一种用于磁控溅射真空机的靶台的制作方法

[0001]
本实用新型涉及靶台技术领域，具体来说，涉及一种用于磁控溅射真空机的靶台。


背景技术：

[0002]
溅射是指用高能粒子轰击固体靶材表面，使得固体靶材表面的原子和分子与入射的高能粒子交换动能，从而从固体表面飞溅出来的现象。溅射出来的原子或原子团重新凝聚，沉积在固体衬底的表面上形成薄膜。
[0003]
磁控溅射镀膜是指在溅射区域中加入磁场，通过磁场来改变电子的运动方向，以此束缚和延长电子的运动轨迹的方法。磁控溅射可以提高电子对工作气体离化的几率，使得轰击靶材的高能离子增多和轰击基片的高能电子减少，从而电子的能量可以有效的得到利用。磁控溅射法制备薄膜时，一般用氩气作为溅射气体。氩原子被离化后轰击靶材，溅射出来的溅射粒子在衬底上沉积即可形成薄膜。在利用传统的磁控溅射设备的实际生产中，溅射粒子除了沉积到衬底上外，还有相当一部分散射到磁控溅射腔室的腔壁上沉积下来。由于溅射粒子与溅射腔室的金属腔壁之间的结合力弱，新的溅射粒子轰击到腔壁上时，之前沉积在腔壁上的就很容易脱落下来掉在腔室内形成碎渣，有些碎渣会掉落在靶台阴极与阳极的缝隙里，这些碎屑不仅严重影响制备的薄膜的质量，而且特别容易造成靶台阴极和阳极之间短路，另外现有的磁控溅射靶台不能够对靶材的高度进行调节，难以适应不同厚度的镀膜工件，使用不方便，而且现有的靶材固定方式一般都是通过螺栓固定，容易造成靶材的热量分布不均而影响镀膜精度。
[0004]
针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。


技术实现要素：

[0005]
针对相关技术中的问题，本实用新型提出一种用于磁控溅射真空机的靶台，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
[0006]
为此，本实用新型采用的具体技术方案如下：
[0007]
一种用于磁控溅射真空机的靶台，包括靶台本体，所述靶台本体的底端设置有若干支撑座，所述靶台本体顶端的两侧分别均设置有挡板，所述挡板内部的底端设置有转辊，所述转辊上设置有档帘，所述靶台本体顶端的中间位置设置有正极板，所述正极板的顶端设置有镀膜工件，所述靶台本体顶端的一侧设置有支撑架，所述支撑架的一侧设置有支撑框，所述支撑框与所述支撑架之间通过调节机构一相配合连接，所述支撑框的内部设置有靶材，所述靶材的顶端设置有负极板，所述靶材与所述支撑框之间通过若干l型夹具固定连接，所述l型夹具与所述支撑框之间通过调节机构二相配合连接，所述支撑框内部两侧的底端分别均设置有电磁极。
[0008]
进一步的，所述靶台本体的内部设置有工具放置室，所述工具放置室的正面设置有门体。
[0009]
进一步的，所述转辊的一端设置有把手，所述档帘的一端设置有配重杆。
[0010]
进一步的，所述调节机构一和所述调节机构二分别均由螺杆、锁紧旋钮和推拉手柄构成，所述锁紧旋钮套设于所述螺杆，所述推拉手柄位于所述螺杆的一端。
[0011]
进一步的，所述锁紧旋钮的一侧设置有旋转手轮。
[0012]
进一步的，所述l型夹具与所述靶材的连接面设置有缓冲垫片。
[0013]
本实用新型的有益效果为：通过设置由靶台本体、挡板、转辊、档帘、正极板、支撑架、支撑框、调节机构一、靶材、负极板、l型夹具、调节机构二和电磁极构成的用于磁控溅射真空机的靶台，从而能够对靶材的高度进行调节，从而适应于不同高度的工件，能够对靶材进行稳定夹持，夹持方便，同时使得靶材上的热量分布均匀，避免热量不均影响镀膜精度，另外能够阻隔碎屑，避免造成正负极短路。
附图说明
[0014]
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]
图1是根据本实用新型实施例的一种用于磁控溅射真空机的靶台的结构示意图。
[0016]
图中：
[0017]
1、靶台本体；2、支撑座；3、挡板；4、转辊；5、档帘；6、正极板；7、镀膜工件；8、支撑架；9、支撑框；10、调节机构一；11、靶材；12、负极板；13、l型夹具；14、调节机构二；15、电磁极；16、工具放置室；17、门体；18、把手；19、配重杆；20、螺杆；21、锁紧旋钮；22、推拉手柄；23、旋转手轮；24、缓冲垫片。
具体实施方式
[0018]
为进一步说明各实施例，本实用新型提供有附图，这些附图为本实用新型揭露内容的一部分，其主要用以说明实施例，并可配合说明书的相关描述来解释实施例的运作原理，配合参考这些内容，本领域普通技术人员应能理解其他可能的实施方式以及本实用新型的优点，图中的组件并未按比例绘制，而类似的组件符号通常用来表示类似的组件。
[0019]
根据本实用新型的实施例，提供了一种用于磁控溅射真空机的靶台。
[0020]
实施例一：
[0021]
如图1所示，根据本实用新型实施例的用于磁控溅射真空机的靶台，包括靶台本体1，所述靶台本体1的底端设置有若干支撑座2，所述靶台本体1顶端的两侧分别均设置有挡板3，所述挡板3内部的底端设置有转辊4，所述转辊4上设置有档帘5，所述靶台本体1顶端的中间位置设置有正极板6，所述正极板6的顶端设置有镀膜工件7，所述靶台本体1顶端的一侧设置有支撑架8，所述支撑架8的一侧设置有支撑框9，所述支撑框9与所述支撑架8之间通过调节机构一10相配合连接，所述支撑框9的内部设置有靶材11，所述靶材11的顶端设置有负极板12，所述靶材11与所述支撑框9之间通过若干l型夹具13固定连接，所述l型夹具13与所述支撑框9之间通过调节机构二14相配合连接，所述支撑框9内部两侧的底端分别均设置有电磁极15。
[0022]
借助于上述技术方案，通过设置由靶台本体1、挡板3、转辊4、档帘5、正极板6、支撑
架8、支撑框9、调节机构一10、靶材11、负极板12、l型夹具13、调节机构二14和电磁极15构成的用于磁控溅射真空机的靶台，从而能够对靶材的高度进行调节，从而适应于不同高度的工件，能够对靶材进行稳定夹持，夹持方便，同时使得靶材上的热量分布均匀，避免热量不均影响镀膜精度，另外能够阻隔碎屑，避免造成正负极短路。
[0023]
实施例二：
[0024]
如图1所示，所述靶台本体1的内部设置有工具放置室16，所述工具放置室16的正面设置有门体17，所述转辊4的一端设置有把手18，所述档帘5的一端设置有配重杆19，所述调节机构一10和所述调节机构二14分别均由螺杆20、锁紧旋钮21和推拉手柄22构成，所述锁紧旋钮21套设于所述螺杆20，所述推拉手柄22位于所述螺杆20的一端，所述锁紧旋钮21的一侧设置有旋转手轮23，所述l型夹具13与所述靶材11的连接面设置有缓冲垫片24。
[0025]
从图1中可以看出，所述靶台本体1的内部设置有工具放置室16，所述工具放置室16的正面设置有门体17，所述转辊4的一端设置有把手18，所述档帘5的一端设置有配重杆19，所述调节机构一10和所述调节机构二14分别均由螺杆20、锁紧旋钮21和推拉手柄22构成，所述锁紧旋钮21套设于所述螺杆20，所述推拉手柄22位于所述螺杆20的一端，所述锁紧旋钮21的一侧设置有旋转手轮23，所述l型夹具13与所述靶材11的连接面设置有缓冲垫片24，对于工具放置室16、门体17、把手18、配重杆19和缓冲垫片24的设计，是比较常规的故此不做详细的说明。
[0026]
为了方便理解本实用新型的上述技术方案，以下就本实用新型在实际过程中的工作原理或者操作方式进行详细说明。
[0027]
在实际应用时，将镀膜工件7放置在正极板6的顶端，根据镀膜工件7的高度通过调节机构一10对支撑框9的高度进行调节，从而对靶材11、负极板12和电磁极15的高度进行同步调节，使其适应于镀膜工件7的高度，通过l型夹具13对靶材11进行稳定夹持，使得靶材上的热量分布均匀，避免热量不均影响镀膜精度，通过转辊4和档帘5能够阻隔碎屑，避免造成正负极短路。
[0028]
综上所述，借助于本实用新型的上述技术方案，通过设置由靶台本体1、挡板3、转辊4、档帘5、正极板6、支撑架8、支撑框9、调节机构一10、靶材11、负极板12、l型夹具13、调节机构二14和电磁极15构成的用于磁控溅射真空机的靶台，从而能够对靶材的高度进行调节，从而适应于不同高度的工件，能够对靶材进行稳定夹持，夹持方便，同时使得靶材上的热量分布均匀，避免热量不均影响镀膜精度，另外能够阻隔碎屑，避免造成正负极短路。
[0029]
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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