中性灰低辐射镀膜玻璃的制作方法

2021-01-30 21:01:46|

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本实用新型涉及镀膜玻璃领域，特别涉及一种中性灰低辐射镀膜玻璃。

背景技术：

低辐射镀膜玻璃，也称low-e玻璃，按照膜层结构和性能优异可分为单银low-e、双银low-e以及三银low-e。其中镀膜层采用真空磁控溅射的方法，在玻璃表面上镀上含有一层或两层甚至多层膜系的金属薄膜或金属氧化物薄膜的低辐射涂层，使太阳光中的可见光能够透过，但把太阳光中的红外辐射隔绝在外。

随着市场逐渐成熟，幕墙玻璃是建筑的外衣，从城市整体面貌和建筑群的协调性考虑，极具个性的玻璃颜色越来越少，例如金色、绿色、银色等。客户对于幕墙的外观颜色的需求也逐渐统一，市场对于灰色调以及中性灰更为偏爱。但市场上多数的low-e产品出现室外观察颜色不够清透，不同角度观察时，颜色不纯正，存在色差，影响产品视效。

技术实现要素：

本实用新型的主要目的是提出一种中性灰低辐射镀膜玻璃，旨在改善现有的灰色低辐射镀膜玻璃存在色差的问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的中性灰低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材和镀设于所述玻璃基材上的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基材向外依次设置的：

第一介质层，所述第一介质层为sinx层；

第一保护层，所述第一保护层为nicr层；

第二介质层，所述第二介质层为sinx层、znsnox层或znalox层中的至少一种；

第一功能层，所述第一功能层为ag层；

第三保护层，所述第三保护层为nicr层；

第三介质层，所述第三介质层为sinx层、znsnox层或znalox层中的至少一种；

第二功能层，所述第二功能层为ag层；

第五保护层，所述第五保护层为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种；以及

第四介质层，所述第四介质层为sinx层。

可选地，所述第一介质层的厚度为10～18nm，和/或，所述第一保护层的厚度为1～5nm，和/或，所述第二介质层的厚度为33～40nm，和/或，所述第一功能层的厚度为5～15nm，和/或，所述第三保护层的厚度为0.5～2nm，和/或，所述第三介质层的厚度为60～80nm，和/或，所述第二功能层的厚度为10～18nm，和/或，所述第五保护层的厚度为0.5～2nm，和/或，所述第四介质层的厚度为28～42nm。

可选地，所述第一介质层的厚度为10.3nm，和/或，所述第一保护层的厚度为1.38nm，和/或，所述第二介质层的厚度为35.7nm，和/或，所述第一功能层的厚度为12.71nm，和/或，所述第三保护层的厚度为1.98nm，和/或，所述第三介质层的厚度为78.3nm，和/或，所述第二功能层的厚度为15.98nm，和/或，所述第五保护层的厚度为1.31nm，和/或，所述第四介质层的厚度为28.3nm。

可选地，所述第一介质层17.7nm，和/或，所述第一保护层的厚度为2.62nm，和/或，所述第二介质层的厚度为33.4nm，和/或，所述第一功能层的厚度为7.67nm，和/或，所述第三保护层的厚度为1.38nm，和/或，所述第三介质层的厚度为71.5nm，和/或，所述第二功能层的厚度为13.69nm，和/或，所述第五保护层的厚度为0.69nm，和/或，所述第四介质层的厚度为33.1nm。

可选地，所述镀膜层还包括：

第二保护层，所述第二保护层为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种，所述第二保护层设于所述第二介质层与所述第一功能层之间。

可选地，所述第二保护层的厚度不大于2nm。

可选地，所述镀膜层还包括：

第四保护层，所述第四保护层为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种，所述第四保护层设于所述第三介质层与所述第二功能层之间。

可选地，所述第四保护层的厚度不大于2nm。

可选地，所述中性灰低辐射镀膜玻璃的透过率t为40～50％，透过色a*为0～-1，b*为-1.0～-4.0。

可选地，所述中性灰低辐射镀膜玻璃的玻面反射色l*为25～29，a*为0.33～-0.71，b*为-2.33～-4.46。

本实用新型技术方案通过采用镀膜层设计，使形成的低辐射镀膜玻璃各角度均呈中性灰色，不同角度的色差小，整体颜色均匀，视觉效果统一。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型低辐射镀膜玻璃一实施例的结构示意图；

图2为本实用新型中性灰低辐射镀膜玻璃制备方法一实施例的流程示意图；

图3为本实用新型第二保护层制备方法一实施例的流程示意图；

图4为本实用新型第四保护层制备方法一实施例的流程示意图。

附图标号说明：

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

请参阅图1，本实用新型提出一种中性灰低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基材100和镀设于所述玻璃基材100上的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基材100向外依次设置的：第一介质层101、第一保护层102、第二介质层103、第一功能层20、第三保护层301、第三介质层302、第二功能层40、第五保护层501以及第四介质层502。上述各层均可以通过磁控溅射工艺制成。

其中，所述第一介质层101为sinx层，用于防止所述玻璃基材100内的钠元素扩散迁移到所述镀膜层内而破坏所述第一功能层20的结构。

所述第一介质层101采用sinx材质，能够提高所述镀膜层的强度，使其具有更好的稳定性。当在所述第一介质层101上形成所述第一保护层102之后，能够使所述第一保护层102的稳定性更高，进而在镀膜玻璃成型之后，具有更好的稳定性。

所述第一保护层102为nicr层，用于吸收穿透玻璃基材100的大部分太阳光，以降低室外反射率。所述第一保护层102与所述第一介质层101相配合，能够有效改善镀膜层的反射色和透过色，使镀膜玻璃产品呈稳定的颜色状态。在所述第一介质层101与所述以保护层相配合作用下，镀膜产品的整体稳定性更加，在镀膜层的多个膜层成型之后，所呈现的颜色也能够呈均匀的状态，以使镀膜玻璃产品的视觉效果相对更加统一，不容易出现色差，使镀膜玻璃产品各角度均能够呈预设的色彩。

所述第二介质层103为sinx层、znsnox层或znalox层中的至少一种，所述第二介质层103用于保护所述第一功能层20，防止所述第一功能层20受损。所述第二介质层103可以为sinx层、znsnox层或znalox层中的一种，也可以为多种组合构成的复合层状结构。

所述第一功能层20为ag层，所述第一功能层20用于降低镀膜玻璃的辐射率，反射来自太阳的红外辐射，将太阳光过滤成冷光源，为镀膜产品带来良好的节能性能。

在所述第一介质层101和第一保护层102的作用下，所述第一功能层20和第二介质层103的状态能够更加稳定，进而可以按照预设要求呈现预设颜色，不容易出现偏色的问题，使得镀膜玻璃产品不同角度呈现的色彩能够保持统一。

所述第三保护层301为nicr层，所述第三保护层301起到保护所述第一功能层20的效果，能够防止所述第一功能层20受到外界影响，同时可以用于改善产品的透过性能。

所述第三介质层302为sinx层、znsnox层或znalox层中的至少一种，所述第三介质层302用于保护所述第二功能层40，防止所述第二功能层40受损。所述第三介质层302可以为sinx层、znsnox层或znalox层中的一种，也可以为多种组合构成的复合层状结构，所述第三介质层302也可以与所述第二介质层103的材质相同。

所述第二功能层40为ag层，所述第二功能层40用于降低镀膜玻璃的辐射率，反射来自太阳的红外辐射，将太阳光过滤成冷光源，为镀膜产品带来良好的节能性能。所述第一功能层20与所述第二功能层40相配合，能够有效降低镀膜玻璃的辐射率，进而使产品具有更好的节能效果。

所述第五保护层501为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种，所述第五保护层501用于保护所述第二功能层40，以防止所述第二功能层40受损，同时可以与所述第二功能层40相配合，以改善镀膜产品的透过性能。所述第五保护层501可以为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的一种，也可以为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层构成的复合层状结构。

所述第四介质层502为sinx层，所述第四介质层502作为镀膜玻璃的最外层，利用sinx具有较高硬度的效果，能够提升镀膜玻璃的机械性能，以使镀膜玻璃不容易出现划伤，进而可以保持良好的透过性能和颜色均匀性。

通过上述第一功能层20和第二功能层40组成的双银层，能够有效降低镀膜玻璃产品的辐射率，反射来自太阳的红外辐射。通过上述膜层与双银层相互配合，能够时镀膜玻璃产品呈中性灰色状态。

由于本方案中，在所述第二介质层103与所述玻璃基面之间设置有所述第一介质层101的sinx层和所述第一保护层102的nicr层，能够进一步避免所述玻璃基面对所述功能层的影响，使得镀膜层具有更高的稳定性，在完成镀膜工艺之后，整体结构的膜层均匀性更高，镀膜层从各个角度均能够呈现相对更均匀的中性灰色状态，使镀膜玻璃产品从不同的角度均能够呈现同一颜色，颜色一致性更高，不容易出现不同角度的色差问题。

所述镀膜层的膜层厚度可以根据需要选取，通过采用上述膜层设置，能够使镀膜玻璃产品保持预设的颜色状态。通过调整不同膜层的厚度，可以一定程度上调整膜层的透过率和反射率。本方案形成的镀膜玻璃产品多角度颜色偏差小，不同位置检测，正面色差和侧面色差δa<2.5，整体颜色更均匀。本方案中采用lab色彩空间中的l*，a*，b*描述，所制得的6mm低辐射镀膜玻璃单片，不同位置处检测，透过率t为40～50％，透过色a*为0～-1，b*为-1.0～-4.0；不同位置处检测，玻面反射色l*为25～29，a*为0.33～-0.71，b*为-2.33～-4.46。从不同角度观察，透过色和反射色均呈现为中性灰色调，从不同角度观察的色调相一致，产品各个角度的色调均能够呈预设的中性灰色。

可选地，所述第一介质层101的厚度为10～18nm，可以选择11.5nm，13nm，14.2nm，14.9nm，15.6nm，16.1nm，16.7nm，17.2nm，17.5nm，18nm，可以根据需要选取所述第一介质层101的厚度，以使镀膜玻璃产品的反射率保持在预设范围。进一步地，可以选择10.3nm，或者17.7nm。

可选地，所述第一保护层102的厚度为1～5nm，可以选择1nm，1.21nm，1.34nm，1.41nm，1.56nm，1.62nm，1.71nm，1.78nm，1.89nm，2.86nm，3.45nm，4.35nm，5nm。进一步地，可以选取1.38nm，或者2.62nm。

可选地，所述第二介质层103的厚度为33～40nm。可以选取33nm，34.5nm，37nm，38.5nm，40nm。进一步地，可以选择35.7nm，或者33.4nm。

可选地，所述第一功能层20的厚度为5～15nm。可以选择5nm，6.2nm，7.2nm，8nm，9.3nm，10.5nm，11.4nm，12.1nm，13nm，13.9nm，14.3nm，15nm。进一步地，可以选取12.7nm，或者7.67nm。

可选地，所述第三保护层301的厚度为0.5～2nm。可以选取0.5nm，1.1nm，1.6nm，2nm。进一步可选地，可以选取1.98nm，或者1.38nm。

可选地，所述第三介质层302的厚度为60～80nm。可以选取60nm，66nm，71nm，75nm，80nm。进一步地，可以选取78.3nm，或者71.5nm。

可选地，所述第二功能层40的厚度为10～18nm。可以选取10nm，12.1nm，13.9nm，14.6nm，15.8nm，16.7nm，17.2nm，18nm。进一步地，可以选取15.98nm，或者13.69nm。

可选地，所述第五保护层501的厚度为0.5～2nm。可以选取0.5nm，1.9nm，1.4nm，2nm。进一步地，也可以选取1.31nm，或者0.69nm。

可选地，所述第四介质层502的厚度为28～42nm。可以选取28nm，34nm，39nm，42nm。进一步地，也可以选取28.3nm，或者33.1nm。

为了提升镀膜层的耐久性，可选地，所述镀膜层还包括：第二保护层104，所述第二保护层104为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种，所述第二保护层104设于所述第二介质层103与所述第一功能层20之间。所述第二保护层104用于提升所述第二介质层103和所述第一功能层20的粘结强度，以使镀膜层具有更高的稳定性，并且具有更好的耐久性。所述第二保护层104还可以用于保护所述第一功能层20，防止所述第一功能层20受损，进而使镀膜玻璃产品保持预设的辐射率范围。所述第二保护层104可以为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的一种，也可以为复合膜层结构。

可选地，所述第二保护层104的厚度不大于2nm。可以选取0.1nm，0.5nm，1.1nm，2nm。通过选取不同的厚度，可以改善镀膜玻璃产品的透过率。

可选地，所述镀膜层还包括：第四保护层303，所述第四保护层303为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种，所述第四保护层303设于所述第三介质层302与所述第二功能层40之间。所述第一保护层102可以为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的一种，也可以为复合膜层结构。

所述第四保护层303用于对所述第二功能层40起到保护作用，防止所述第二功能层40受损，进而使镀膜产品保持预设的辐射率范围，提升镀膜玻璃产品的耐久性。可选地，所述第四保护层303的厚度不大于2nm。可以选取0.1nm，0.6nm，0.77nm，1.11nm，1.61nm，2nm。通过选取不同的厚度，可以改善镀膜玻璃产品的透过率。

在制备所述镀膜玻璃产品时，镀膜玻璃产品中，可以同时具有所述第二保护层104和所述第四保护层303，也可以单独设置所述第二保护层104或者第四保护层303。

由于所述镀膜玻璃产品具有第一介质层101、第一保护层102以及第二介质层103，能够对所述第一功能层20起到保护效果，使所述第一功能层20、所述第二保护层104、第三保护层301形成的膜层结构保持在预设状态和预设颜色，不同角度的色差相对更小；所述第二保护层104能够进一步起到提升镀膜玻璃产品的耐久性的效果。由于所述镀膜层具有第三介质层302和第三保护层301，能够起到保护所述第一功能层20和第二功能层40的效果，所述第四保护层303，能够用于提升镀膜产品的耐久性，并且所述第二保护层104和所述第四保护层303的加入，能够改变镀膜玻璃产品的透射率，以适应于不同场景。

本实用新型还提出一种中性灰低辐射镀膜玻璃的制备方法。

请参阅图2，所述中性灰低辐射镀膜玻璃的制备方法包括以下步骤：

s10：提供一玻璃基材100。

所述玻璃基材100可以选用白玻璃，也可以根据需要选取。

s20：用靶材对玻璃基材100表面进行真空磁控溅射形成第一介质层101，所述第一介质层101为sinx层。

磁控溅射阴极位所用靶材为硅铝重量比为90:10的硅铝合金靶。所述硅铝合金靶为旋转靶；溅射功率为0～70kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

s21：用靶材对所述第一介质层101背向所述玻璃基材100一侧表面真空磁控溅射形成第一保护层102，所述第一保护层102为nicr层。

磁控溅射阴极位所用靶材为镍铬重量比为80:20的镍铬合金靶。所述镍铬合金靶为平面靶，溅射功率为0～20kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2～5*10-3mbar，或者，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

s22：用靶材对所述第一保护层102背向所述第一介质层101的一侧表面真空磁控溅射形成第二介质层103，所述第二介质层103为sinx层、znsnox层或znalox层中的至少一种。

磁控溅射阴极位所用靶材为硅铝重量比为90:10的硅铝合金靶，或者锌锡重量比为50:50的锌锡合金靶，或者锌铝重量比为98:2的锌铝合金靶。

所述硅铝合金靶为旋转靶，溅射功率为0～70kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

所述锌锡合金靶为旋转靶，溅射功率为0～60kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是0.78：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

所述锌铝合金靶为旋转靶，溅射功率为0～60kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氧比例是0.78：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

s23：用靶材对所述第二介质层103背向所述第一保护层102的一侧表面真空磁控溅射形成第一功能层20，所述第一功能层20为ag层。

磁控溅射阴极位所用靶材为银纯度为99.99％的银靶。所述银靶为平面靶。

s24：用靶材对所述第一功能层20背向所述第二介质层103的一侧表面真空磁控溅射形成第三保护层301，所述第三保护层301为nicr层。

磁控溅射阴极位所用靶材为镍铬重量比为80:20的镍铬合金靶。所述镍铬合金靶为平面靶，溅射功率为0～20kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2～5*10-3mbar，或者溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

s25：用靶材对所述第三保护层301背向所述第一功能层20的一侧表面真空磁控溅射形成第三介质层302，所述第三介质层302为sinx层、znsnox层或znalox层中的至少一种。

磁控溅射阴极位所用靶材为硅铝重量比为90:10的硅铝合金靶，或者锌锡重量比为50:50的锌锡合金靶，或者锌铝重量比为98:2的锌铝合金靶。

所述硅铝合金靶为旋转靶，溅射功率为0～70kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

所述锌锡合金靶为旋转靶，溅射功率为0～60kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是0.78：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

所述锌铝合金靶为旋转靶，溅射功率为0～60kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氧比例是0.78：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

s26：用靶材对所述第三介质层302背向所述第三保护层301的一侧表面真空磁控溅射形成第二功能层40，所述第二功能层40为ag层。

磁控溅射阴极位所用靶材为银纯度为99.99％的银靶。所述银靶为平面靶。

s27：用靶材对所述第二功能层40背向所述第三介质层302的一侧表面真空磁控溅射形成第五保护层501，所述第五保护层501为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种。

磁控溅射阴极位所用靶材为镍铬重量比为80:20的镍铬合金靶，或者纯度为99.95％的铬靶。

所述镍铬合金靶为平面靶，溅射功率为0～20kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2～5*10-3mbar，或者溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

所述铬靶为平面靶，溅射功率为0～20kw，溅射工艺气体是高纯氩，溅射气压为2～5*10-3mbar，或者溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

s28：用靶材对所述第五保护层501背向所述第二功能层40的一侧表面真空磁控溅射形成第四介质层502，所述第四介质层502为sinx层。

磁控溅射阴极位所用靶材为硅铝重量比为90:10的硅铝合金靶。所述硅铝合金靶为旋转靶，溅射功率为0～70kw，溅射工艺气体高纯氩和高纯氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。

请结合参阅图1，通过上述工艺制得的镀膜玻璃产品，正面侧面色差δa<2.5，整体颜色均匀，从各角度观察，颜色均呈现中性灰色调，透过率t为40～50％，透过色a*为0～-1，b*为-1.0～-4.0；玻面反射色l*为25～29，a*为0.33～-0.71，b*为-2.33～-4.46。各角度不发生偏色，室内外观察颜色清透纯正，颜色统一。

请参阅图3，可选地，所述步骤s22之后，所述中性灰低辐射镀膜玻璃的制备方法还包括：

s221：用靶材对所述第二介质层103背向所述第一保护层102的一侧真空磁控溅射形成第二保护层104，所述第二保护层104为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种，所述第一功能层20设于所述第二保护层104背向所述第二介质层103一侧。

其中，磁控溅射阴极位所用靶材为镍铬重量比为80:20的镍铬合金靶，或者纯度为99.95％的铬靶。

请参阅图4，可选地，所述步骤s25之后，所述中性灰低辐射镀膜玻璃的制备方法还包括：

s251：用靶材对所述第三介质层302背向所述第三保护层301的一侧真空磁控溅射形成第四保护层303，所述第四保护层303为nicr层、cr层、nicrox层或nicrnx层中的至少一种，所述第二功能层40设于所述第四保护层303背向所述第三介质层302一侧。

其中，磁控溅射阴极位所用靶材为镍铬重量比为80:20的镍铬合金靶，或者纯度为99.95％的铬靶。

通过设置所述第二保护层104和/或第四保护层303，能够对ag层起到保护作用于，进一步提升镀膜玻璃产品的耐久性。

本实用新型在上述中性灰低辐射镀膜玻璃的基础上，给出本实用新型可选的实施例予以说明。

实施例1：

请参阅图1至图4，本实施例中的镀膜层结构为：

第一介质层101为sinx层，厚度10.3nm；

第一保护层102为nicr层构成，厚度为1.38nm；

第二介质层103为sinx层构成，厚度为35.7nm；

第二保护层104为nicr层构成，厚度为1.10nm；

第一功能层20为ag层构成，厚度为12.71nm；

第三保护层301为nicr层构成，厚度为1.98nm；

第三介质层302为znalox层构成，厚度为78.3nm；

第四保护层303为nicr层构成，厚度为0.77nm；

第二功能层40为ag层构成，厚度为15.98nm；

第五保护层501为nicr层构成，厚度为1.31nm；

第四介质层502为sinx层构成，厚度为28.3nm。

本实施例中制备的双银低辐射镀膜玻璃基材100为6mm优质白玻，镀制此结构膜层后，双银低辐射镀膜玻璃单片的参数为：

透过率t为46.99％，a*为-1.88，b*为1.36；

玻面颜色l为25.48，a*为2.41，b*为-4.77。

实施例2：

请参阅图1至图4，本实施例中的膜层结构为：

第一介质层101为的sinx层，厚度17.7nm；

第一保护层102为nicr层构成，厚度为2.62nm；

第二介质层103为sinx层构成，厚度为33.4nm；

第二保护层104为nicr层构成，厚度为0nm；

第一功能层20为ag层构成，厚度为7.67nm；

第三保护层301为nicr层构成，厚度为1.38nm；

第三介质层302为znalox层构成，厚度为71.5nm；

第四保护层303为nicr层构成，厚度为0nm；

第二功能层40为ag层构成，厚度为13.69nm；

第五保护层501为nicr层构成，厚度为0.69nm；

第四介质层502为sinx层构成，厚度为33.1nm。

本实施例中制备的双银低辐射镀膜玻璃基地为6mm优质白玻，镀制此结构膜层后，双银低辐射镀膜玻璃单片的参数为：

透过率t为48.66％，a*为-1.76，b*为3.20；

玻面颜色l为28.40，a*为0.71，b*为-4.46。

实施例3：

请参阅图1至图4，本实施例中的膜层结构为：

第一介质层101为sinx层，厚度12.3nm；

第一保护层102为nicr层构成，厚度为3.49nm；

第二介质层103为sinx层构成，厚度为39.2nm；

第二保护层104为nicr层构成，厚度为0.07nm；

第一功能层20为ag层构成，厚度为10.68nm；

第三保护层301为nicr层构成，厚度为0.63nm；

第三介质层302为znalox层构成，厚度为67.3nm；

第四保护层303为nicr层构成，厚度为1.21nm；

第二功能层40为ag层构成，厚度为17.33nm；

第五保护层501为nicr层构成，厚度为1.89nm；

第四介质层502为sinx层构成，厚度为37.7nm。

本实施例中制备的双银低辐射镀膜玻璃基地为6mm优质白玻，镀制此结构膜层后，双银低辐射镀膜玻璃单片的参数为：

透过率t为47.88％，a*为-1.81，b*为2.28；

玻面颜色l为26.91，a*为1.59，b*为-4.61。

实施例4：

请参阅图1至图4，本实施例中的膜层结构为：

第一介质层101为sinx层，厚度14.1nm；

第一保护层102为nicr层构成，厚度为4.98nm；

第二介质层103为sinx层构成，厚度为36.1nm；

第二保护层104为nicr层构成，厚度为1.89nm；

第一功能层20为ag层构成，厚度为5.0nm；

第三保护层301为nicr层构成，厚度为1.72nm；

第三介质层302为znalox层构成，厚度为75.5nm；

第四保护层303为nicr层构成，厚度为1.97nm；

第二功能层40为ag层构成，厚度为10.31nm；

第五保护层501为nicr层构成，厚度为0.91nm；

第四介质层502为sinx层构成，厚度为35.4nm。

本实施例中制备的双银低辐射镀膜玻璃基地为6mm优质白玻，镀制此结构膜层后，双银低辐射镀膜玻璃单片的参数为：

透过率t为47.88％，a*为-1.81，b*为2.28；

玻面颜色l为26.91，a*为1.59，b*为-4.61。

实施例5：

请参阅图1至图4，本实施例中的膜层结构为：

第一介质层101为sinx层，厚度15.9nm；

第一保护层102为nicr层构成，厚度为3.07nm；

第二介质层103为sinx层构成，厚度为37.7nm；

第二保护层104为nicr层构成，厚度为0.77nm；

第一功能层20为ag层构成，厚度为14.94nm；

第三保护层301为nicr层构成，厚度为1.03nm；

第三介质层302为znalox层构成，厚度为61.2nm；

第四保护层303为nicr层构成，厚度为0.49nm；

第二功能层40为ag层构成，厚度为12.36nm；

第五保护层501为nicr层构成，厚度为1.58nm；

第四介质层502为sinx层构成，厚度为41.3nm。

本实施例中制备的双银低辐射镀膜玻璃基地为6mm优质白玻，镀制此结构膜层后，双银低辐射镀膜玻璃单片的参数为：

透过率t为47.88％，a*为-1.81，b*为2.28；

玻面颜色l为26.91，a*为1.59，b*为-4.61。

表1：各实施例6mm双银低辐射镀膜玻璃颜色值

由上述实施例以及表1可知，本实用新型所制备的镀膜玻璃产品，不同位置检测，正面色差和侧面色差δa<2.5，整体颜色均匀，从各角度观察，颜色均呈现中性灰色调，颜色具有较高的统一性。产品透过率t为40～50％，透过色a*为0～-1，b*为-1.0～-4.0；玻面反射色l*为25～29，a*为0.33～-0.71，b*为-2.33～-4.46，产品颜色稳定，在室外和室内观察灰色纯正，不发生偏色。

以上所述仅为本实用新型的可选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

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