相关申请的交叉引用本申请根据35u.s.c.§119，要求2018年4月3日提交的第62/652,271号美国临时申请的优先权权益，其内容通过引用全文纳入本文。背景1.技术领域

• 电子封装
• 电子
• 蚀刻

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本实用新型涉及一种利用电路板蚀刻废液制造硫酸铜装置。背景技术：电路板蚀刻工序中，使用到蚀刻液，蚀刻完成后蚀刻液中含有铜，若丢弃，则显可惜。蚀刻液丢弃前需采用电解、氧化还原或者中

• 硫酸铜
• 反应釜
• 中和反应
• 压滤机
• 蚀刻

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强化层压玻璃制品边缘的方法及由此形成的层压玻璃制品[0001]背景[0002]本申请是国际申请号为pct/us2016/016091，国际申请日为2016年2月2日，进入中国国

• 工艺玻璃
• 蚀刻

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本实用新型主要涉及酸性蚀刻铜回收的技术领域，具体为一种酸性蚀刻铜回收系统回收氯气的装置。背景技术：酸性蚀刻铜回收系统设备体积较大，占地面积在100-500平米，通常客户现有的生

• 电解槽
• 氯气
• 蚀刻

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本实用新型涉及印制板蚀刻技术领域：，特别涉及一种印制板蚀刻装置。背景技术：：印制板蚀刻主要是采用酸性工作液，酸性工作液的原料组成为氯酸钠、盐酸和氯化铜，cu2+在强氧化条件下，

• 电解槽
• 阳极板
• 氯气
• 蚀刻

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[0001]本发明涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种玻璃蚀刻方法。背景技术：[0002]玻璃在常温下是一种透明的固体，在熔融时形成连续网络结构，冷却过程中粘度逐渐增大并硬化而不结晶

• 质量浓度
• 碳原子
• 原子质量
• 蚀刻

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一种碱性玻璃ag蚀刻工艺及装置技术领域[0001]本发明涉及玻璃ag蚀刻领域，具体的是一种碱性玻璃ag蚀刻工艺及装置。背景技术：[0002]玻璃ag蚀刻也称为玻璃蒙砂，防眩玻璃

• 工艺玻璃
• ag玻璃
• 玻璃清洗
• 蚀刻

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[0001]本发明涉及精细结构体的制造方法以及精细结构体的制造装置，特别是，涉及蚀刻速率优异，并能够提高生产率的精细结构体的制造方法等。背景技术：[0002]以往，在蚀刻装置中

• 蚀刻加工
• 蚀刻

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[0001]本发明涉及晶圆蚀刻领域，具体的是一种晶圆蚀刻深孔残留物清理器。背景技术：[0002]晶圆是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶解后掺

• 晶圆
• 磁铁
• 蚀刻

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[0001]本发明涉及一种铝合金膜、其制造方法以及具有铝合金膜的薄膜晶体管。背景技术：[0002]在液晶显示元件、有机el显示元件等薄膜晶体管(tft)中，例如，使用al配线作

• 原子
• 靶材
• 弯曲试验
• al
• 蚀刻

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