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一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置的制作方法

2021-01-29 23:01:10|277|起点商标网
一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及床生产设备技术领域,更具体地说,本实用新型涉及一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置。


背景技术:

[0002]
主轴锥孔,是指在机床对工件加工时的一种工具,锥孔是主轴鼻端带有锥度的深孔,用来安装刀柄,其内锥面和刀柄的外锥面贴合形成面配合,因为其使用方便,加工速度快,被广泛应用于机床的加工当中。
[0003]
随着我国经济的发展,我国的科技实力也大为提升,我国在机床生产设备的研发也越来越好,也使得机床生产设备的生产加工技术有了显著的提升,伴随着发展的机床生产设备的使用性能和要求也有了很大的提高,其中就包括一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置。
[0004]
但是其在实际使用时,仍旧存在一些缺点,如市场现有的主轴锥孔抛光装置在使用时,抛光所述产生的铁屑等杂质,不能进行有效的收集,人工清理难度较大,使得设备的自清洁能力降低,同时在设备对进行抛光时,不能对进行有效的降噪处理,容易给操作人员的身心健康带来较大危害,造成不必要的安全隐患。
[0005]
因此亟需提供一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置。


技术实现要素:

[0006]
为了克服现有技术的上述缺陷,本实用新型的实施例提供一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置,通过清理喷头对抛光时的杂质进行清理,在通过漏水层将污水送入收杂水箱,利用过滤网对杂质进行过滤收集,然后在将过滤网取出对杂质进行清理,通过吸音层和隔音层对设备进行吸音处理,在通过减震块对设备进行减震降噪处理,以解决上述背景技术中提出的问题。
[0007]
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置,包括立柱,所述立柱的顶部固定安装有操作台,所述操作台的顶部固定安装有工作室,所述工作室顶部的一侧固定安装有清理水箱,所述清理水箱的表面通过出水软管固定连接有固定块,所述固定块底部的两侧固定连接有出水喷头,所述工作室内腔的底部固定安装有滑轨,所述滑轨的内腔通过滑块固定连接有抛光电机,所述工作室右侧的顶部固定安装有液压缸,所述液压缸的一侧通过液压杆固定连接有抛光电机,所述抛光电机的底部啮合连接有抛光装置,所述操作台的中部固定安装有漏水层,所述漏水层的顶部固定安装有工件固定装置,所述操作台的底部通过漏水层固定连接有收杂水箱,所述收杂水箱内腔的顶部固定安装有过滤网,所述立柱的一侧固定安装有减震块,所述减震块的一侧活动套接有支撑杆,所述工作室的表面螺钉连接有吸音层,所述吸音层的外侧螺钉连接有隔音层。
[0008]
在一个优选地实施方式中,所述减震块的内腔固定安装有固定杆,所述固定杆的
顶部通过减震弹簧固定连接有活动块。
[0009]
在一个优选地实施方式中,所述收杂水箱内腔的顶部开设有活动槽,所述过滤网的两端通过活动槽活动套接有立柱。
[0010]
在一个优选地实施方式中,所述工作室的表面通过活动铰链固定连接有工作室箱门,所述工作室箱门的一侧固定安装有锁扣,所述锁扣的中部固定安装有可视窗。
[0011]
在一个优选地实施方式中,所述吸音层的材质为木质吸音板构件,所述隔音层的材质为阻尼隔音板构件。
[0012]
在一个优选地实施方式中,所述漏水层开设漏水孔,所述漏水孔的直径为一点五厘米。
[0013]
在一个优选地实施方式中,所述立柱的数量有四个,四个所述立柱均分与操作台底部的两侧。
[0014]
本实用新型的技术效果和优点:
[0015]
1、本实用新型通过设置有清理水箱,漏水层,收杂水箱,通过设备顶部的清理水箱将水通过出水软管送入清理喷头,通过清理喷头对抛光时的杂质进行清理,在通过漏水层将污水送入收杂水箱,利用过滤网对杂质进行过滤收集,然后在将过滤网取出对杂质进行清理,降低了杂质的难度,使得设备的自清洁能力增加。
[0016]
2、本实用新型通过在箱体的外侧安装有吸音层,同时在吸音层的外侧安装有隔音层,同时在操作台的底部安装有立柱,立柱的侧面通过减震块连接有支撑杆,通过吸音层和隔音层对设备进行吸音处理,在通过减震块对设备进行减震降噪处理,避免给操作人员的身心健康带来较大危害,减少不必要的安全隐患。
附图说明
[0017]
图1为本实用新型的整体结构示意图。
[0018]
图2为本实用新型的清理水箱结构示意图。
[0019]
图3为本实用新型的局部结构示意图。
[0020]
图4为本实用新型的减震块结构示意图。
[0021]
图5为本实用新型的图1的a处放大结构示意图。
[0022]
图6为本实用新型的工作室箱门结构示意图。
[0023]
附图标记为:1、立柱;2、操作台;3、工作室;4、清理水箱;5、出水软管;6、固定块;7、出水喷头;8、滑轨;9、滑块;10、抛光电机;11、抛光装置;12、液压缸;13、液压杆;14、漏水层;15、工件固定装置;16、收杂水箱;17、过滤网;18、减震块;19、支撑杆;20、吸音层;21、隔音层;181、固定杆;182、减震弹簧;183、活动块;171、活动槽;301、活动铰链;302、工作室箱门;303、锁扣;304、可视窗。
具体实施方式
[0024]
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0025]
如附图1-6所示的一种用于机床生产加工用主轴锥孔的抛光装置,包括立柱1,立柱1的顶部固定安装有操作台2,操作台2的顶部固定安装有工作室3,工作室3顶部的一侧固定安装有清理水箱4,清理水箱4的表面通过出水软管5固定连接有固定块6,固定块6底部的两侧固定连接有出水喷头7,工作室3内腔的底部固定安装有滑轨8,滑轨8的内腔通过滑块9固定连接有抛光电机10,工作室3右侧的顶部固定安装有液压缸12,液压缸12的一侧通过液压杆13固定连接有抛光电机10,抛光电机10的底部啮合连接有抛光装置11,操作台2的中部固定安装有漏水层14,漏水层14的顶部固定安装有工件固定装置15,操作台2的底部通过漏水层14固定连接有收杂水箱16,收杂水箱16内腔的顶部固定安装有过滤网17,立柱1的一侧固定安装有减震块18,减震块18的一侧活动套接有支撑杆19,工作室3的表面螺钉连接有吸音层20,吸音层20的外侧螺钉连接有隔音层21,减震块18的内腔固定安装有固定杆181,固定杆181的顶部通过减震弹簧182固定连接有活动块183,收杂水箱16内腔的顶部开设有活动槽171,过滤网17的两端通过活动槽171活动套接有立柱1,工作室3的表面通过活动铰链301固定连接有工作室箱门302,工作室箱门302的一侧固定安装有锁扣303,锁扣303的中部固定安装有可视窗304,吸音层20的材质为木质吸音板构件,隔音层21的材质为阻尼隔音板构件,漏水层14开设漏水孔,漏水孔的直径为一点五厘米,立柱1的数量有四个,四个立柱1均分与操作台2底部的两侧。
[0026]
具体参考说明书附图4,减震块18的内腔固定安装有固定杆181,固定杆181的顶部通过减震弹簧182固定连接有活动块183。
[0027]
实施方式具体为:通过减震弹簧182带动活动块183在固定杆181顶部活动,通过减震使得工作室3内噪音降低,既解决了减震问题又解决了降噪问题。
[0028]
具体参考说明书附图5,收杂水箱16内腔的顶部开设有活动槽171,过滤网17的两端通过活动槽171活动套接有立柱1。
[0029]
实施方式具体为:通过活动槽171使得过滤网17固定在收杂水箱16内腔的顶部,既解决连接问题又解决了固定问题。
[0030]
具体参考说明书附图6,工作室3的表面通过活动铰链301固定连接有工作室箱门302,工作室箱门302的一侧固定安装有锁扣303,锁扣303的中部固定安装有可视窗304。
[0031]
实施方式具体为:通过活动铰链301使得工作室箱门302固定,再利用锁扣303使得工作室箱门302活动,既解决固定问题有解决活动问题。
[0032]
本实用新型工作原理:
[0033]
第一步:首先操作人员将各部位的零件组装好,将主轴锥孔固定在工件固定装置15上,关闭工作室箱门302,然后将装置启动。
[0034]
第二部:通过液压缸12带动液压杆13使得抛光电机10在滑轨8上移动,利用抛光电机10底部的抛光装置11对工件进行打磨,通过清理喷头7对抛光时的杂质进行清理,在通过漏水层14将污水送入收杂水箱16,利用过滤网17对杂质进行过滤收集。
[0035]
第三步:在利用通过吸音层20和隔音层21对设备进行吸音处理,在通过减震块18对设备进行减震降噪处理,最后当设备使用完成后,将过滤网17取出对杂质进行集中清理,再取出加工完成的工件,即可。
[0036]
最后应说明的几点是:首先,在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,可以是机械连接或电连接,也可以是两个
元件内部的连通,可以是直接相连,“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变,则相对位置关系可能发生改变;
[0037]
其次:本实用新型公开实施例附图中,只涉及到与本公开实施例涉及到的结构,其他结构可参考通常设计,在不冲突情况下,本实用新型同一实施例及不同实施例可以相互组合;
[0038]
最后:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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