一种特种高亮度镭射镜面银浆制备工艺的制作方法

[0001]
本发明涉及一种涂料，具体涉及一种特种高亮度镭射镜面银浆制备工艺。


背景技术：

[0002]
镜面银是以铝为材料，利用pvd方法制成的厚度为20～40nm的铝片颗粒分散在有机溶剂中的一种浆状高级金属颜料，用其配制的镜面油墨印刷在承印表面上后，纳米铝片彼此平行排列，从而形成如银镜一样的光反射效果，因而得名“镜面银”。
[0003]
镜面银为银白色，色泽单一，市场上对其他颜色的镜面银一直迫切需要；目前市场上得到镭射镜面银浆的工序复杂，表面亮度不好。


技术实现要素：

[0004]
针对现有技术存在的不足，本发明提供了一种特种高亮度镭射镜面银浆制备工艺。
[0005]
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：一种特种高亮度镭射镜面银浆制备工艺，其特征在于：该工艺包括以下步骤：a. 涂布：用特定树脂涂布在pet薄膜上；b．镀铝：将涂布后的pet薄膜进行真空镀铝，真空度为10的负4次方，铝层厚度为300纳米；c．镭射硬压：将镀铝后的pet薄膜通过硬压机工作台进行镭射硬压，形成高亮度镭射铝层，硬压温度为150℃～190℃，硬压压力为20～30kg/cm，硬压速度为45～65m/min；d．洗膜：将经过镭射硬压处理后的pet薄膜通过洗膜机把镀铝层洗下来；e. 半成品分离提取：用水冷式分离机高速分离镀铝层提取铝片，水冷式分离机内温度控制在30～35度；f．半成品预碎：将提取的铝片用气冷粉碎机进行粉碎，粉碎过程中将气冷粉碎机内的温度控制在35～40度；g．过滤：过400网目过滤杂质；h．剪切：通过水冷高速剪切机高速剪切6个小时，水冷高速剪切机温度控制在30～35度；j．成品分离：水冷分离机分离提取铝片成品，温度控制在30～35度；采用上述技术方案，步骤b中真空度为10的负4次方是为了保证铝层在镀的过程中氧化提高金属亮度，铝层厚度为300纳米左右使铝层显银白色金属质感；步骤c中将硬压工作台上镭射图案用热硬压的方式转移到pet薄膜的镭射涂层表面，形成高亮度镭射铝层；步骤f中温度控制在35～40度，让铝片的亮度保持原有的物理特性不易被氧化。
[0006]
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：步骤b中所述硬压温度为170℃，硬压压力为25kg/cm，硬压速度为55m/min。
[0007]
采用上述技术方案，形成的镭射铝的亮度效果更好。
[0008]
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：步骤a所述特定树脂为uv环氧树脂。
[0009]
采用上述技术方案，uv环氧树脂固化性和成型性好。
[0010]
为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：步骤k所述溶剂为丙二醇甲醚，铝片与丙二醇甲醚质量比为1∶9。
[0011]
采用上述技术方案，丙二醇甲醚对镜面效果的影响好，铝片与丙二醇甲醚比例为1∶9，使涂膜的附着力更好。
[0012]
本发明的有益效果为：通过控制铝层厚度在300纳米左右，使铝层显银白色金属质感，再通过镭射硬压工艺形成高亮度镭射铝层，工序简单。
具体实施方式
[0013]
下面对本发明的实施例作详细说明本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本发明的保护范围不限于下述的实施例。
[0014]
一种特种高亮度镭射镜面银浆制备工艺，其特征在于：该工艺包括以下步骤：a. 涂布：用特定树脂涂布在pet薄膜上；b．镀铝：将涂布后的pet薄膜进行真空镀铝，真空度为10的负4次方，铝层厚度为300纳米；c．镭射硬压：将镀铝后的pet薄膜通过硬压机工作台进行镭射硬压，形成高亮度镭射铝层，硬压温度为150℃～190℃，硬压压力为20～30kg/cm，硬压速度为45～65m/min；d．洗膜：将经过镭射硬压处理后的pet薄膜通过洗膜机把镀铝层洗下来；e. 半成品分离提取：用水冷式分离机高速分离镀铝层提取铝片，水冷式分离机内温度控制在30～35度；f．半成品预碎：将提取的铝片用气冷粉碎机进行粉碎，粉碎过程中将气冷粉碎机内的温度控制在35～40度；g．过滤：过400网目过滤杂质；h．剪切：通过水冷高速剪切机高速剪切6个小时，水冷高速剪切机温度控制在30～35度；j．成品分离：水冷分离机分离提取铝片成品，温度控制在30～35度；k．成品调制：将铝片和溶剂调制成一定比例；步骤b中所述硬压温度为170℃，硬压压力为25kg/cm，硬压速度为55m/min，步骤a所述特定树脂为uv环氧树脂，步骤k所述溶剂为丙二醇甲醚，铝片与丙二醇甲醚质量比为1∶9。

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