本发明涉及显示器件领域，具体涉及一种高阻膜的制备方法与应用。背景技术：随着电子、通信技术的发展，各种电子显示设备层出不穷，液晶显示器(liquidcrystaldisplay，

• 靶材
• 磁控溅射
• 液晶材料

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本实用新型涉及镀膜玻璃领域，特别涉及一种中性灰低辐射镀膜玻璃。背景技术：低辐射镀膜玻璃，也称low-e玻璃，按照膜层结构和性能优异可分为单银low-e、双银low-e以及三银l

• 镀膜玻璃
• 磁控溅射
• 保护层厚度
• 靶材

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本实用新型涉及镀膜玻璃领域，特别涉及一种翡翠绿的低辐射镀膜玻璃。背景技术：：低辐射镀膜玻璃(low-e玻璃)是在玻璃基体上镀膜形成的复合玻璃。为了适应具体的场景，low-e玻璃

• 镀膜玻璃
• 透过率
• 磁控溅射
• 靶材

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本发明属于表面改性技术领域，具体涉及到非平衡磁控溅射镀膜技术、激光助渗与离子渗氮技术的复合强化方式。背景技术：铬为钢中重要的合金元素之一，特别是对于钢的耐蚀性起到决定性作用。在

• 磁控溅射
• 硬度测试
• 低温等离子体
• 不锈钢

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本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种电致变色膜系的制备方法及电致变色器件的制备方法。背景技术：电致变色现象是指在外加电场作用下，材料的光学性能发生连续可逆变化的现象，直观地表

• 电致变色
• 磁控溅射
• 透明导电薄膜

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本发明属于离子束镀膜技术领域，主要涉及一种超薄聚合物的表面处理方法。背景技术：随着科技的发展，聚合物在科技领域中应用的越来越广泛，其重要性也日益凸显。聚合物本身具有非常独特的性

• 离子源
• 磁控溅射
• 电弧
• 微米
• 等离子体

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本发明属于真空镀膜领域。特别涉及一种沉积dlc薄膜的磁控溅射镀膜技术和镀膜机。背景技术：目前在真空镀膜领域获得的众多薄膜产品中，具有很多优异性能的类金刚石薄膜(英文名：diam

• 靶材
• 磁控溅射
• 汽车镀膜
• 等离子体

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本发明涉及半导体制作工艺技术领域，特别是涉及一种在晶片上沉积金属层的方法。背景技术：磁控溅射是将金属沉积到半导体芯片上以在集成电路中形成电连接和其他结构的主要方法。靶材由待沉积

• 靶材
• pvd
• 磁控溅射
• 功率
• 等离子体

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[0001]公开的实施方式涉及氧化物烧结体和溅射靶。背景技术：[0002]以往，已知有用于形成igzo(indiumgalliumzincoxide；氧化铟镓锌)等氧化物半导体

• 尖晶石
• 抗弯强度
• 磁控溅射
• 激光烧结
• 当量浓度

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本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是指一种靶材的磁性弯管机构。背景技术：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即

• 弯管
• 靶材
• 磁控溅射
• 分子和原子

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