多腔体超低温磁控溅射镀膜机的制作方法

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，尤其涉及多腔体超低温磁控溅射镀膜机。

背景技术：

磁控溅射镀膜机包括依次连通的放卷室、前处理室、工艺室和收卷室，工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材。现有的磁控溅射镀膜机中由于冷却辊的冷却效果不甚理想，因此，溅射腔室一般只能设置两个，也就是说，现有的磁控溅射镀膜机单次只能镀两种靶材，当需要镀多种靶材时，薄膜需要重复多次经过磁控溅射镀膜机，严重影响生产效率。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种生产效率高的多腔体超低温磁控溅射镀膜机。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。

进一步的，所述冷却辊内设有第一冷却道，所述第一冷却道内设有氟利昂。

进一步的，所述冷却辊的材质为不锈钢。

进一步的，所述工艺室的数量为两个。

进一步的，还包括缓存室，所述缓存室位于两个所述工艺室之间且分别与两个所述工艺室连通。

进一步的，相邻的两个所述溅射腔室之间通过挡板隔离，所述挡板内设有第二冷却道，所述第二冷却道内设有冷却介质。

进一步的，所述工艺室内还设有换靶机构，所述换靶机构包括导向组件、支撑组件和驱动组件，导向组件包括固定座，所述固定座上设有四组导向槽，四组所述导向槽分别对应于四个所述溅射腔室设置，每组所述导向槽的长轴的延长线均与所述冷却辊的中心轴相交；所述支撑组件包括固定体、两个第一伸缩杆和两个第二伸缩杆，所述第一伸缩杆的一端可伸缩设于所述固定体内，所述第二伸缩杆的一端可伸缩设于所述第一伸缩杆内，所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别设有与所述导向槽相配合的导向块，所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别连接有安装座，所述阴极靶材安装在所述安装座上；所述驱动组件包括直线驱动件，所述直线驱动件设于所述固定座上并连接所述固定体。

进一步的，所述溅射腔室内设有一组两面开口的阴极小室，所述阴极靶材伸入所述阴极小室内。

进一步的，所述阴极小室内还设有抽真空机构，所述抽真空机构与外部的抽真空机相连。

进一步的，所述导向块上设有与所述导向槽的一侧壁抵触的滚动轴承。

本实用新型的有益效果在于：本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设置更多数量的溅射腔室及阴极靶材，从而提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例一的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图；

图2为本实用新型实施例二的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图(阴极靶材位于阴极小室内时)；

图3为图2中细节a的放大图；

图4为本实用新型实施例二的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图(阴极靶材退出阴极小室内时)。

标号说明：

1、放卷室；

2、工艺室；

3、缓存室；

4、收卷室；

5、冷却辊；

6、溅射腔室；61、阴极小室；

7、阴极靶材；

8、挡板；

9、换靶机构；91、固定座；92、导向槽；93、固定体；94、第一伸缩杆；95、第二伸缩杆；96、安装座；97、直线驱动件；

10、前处理室。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

请参照图1至图4，多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室2，所述工艺室2内设有冷却辊5和溅射腔室6，溅射腔室6内设有阴极靶材7，所述溅射腔室6的数量为四个，所述冷却辊5的直径大于或等于65cm，所述冷却辊5的温度低于或等于-15℃。

从上述描述可知，本实用新型的有益效果在于：本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊5直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室2内能够设置更多数量的溅射腔室6及阴极靶材7，从而提高生产效率。

进一步的，所述冷却辊5内设有第一冷却道，所述第一冷却道内设有氟利昂。

由上述描述可知，氟利昂具有强大的冷却能力，能够提高冷却辊5的散热性能，从而使得本多腔体超低温磁控溅射镀膜机能够长时间稳定地工作。

进一步的，所述冷却辊5的材质为不锈钢。

由上述描述可知，不锈钢材质的冷却辊5更耐低温，利于延长多腔体超低温磁控溅射镀膜机的使用寿命。

进一步的，所述工艺室2的数量为两个。

由上述描述可知，本多腔体超低温磁控溅射镀膜机能够实现对来料薄膜的多次溅镀，实现对镀层进行加厚处理。

进一步的，还包括缓存室3，所述缓存室3位于两个所述工艺室2之间且分别与两个所述工艺室2连通。

由上述描述可知，缓存室3用于缓存来料薄膜，利于保证多腔体超低温磁控溅射镀膜机长时间稳定地运行。

进一步的，相邻的两个所述溅射腔室6之间通过挡板8隔离，所述挡板8内设有第二冷却道，所述第二冷却道内设有冷却介质。

由上述描述可知，挡板8的设置可以防止相邻溅射腔室6相互影响，利于保证多腔体超低温磁控溅射镀膜机工作的稳定性，同时，第二冷却道的存在更能够提高多腔体超低温磁控溅射镀膜机的散热能力。

进一步的，所述工艺室2内还设有换靶机构9，所述换靶机构9包括导向组件、支撑组件和驱动组件，导向组件包括固定座91，所述固定座91上设有四组导向槽92，四组所述导向槽92分别对应于四个所述溅射腔室6设置，每组所述导向槽92的长轴的延长线均与所述冷却辊5的中心轴相交；所述支撑组件包括固定体93、两个第一伸缩杆94和两个第二伸缩杆95，所述第一伸缩杆94的一端可伸缩设于所述固定体93内，所述第二伸缩杆95的一端可伸缩设于所述第一伸缩杆94内，所述第一伸缩杆94和第二伸缩杆95上分别设有与所述导向槽92相配合的导向块，所述第一伸缩杆94和第二伸缩杆95上分别连接有安装座96，所述阴极靶材7安装在所述安装座96上；所述驱动组件包括直线驱动件97，所述直线驱动件97设于所述固定座91上并连接所述固定体93。

由上述描述可知，通过选择合适大小的阴极靶材7、调整各溅射腔室6的溅射速度可令四个溅射腔室6内的阴极靶材7同时消耗完毕，换靶机构9能够同时让四个溅射腔室6中承载阴极靶材7的部件退出溅射腔室6以便用户更换阴极靶材7，使得用户不再需要频繁地、逐个地操作四个溅射腔室6中承载阴极靶材7的部件退出溅射腔室6以更换阴极靶材7，提高了换靶效率，从而进一步提高了生产效率；无需人工一直照看，解放了人工，利于节约生产成本。

进一步的，所述溅射腔室6内设有一组两面开口的阴极小室61，所述阴极靶材7伸入所述阴极小室61内。

进一步的，所述阴极小室61内还设有抽真空机构，所述抽真空机构与外部的抽真空机相连。

进一步的，所述导向块上设有与所述导向槽92的一侧壁抵触的滚动轴承。

由上述描述可知，滚动轴承的设置使得支撑组件能够更顺畅地动作，利于提高换靶机构9工作的稳定性。

实施例一

请参照图1，本实用新型的实施例一为：多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室2，所述工艺室2内设有冷却辊5和溅射腔室6，溅射腔室6内设有阴极靶材7，所述溅射腔室6的数量为四个，所述冷却辊5的直径大于或等于65cm，如67cm；所述冷却辊5的温度低于或等于-15℃，所述冷却辊5内设有第一冷却道(图未示)，所述第一冷却道内设有氟利昂，所述冷却辊5的材质优选不锈钢。本实施例中，多腔体超低温磁控溅射镀膜机还包括缓存室3、放卷室1、前处理室10和收卷室4，所述工艺室2的数量为两个，所述缓存室3位于两个所述工艺室2之间且分别与两个所述工艺室2连通，所述前处理室10分别与所述放卷室1及一所述工艺室2相连通，所述收卷室4与另一个所述工艺室2相连通；放卷室1内设有放卷机构，缓存室3内设有缓存机构，收卷室4内设有收卷机构，前处理室10、放卷室1、缓存室3及收卷室4均为现有技术，此处不再赘述。

容易理解的，相邻的两个所述溅射腔室6之间通过挡板8隔离，所述挡板8内设有第二冷却道(图未示)，所述第二冷却道内设有冷却介质，所述冷却介质呈液体状。

实施例二

请参照图2至图4，多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室2，所述工艺室2内设有冷却辊5和溅射腔室6，溅射腔室6内设有阴极靶材7，所述溅射腔室6的数量为四个，所述冷却辊5的直径大于或等于65cm，如67cm；所述冷却辊5的温度低于或等于-15℃，所述冷却辊5内设有第一冷却道(图未示)，所述第一冷却道内设有氟利昂，所述冷却辊5的材质优选不锈钢。本实施例中，多腔体超低温磁控溅射镀膜机还包括缓存室3、放卷室1、前处理室10和收卷室4，所述工艺室2的数量为两个，所述缓存室3位于两个所述工艺室2之间且分别与两个所述工艺室2连通，所述前处理室10分别与所述放卷室1及一所述工艺室2相连通，所述收卷室4与另一个所述工艺室2相连通；放卷室1内设有放卷机构，缓存室3内设有缓存机构，收卷室4内设有收卷机构，前处理室10、放卷室1、缓存室3及收卷室4均为现有技术，此处不再赘述。

容易理解的，相邻的两个所述溅射腔室6之间通过挡板8隔离，所述挡板8内设有第二冷却道(图未示)，所述第二冷却道内设有冷却介质，所述冷却介质呈液体状。

请结合图2至图4，所述工艺室2内还设有换靶机构9，所述换靶机构9包括导向组件、支撑组件和驱动组件，导向组件包括固定座91，所述固定座91上设有四组导向槽92，四组所述导向槽92分别对应于四个所述溅射腔室6设置，每组所述导向槽92的长轴的延长线均与所述冷却辊5的中心轴相交，也就是说，所述导向槽92沿所述冷却辊5的径向设置；所述支撑组件包括固定体93、两个第一伸缩杆94和两个第二伸缩杆95，所述第一伸缩杆94的一端可伸缩设于所述固定体93内，所述第二伸缩杆95的一端可伸缩设于所述第一伸缩杆94内，可选的，所述固定体93呈v字型，所述第一伸缩杆94和第二伸缩杆95上分别设有与所述导向槽92相配合的导向块(图未示)，即四组所述导向槽92中，有两组所述导向槽92与两个所述第一伸缩杆94上的导向块一一对应配合，另外两组所述导向槽92与两个所述第二伸缩杆95上的导向块一一对应配合；所述第一伸缩杆94和第二伸缩杆95上分别连接有安装座96，所述阴极靶材7安装在所述安装座96上；所述驱动组件包括直线驱动件97，所述直线驱动件97设于所述固定座91上且其输出端连接所述固定体93，可选的，所述直线驱动件97沿所述冷却辊5的径向驱动所述固定体93，所述直线驱动件97包括但不限于气缸、液压缸、直线推杆等。容易理解的，本实施例中，换靶机构9为一整体式结构，如此，可方便运输以及后期维护。

为防止支撑组件出现卡死，提高换靶机构9的工作稳定性，可选的，所述导向块呈柱状，所述导向块上设有与所述导向槽92的一侧壁抵触的滚动轴承(图未示)，即滚动轴承在导向槽92内动作。

具体的，所述溅射腔室6内设有一组两面开口的阴极小室61，所述阴极靶材7伸入所述阴极小室61内，所述阴极小室61内还设有抽真空机构，所述抽真空机构与外部的抽真空机相连。阴极小室61的设置为现有技术，此处不再赘述。

综上所述，本实用新型提供的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，工作稳定，生产效率高、生产成本低、维护方便。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换，或直接或间接运用在相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。

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