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一种用于除去废液铝离子的装置的制作方法

2021-01-30 20:01:52|331|起点商标网
一种用于除去废液铝离子的装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及净化废液领域,具体涉及一种用于除去废液铝离子的装置。


背景技术:

[0002]
阳极氧化线在生产过程中产生一定量的硫酸废液,主要产污段为阳极氧化生产线氧化槽。主要污染物含有铝离子。在氧化过程中,氧化槽铝离子浓度不断升高,当铝离子浓度高于15g/l时,会影响氧化效果,同时延长氧化时间,增加电耗,通常做法是排掉氧化槽30%-50%的废酸,配置新的硫酸,以达到降低铝离子浓度,为此浪费大量的硫酸。


技术实现要素:

[0003]
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种用于除去废液铝离子的装置,降低氧化槽内铝离子浓度,提高硫酸的利用率。
[0004]
本实用新型提供如下技术方案:
[0005]
一种用于除去废液铝离子的装置,包括扩散渗析器、水箱、压力泵、废液储藏罐、硫酸收集罐;氧化槽的电解液流入扩散渗析器;
[0006]
所述扩散渗析器包括箱体,所述箱体内设置有至少一个渗析单元管;所述箱体包括第一空腔、第二空腔、第三空腔;所述第二空腔、第三空腔设置于第一空腔下方;
[0007]
所述渗析单元管包括主管、支管;所述支管设置于主管中部位置;所述支管中部弯曲,并且弯曲部位高于所述支管与主管连接处;所述主管内设置有阴离子均相膜;所述阴离子均相膜设置于支管与主管连接处下方;
[0008]
所述主管一端连通于第一空腔;所述主管另一端连通于第三空腔;所述支管连通于第二空腔;所述第三空腔与压力泵管路连接。
[0009]
优选的,所述扩散渗析器的箱体上方设置有入料口;所述入料口呈漏斗状;所述入料口处设置有过滤网。
[0010]
优选的,所述第一空腔内设置有过滤层;所述氧化槽的电解液穿过过滤层,流入所述渗析单元管内。
[0011]
优选的,第一水泵带动水箱内的水流入第二空腔、第三空腔;所述第二空腔、第三空腔与水箱的连接管路上设置有控制阀。
[0012]
优选的,所述第三空腔通过管路依次与硫酸浓缩器、冷凝管连接;耐酸泵驱动第三空腔内的硫酸沿管路连接流动;冷凝器冷凝所述硫酸浓缩器产生的水蒸气;所述冷凝器通过管路与所述水箱连通;第二水泵驱动所述冷凝器内的水回流入水箱内。
[0013]
优选的,所述硫酸浓缩器的硫酸出口通过管路依次与硫酸收集罐、氧化槽连接;所述硫酸收集罐与氧化槽之间的管路上设置有耐酸泵。
[0014]
与现有技术相比,本实用新型具有以下优点和效果:
[0015]
(1)本实用新型中所述主管一侧连通于第一空腔;所述主管另一侧连通于第三空腔;所述主管内设置有阴离子均相膜;所述第三空腔连接有压力泵;通过压力泵改变第三空
腔内的压强,调节渗析后渗析单元管内铝离子浓度;当压力泵增加第三空腔内的压强时,可以使减小阴离子均相膜两侧压强差,提高阴离子均相膜使用寿命。
[0016]
(2)本实用新型中所述支管中间向上弯曲,所述支管向上弯曲部位高于所述支管与主管连接处;当第二空腔处于封闭状态时,防止氧化槽的电解液直接流入所述支管内;当第二空腔处于打开状态时,渗析后的废液自动流入第二空腔内,实现废液与硫酸自动分离,提高了硫酸的利用率。
附图说明
[0017]
为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案,下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0018]
图1是本实用新型一种用于除去废液铝离子的装置的关系图。
[0019]
图2是本实用新型扩散渗析器的结构图。
[0020]
图3是本实用新型中渗析单元管的结构图。
[0021]
图中:011为第一水泵,012为第一耐酸泵,013为第二耐酸泵,014为第二水泵,021为压力泵,031为第一控制阀,032为第一控制阀,033为第三控制阀,034为第四控制阀,035为第二控制阀,036为第六控制阀,1为氧化槽,2为扩散渗析器,21为入料口,22为过滤网,23为过滤层,24为第一空腔,25为渗析单元管,251为主管,252为支管,26为第二空腔,27为第三空腔,28为阴离子均相膜,29为箱体,3为废液储藏罐,4为硫酸浓缩器,5为硫酸收集管,6为冷凝器,7为水箱。
具体实施方式
[0022]
本实用新型的具体实施方式为:
[0023]
请参阅图1-3所示,一种用于除去废液铝离子的装置,包括扩散渗析器2、水箱7、压力泵021、废液储藏罐3、硫酸收集罐5;氧化槽1的电解液流入扩散渗析器2;所述氧化槽1与扩散渗析器2之间连接管路上设置有第一控制阀031;所述扩散渗析器2包括箱体29、渗析单元管25;所述箱体29内设置有多个渗析单元管25;所述箱体29包括第一空腔24、第二空腔26、第三空腔27;氧化槽1的电解液流入第一空腔24;所述第二空腔26、第三空腔27设置于第一空腔24下方,以便于第一空腔24的液体流入第二空腔26、第三空腔27。
[0024]
所述渗析单元管25包括主管251、支管252;所述支管252设置于主管251中间位置;所述支管252中间向上弯曲,所述支管252向上弯曲部位高于所述支管252与主管251连接处,当第二空腔26处于封闭状态时,防止氧化槽的电解液直接流入所述支管252内;所述主管251内设置有阴离子均相膜28;所述阴离子均相膜28设置于支管252与主管251连接处下方,通过多个渗析单元管25对氧化槽内的电解液进行渗析,可以解决阴离子均相膜28机械强度较低的问题。
[0025]
首先阴离子均相膜28本身带正电荷,在溶液中具有吸引带负电水化离子而排斥带正电荷水化离子的特性,故在浓度差的作用下,废酸侧的阴离子被吸引而顺利地透过阴离子均相膜28进入第三空腔27。同时根据电中性要求,也会夹带带正电荷的离子,由于h+的水
化半径比较小,电荷较少;而金属盐的水化离子半径较大,又是高价的,因此h+会优先通过膜,渗析单元管25废液中的酸就会被分离出来。
[0026]
所述主管251一侧连通于第一空腔24;所述主管251另一侧连通于第三空腔27;所述支管252连通于第二空腔26;所述第三空腔27连接有压力泵021;通过压力泵021改变第三空腔27内的压强,调节渗析后渗析单元管25内铝离子浓度,控制渗析单元管25的渗析速度;所述第三空腔27与所述硫酸收集罐5连通;所述第二空腔26与所述废液储藏罐3;第二空腔26与所述废液储藏罐3之间连接管路上设置有第四控制阀034。
[0027]
所述扩散渗析器的箱体29上方设置有入料口21;所述入料口21呈漏斗状;所述入料口21处设置有过滤网22,通过过滤网22对氧化槽内的电解液的悬浮物进行过滤;所述过滤网22设置于所述入料口21,可以便于对过滤的杂质进行清理;所述第一空腔24内设置有过滤层23,通过过滤层23对氧化槽内的电解液的细小杂志进行过滤;所述氧化槽1的电解液穿过过滤层23,流入所述渗析单元管25内。
[0028]
所述第一水泵011带动水箱7内的水流入第二空腔26、第三空腔27;所述第二空腔26与水箱7之间连接管路上设置有第二控制阀032,通过第一水泵011向第三空腔27内注水,调节第三空腔27内的硫酸的浓度;通过第一水泵011向第二空腔26内注水,对第二空腔26进行清洗;所述第三空腔27与水箱7之间连接管路上设置有第三控制阀033。
[0029]
所述第三空腔27与所述硫酸收集罐5之间连接管路上设置有硫酸浓缩器4;所述硫酸浓缩器4加热浓缩硫酸;所述硫酸浓缩器4与所述扩散渗析器2之间设置有第五控制阀035;所述硫酸浓缩器4浓缩后的硫酸流入所述硫酸收集罐5;所述硫酸收集罐5与所述硫酸浓缩器4之间设置有第六控制阀;冷凝器6冷凝所述硫酸浓缩器4产生的水蒸气;通过第二水泵014使所述冷凝器6冷凝后的水流入所述水箱7内,实现水资源的重复利用;所述硫酸收集罐5冷却加热浓缩后的硫酸;第二耐酸泵013带动所述硫酸收集罐5内的硫酸流入所述氧化槽1内,实现硫酸的重复利用,提高硫酸的利用率。
[0030]
工作原理:工作人员检测到氧化槽1内的电解液铝离子浓度过高时,打开所述第一控制阀031,使氧化槽1内的电解液流入所述扩散渗析器2内;通过过滤网22对氧化槽内的电解液的悬浮物进行过滤;通过过滤层23对氧化槽内的电解液的细小杂志进行过滤;通过阴离子均相膜28对硫酸进行过滤。
[0031]
通过第一水泵011向第三空腔27内注水,调节第三空腔27内的硫酸的浓度,降低第三空腔27的硫酸浓度,提高阴离子均相膜28对硫酸根的渗析速率;通过第二控制阀032和第四控制阀,调节第三空腔27的硫酸浓度,并调节所述阴离子均相膜28浓度差;通过压力泵021改变第三空腔27内的压强,改变平衡时主管251内废液的高度,实现对废液中铝离子的调节,可以使减小阴离子均相膜28受到的压强,提高阴离子均相膜28使用寿命;当压力泵021降低第三空腔27内的压强时,可以提高阴离子均相膜对硫酸根的渗析速率;当第二空腔处于打开状态时,渗析后的废液自动流入第二空腔内,实现废液与硫酸自动分离。
[0032]
所述硫酸浓缩器4加热浓缩硫酸;通过第二水泵014使所述冷凝器6冷凝后的水流入所述水箱7内,实现水资源的重复利用;第二耐酸泵013带动所述硫酸收集罐5内的硫酸流入所述氧化槽1内,实现硫酸的重复利用。
[0033]
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以
对前述实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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