本发明属于真空镀膜领域。特别涉及一种沉积dlc薄膜的磁控溅射镀膜技术和镀膜机。背景技术：目前在真空镀膜领域获得的众多薄膜产品中，具有很多优异性能的类金刚石薄膜(英文名：diam

• 靶材
• 磁控溅射
• 汽车镀膜
• 等离子体

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本发明涉及半导体制作工艺技术领域，特别是涉及一种在晶片上沉积金属层的方法。背景技术：磁控溅射是将金属沉积到半导体芯片上以在集成电路中形成电连接和其他结构的主要方法。靶材由待沉积

• 靶材
• pvd
• 磁控溅射
• 功率
• 等离子体

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本发明涉及薄膜封装技术领域，特别是涉及一种薄膜沉积设备。背景技术：随着显示技术的发展，对色彩和轻便度要求越来越高，有机发光二极管(organiclight-emittingdi

• 弯管
• 真空环境
• 等离子体
• 电流

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本发明涉及用于涂布基材的连续式设备(durchlaufanlage)，特别是真空连续式设备，以及涉及涂布基材的方法，特别是真空方法。特别地，本发明涉及连续式设备，所述连续式设备

• 等离子体

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[0001]本发明总体上涉及在等离子体加工方法诸如等离子体蚀刻中保护表面的方法。特别地，本发明涉及利用气相化学沉积的方法制造耐等离子体腐蚀的涂覆物品。背景技术：[0002]化学

• 氧化钇
• 金属腐蚀
• 等离子体

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[0001]本发明构思的示例性实施例涉及一种沉积装置。更具体地，本发明构思的示例性实施例涉及一种包括多个磁体组件的沉积装置。背景技术：[0002]目前，具有相对轻的重量和相对小

• 平面图
• 等离子体

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[0001]本发明属于超亲水薄膜材料技术领域，具体涉及一种具有耐久超亲水特性的微纳结构薄膜的制备方法。背景技术：[0002]超亲水材料在自清洁、防雾防污、油水分离、生物材料等领

• 溅射靶材
• 接触角
• 等离子体

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[0001]本公开内容的实施方式一般涉及处理腔室，诸如等离子体增强气相沉积(pecvd)腔室。更具体来说，本公开内容的实施方式涉及用于处理腔室的气体分布组件。背景技术：[000

• 等离子体

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[0001]本实用新型涉及镀膜设备领域，尤其涉及一种摄像头镜片防污镀膜设备。背景技术：[0002]日常生活中，移动通信设备上普通未镀防污膜摄像头镜片易脏污，时间长了玻璃表面模糊

• 齿轮
• 等离子体

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[0001]本实用新型涉及离子喷射技术领域，具体来说，涉及一种便于喷射金属离子的喷射装置。背景技术：[0002]等离子体喷涂设备或等离子管用于粉末材料的低功率热喷涂，例如：与不

• 真空管
• 等离子体

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