本实用新型涉及镀膜玻璃领域，特别涉及一种中性灰低辐射镀膜玻璃。背景技术：低辐射镀膜玻璃，也称low-e玻璃，按照膜层结构和性能优异可分为单银low-e、双银low-e以及三银l

• 镀膜玻璃
• 磁控溅射
• 保护层厚度
• 靶材

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本实用新型涉及镀膜玻璃领域，特别涉及一种翡翠绿的低辐射镀膜玻璃。背景技术：：低辐射镀膜玻璃(low-e玻璃)是在玻璃基体上镀膜形成的复合玻璃。为了适应具体的场景，low-e玻璃

• 镀膜玻璃
• 透过率
• 磁控溅射
• 靶材

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本发明涉及靶坯制备领域，具体涉及一种钨硅靶坯的制备方法。背景技术：目前，钨硅合金靶材是一种新型的合金靶材，作为一种真空溅镀的良好导体，可以用于电子栅门材料及电子薄膜领域。近年国

• 靶材
• 烧结工艺

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本发明属于铜合金的加工及电子信息用材料领域，适用于铜钛合金制溅射靶材、喷涂半导体布线的靶材、制备半导体布线的半导体元件和器件；适用于高强、高导电及抗高温应力松弛的接触线及箔材，

• 真空炉
• 钛合金
• 靶材
• 电磁加热

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本发明属于移动通信基站天线技术领域，主要涉及一种5g天线移相器表面可焊金属的沉积工艺。背景技术：在移动通信网络覆盖中，电调基站天线是覆盖网络的关键设备之一，而移相器又是电调基站

• 移相器
• 靶材
• 真空环境
• 天线
• 环境污染

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本发明涉及等离子喷涂设备领域，具体是一种等离子喷涂靶材粉末回收系统。背景技术：等离子喷涂靶材从成本角度讲，粉末成本占比为50-75％，诸如氧化锆等新型喷涂靶材的粉末占比则更高，

• 等离子
• 靶材
• 等离子喷涂

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本发明属于真空镀膜领域。特别涉及一种沉积dlc薄膜的磁控溅射镀膜技术和镀膜机。背景技术：目前在真空镀膜领域获得的众多薄膜产品中，具有很多优异性能的类金刚石薄膜(英文名：diam

• 靶材
• 磁控溅射
• 汽车镀膜
• 等离子体

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本发明属于光电功能材料领域，具体涉及一种铜锌锡硒(cztse)或铜锌锡硫(czts)四元靶材的制备方法。背景技术：随着化石燃料的逐渐枯竭，传统能源发电成本逐年上升。调整能源结构

• 靶材

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本发明涉及半导体制作工艺技术领域，特别是涉及一种在晶片上沉积金属层的方法。背景技术：磁控溅射是将金属沉积到半导体芯片上以在集成电路中形成电连接和其他结构的主要方法。靶材由待沉积

• 靶材
• pvd
• 磁控溅射
• 功率
• 等离子体

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本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是指一种靶材的磁性弯管机构。背景技术：真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式，即

• 弯管
• 靶材
• 磁控溅射
• 分子和原子

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