一种硅晶圆上制膜反应喷嘴的制作方法

[0001]
本实用新型涉及硅晶圆生产设备技术领域，具体为一种硅晶圆上制膜反应喷嘴。


背景技术：

[0002]
晶圆指制造半导体晶体管或集成电路的衬底(也叫基片)，由于是晶体材料，其形状为圆形，所以称为晶圆，衬底材料有硅、锗、gaas、inp、gan等，由于硅最为常用，如果没有特别指明晶体材料，通常指硅晶圆，在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能的集成电路产品，晶圆的原始材料是硅，而地壳表面有用之不竭的二氧化硅，二氧化硅矿石经由电弧炉提炼，盐酸氯化，并经蒸馏后，制成了高纯度的多晶硅，其纯度高达99.999999999％。
[0003]
apcvd设备是经喷头把氧气，硅烷，磷烷，硼烷等混合气体反应生成usg及bpsg膜，而市面上的喷嘴种类较多，但对于在硅晶圆上对原料进行喷洒并制膜时，容易导致所制成的膜厚度和均匀性不够好，从而所制成的膜的质量较差，为此，我们提出一种硅晶圆上制膜反应喷嘴来解决上述问题。


技术实现要素：

[0004]
本实用新型的目的在于提供一种硅晶圆上制膜反应喷嘴，以解决上述背景技术提出的目前apcvd设备是经喷头把氧气，硅烷，磷烷，硼烷等混合气体反应生成usg及bpsg膜，而市面上的喷嘴种类较多，但对于在硅晶圆上对原料进行喷洒并制膜时，容易导致所制成的膜厚度和均匀性不够好，从而所制成的膜的质量较差的问题。
[0005]
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
[0006]
一种硅晶圆上制膜反应喷嘴，包括底板，所述底板顶端中部焊接有支撑架，所述支撑架一侧顶端安装有固定块，所述支撑架内部贯穿有主流管，所述固定块外侧设置有第一喷头，所述第一喷头一端与主流管相连通，所述底板顶部一侧两端均连通有副流管，两个所述副流管之间设置有导管，所述导管底端与底板内侧底端相连通，两个所述副流管外部均套接有固定外壳，所述固定外壳外侧与导管外侧固定连接，所述固定外壳顶端焊接有连接块，所述连接块一端连接有第一分流管，所述第一分流管一端与副流管相连通，所述导管顶端连接有第二分流管，所述主流管、副流管、第一分流管和第二分流管一端均安装有第二喷头；
[0007]
所述底板顶端边部焊接有侧板，所述侧板内侧顶端安装有支撑杆，所述支撑杆一端外部卡接有安装座，所述安装座顶端安装有套件，所述主流管另一端位于套件的内部，所述主流管的外部套接有密封圈，所述套件内侧开设有螺孔。
[0008]
优选的，所述底板、支撑架和侧板的材质均采用合成金属结构制成。
[0009]
优选的，所述底板、支撑架、固定块、主流管、副流管、第一分流管、第二分流管和侧板外侧表面均涂覆有一层黑色防锈涂料。
[0010]
优选的，所述主流管一端的形状为凸形。
[0011]
优选的，所述第一喷头的直径大于第二喷头的直径。
[0012]
优选的，所述底板的内部为空心结构。
[0013]
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
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1.设置有底板，通过副流管、导管、第一分流管、第二分流管和第二喷头的作用，便于根据实际生产对气体或者液态原料进行喷洒，使得该喷嘴能够将原料喷洒的更加均匀，从而使得制成的膜的厚度和均匀性十分好，再通过主流管和第一喷头的作用，便于根据实际需求能够将原料喷洒在特定位置处，提高了该喷嘴的适用性。
[0015]
2.设置有侧板，通过支撑杆和安装座的作用，便于对套件进行支撑，再通过套件、密封圈和螺孔的作用，便于对主流管的一端进行连接，使得其连接后的密封性较好，避免气体或者液体原料发生泄漏。
附图说明
[0016]
图1为本实用新型提出的一种硅晶圆上制膜反应喷嘴结构示意图；
[0017]
图2为本实用新型提出的一种硅晶圆上制膜反应喷嘴导管的安装结构示意图；
[0018]
图3为本实用新型提出的一种硅晶圆上制膜反应喷嘴侧板的安装结构示意图。
[0019]
图中：1、底板；2、支撑架；3、固定块；4、主流管；5、第一喷头；6、副流管；7、导管；8、固定外壳；9、连接块；10、第一分流管；11、第二分流管；12、第二喷头；13、侧板；14、支撑杆；15、安装座；16、套件；17、密封圈；18、螺孔。
具体实施方式
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下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0021]
请参阅图1-3，本实用新型提供一种硅晶圆上制膜反应喷嘴技术方案：包括底板1，底板1顶端中部焊接有支撑架2，支撑架2一侧顶端安装有固定块3，支撑架2内部贯穿有主流管4，固定块3外侧设置有第一喷头5，第一喷头5一端与主流管4相连通，主流管4一端的形状为凸形，从而对主流管4连接时，进一步提高其连接的密封性能，底板1顶部一侧两端均连通有副流管6，两个副流管6之间设置有导管7，导管7底端与底板1内侧底端相连通，两个副流管6外部均套接有固定外壳8，固定外壳8外侧与导管7外侧固定连接，固定外壳8顶端焊接有连接块9，连接块9一端连接有第一分流管10，第一分流管10一端与副流管6相连通，导管7顶端连接有第二分流管11，主流管4、副流管6、第一分流管10和第二分流管11一端均安装有第二喷头12，第一喷头5的直径大于第二喷头12的直径，方便第一喷头5对特定位置进行喷洒时，能够提高喷洒的容量，底板1的内部为空心结构，方便将副流管6与导管7与apcvd设备送料机构连接。
[0022]
底板1顶端边部焊接有侧板13，底板1、支撑架2、固定块3、主流管4、副流管6、第一分流管10、第二分流管11和侧板13外侧表面均涂覆有一层黑色防锈涂料，从而提高上述结构的防锈能力，提高其使用寿命，底板1、支撑架2和侧板13的材质均采用合成金属结构制成，从而提高了该喷嘴的硬度，侧板13内侧顶端安装有支撑杆14，支撑杆14一端外部卡接有
安装座15，安装座15顶端安装有套件16，主流管4另一端位于套件16的内部，主流管4的外部套接有密封圈17，套件16内侧开设有螺孔18。
[0023]
工作原理：首先，当该喷嘴使用时，先通过底板1分别将副流管6和导管7的一端与apcvd设备送料机构进行连接，然后通过套件16内侧的螺孔18，且由于主流管4的一端设置成凸形结构，便于对主流管4的一端进行连接的同时，可与密封圈17一起作用，使得其连接后的密封性较好，避免气体或者液体原料发生泄漏，方便实用；
[0024]
然后，当气体或者液体原料经过副流管6和导管7时，通过第一分流管10和第二分流管11能够对原料进行分流，并经过第二喷头12，便于根据实际生产对气体或者液态原料进行喷洒，使得该喷嘴能够将原料喷洒的更加均匀，从而使得制成的膜的厚度和均匀性十分好，同时一部分原料可经过主流管4并通过固定块3上安装的第一喷头5将原料喷洒在硅圆晶上的特定位置处，提高了该喷嘴的适用性。
[0025]
本说明中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。
[0026]
尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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