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一种沉香镶嵌珠宝的方法与流程

2021-01-26 17:01:57|312|起点商标网

本发明涉及香镶嵌珠宝技术领域,尤其涉及一种沉香镶嵌珠宝的方法。



背景技术:

沉香属瑞香科植物白木香,在特殊环境下经过千百年“结”出来的树脂与树胶、挥发油、木质等多种成分混合后的凝结物。

沉香一直以来,都是以车珠,雕刻吊坠的单一性为佩戴方式,主要是男性客户群以闻香味的线香,熏香为主。但是在女性的珠宝首饰几乎是空白的,因此我们提出了一种沉香镶嵌珠宝的方法。



技术实现要素:

为了解决现有技术所存在的问题,本发明提出的一种沉香镶嵌珠宝的方法。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种沉香镶嵌珠宝的方法,包括以下步骤:

s1:选取名贵的沉香,在沉香上采用浮雕、镂空雕刻和精微雕刻的技法雕刻;

s2:根据jewcad绘软件制作出来的创意图案,在s1所述的沉香上利用银笔进行勾画;

s3:在s2中勾画图案后的沉香上进行粗胚制作,得到沉香粗胚;

s4:运用精细刻及薄刀法修去s3中沉香粗胚的刀痕凿垢,得到细致完美的作品;

s5:利用粗细不同的木工砂纸对s4中的作品进行磋磨,得到沉香半成品;

s6:根据s2中创意图案中的各个部件进行蜡磨,然后将蜡磨手工焊接到蜡棒上,得到蜡树;

s7:将s6中的蜡树种置到倒模设备中,然后将种好的蜡树和底盘一起套上不锈钢筒,再将相应重量的石膏浆沿不锈钢筒内壁缓缓注入,直到石膏浆没过蜡树,再对不锈钢筒内进行抽真空操作并自然放置6-12h,得到凝固的石膏;

s8:将s7中的石膏进行烘焙操作,得到石膏模,然后将熔化配好的金属水从石膏模的水口进行注入;

s9:将s8中的石膏模进行自然放置10-30min,再放入冷水中进行炸洗,此时可以取出金树;

s10:利用钢刷对金树上的石膏进行清理,然后放入30%的氢氟酸中浸泡8-12min,再利用夹取装置将金树进行取出并进行清洗;

s11:将s10中金树上的首饰进行剪下并进行晾干,然后将s5中的沉香安装在首饰上,最后再将碎钻安装在首饰上。

优选的,所述s2中,在利用jewcad绘软件制作创意图案之前,首先手工进行绘图。

优选的,所述s3中,粗胚制作的要求为既不浪费沉香的料子,又能很大的程度留有余地的调整比例和各种布局,做到有层次、有动势,比例协调、重心稳定。

优选的,所述s5中,磋磨要求为顺着沉香的纤维方向磋磨,磋磨的过程中首先用粗砂纸磋磨,再用细砂纸磋磨。

优选的,所述s7中,利用抽真空机对不锈钢筒的内部进行抽真空操作。

与现有技术相比,本发明对沉香镶嵌时,因为沉香对高温敏感的,极易破坏沉香的木质纤维和油性,所以沉香为最后安装,既避免了沉香的损坏,又可以大大减少拆石、镶嵌、执边、铲边等工作量,提高了生产效率。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。

实施例

本实施例提出了一种沉香镶嵌珠宝的方法,包括以下步骤:

s1:选取名贵的沉香,在沉香上采用浮雕、镂空雕刻和精微雕刻的技法雕刻;

s2:根据jewcad绘软件制作出来的创意图案,在s1所述的沉香上利用银笔进行勾画,其中在利用jewcad绘软件制作创意图案之前,首先手工进行绘图;

s3:在s2中勾画图案后的沉香上进行粗胚制作,其中粗胚制作的要求为既不浪费沉香的料子,又能很大的程度留有余地的调整比例和各种布局,并做到有层次、有动势,比例协调、重心稳定,得到沉香粗胚;

s4:运用精细刻及薄刀法修去s3中沉香粗胚的刀痕凿垢,得到细致完美的作品;

s5:利用粗细不同的木工砂纸对s4中的作品进行磋磨,其中磋磨要求为顺着沉香的纤维方向磋磨,磋磨的过程中首先用粗砂纸磋磨,再用细砂纸磋磨,得到沉香半成品;

s6:根据s2中创意图案中的各个部件进行蜡磨,然后将蜡磨手工焊接到蜡棒上,得到蜡树;

s7:将s6中的蜡树种置到倒模设备中,然后将种好的蜡树和底盘一起套上不锈钢筒,再将相应重量的石膏浆沿不锈钢筒内壁缓缓注入,直到石膏浆没过蜡树,再利用抽真空机对不锈钢筒的内部进行抽真空操作并自然放置6-12h,得到凝固的石膏;

s8:将s7中的石膏进行烘焙操作,得到石膏模,然后将熔化配好的金属水从石膏模的水口进行注入;

s9:将s8中的石膏模进行自然放置10-30min,再放入冷水中进行炸洗,此时可以取出金树;

s10:利用钢刷对金树上的石膏进行清理,然后放入30%的氢氟酸中浸泡8-12min,再利用夹取装置将金树进行取出并进行清洗;

s11:将s10中金树上的首饰进行剪下并进行晾干,然后将s5中的沉香安装在首饰上,最后再将碎钻安装在首饰上。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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