靶及靶的生产方法与流程
2021-01-30本发明涉及具有权利要求1的前序部分的特征的用于物理气相沉积的靶(涂层源)和具有权利要求9的特征的用于生产靶的方法。背景技术:在现有技术中,物理气相沉积的方法被大量使用以生产各种
一种氢气纯化用钯合金及其制备方法与流程
2021-01-30[0001]本发明属于氢气纯化技术领域,涉及一种氢气纯化材料,特别涉及一种氢气纯化用钯合金,以及其制备方法。背景技术:[0002]近年来,以甲醇、汽油、柴油等液态化石燃料为原料
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本发明涉及具有权利要求1的前序部分的特征的用于物理气相沉积的靶(涂层源)和具有权利要求9的特征的用于生产靶的方法。背景技术:在现有技术中,物理气相沉积的方法被大量使用以生产各种
[0001]本发明属于氢气纯化技术领域,涉及一种氢气纯化材料,特别涉及一种氢气纯化用钯合金,以及其制备方法。背景技术:[0002]近年来,以甲醇、汽油、柴油等液态化石燃料为原料