的主要因素，氢能因
一种微弧氧化CrAlN涂层的复合制备方法与流程
2021-01-30本发明属于表面改性技术领域，具体涉及一种微弧氧化craln涂层的复合制备方法。背景技术：表面改性技术是当前材料领域的重要发展方向之一。铬与铝及其化合物涂层因具有较高的耐蚀性，良
一种用于磁控溅射镀膜机的靶管装卸装置的制作方法
2021-01-30本发明涉及真空磁控溅射技术领域，具体为一种用于磁控溅射镀膜机的靶管装卸装置。背景技术：真空磁控溅射技术是指一种利用阴极表面配合的磁场形成电子陷阱，使在e×b的作用下电子紧贴阴极
磁控溅射镀膜装置的制作方法
2021-01-30[0001]本实用新型涉及真空溅射领域，尤其涉及一种磁控溅射镀膜装置。背景技术：[0002]近年来，磁控溅射镀膜装置在工业化镀膜生产中的应用日益广泛，特别是，随着触摸屏相关的终
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