釉料组合物、釉料及其制备方法、瓷砖及其制备方法与流程

本发明涉及陶瓷领域，尤其涉及一种釉料组合物、釉料及其制备方法、瓷砖及其制备方法。
背景技术：
：现有的瓷片产品一般为两次施釉产品：第一道为底釉，遮盖坯体，提高白度，控制砖形；第二道为面釉，一般分为亮光类、柔光类和哑光类，特殊产品由于色边严重(瓷片坯经过素烧，收水不一致导致颜色深浅不一致)甚至要三次施釉来满足。以上工艺均存在着工艺复杂、控制难度大、人工成本高、设备投入较大等问题。有鉴于此，特提出本申请。技术实现要素：本发明的目的在于提供一种釉料组合物、釉料及其制备方法、瓷砖及其制备方法，以解决上述问题。为实现以上目的，本发明特采用以下技术方案：一种釉料组合物，其原料以质量百分比计算，包括：锆白熔块25-27％、石英石3-5％、硅灰石5-7％、哑光熔块21-23％、水洗高岭土8-10％、煅烧高岭土5-7％和硅酸锆23-25％。可选地，釉料组合物的原料，以质量百分比计算，锆白熔块的含量可以为25％、26％、27％以及25-27％之间的任一值；石英石的含量可以为3％、4％、5％以及3-5％之间的任一值；硅灰石的含量可以为5％、6％、7％以及5-7％之间的任一值；哑光熔块的含量可以为21％、22％、23％以及21-23％之间的任一值；水洗高岭土的含量可以为8％、9％、10％以及8-10％之间的任一值；煅烧高岭土的含量可以为5％、6％、7％以及5-7％之间的任一值；硅酸锆的含量可以为23％、24％、25％以及23-25％之间的任一值。优选地，所述釉料组合物，其原料以质量百分比计算，还包括：三聚磷酸钠0.15％-0.3％和羧甲基纤维素钠0.3％-0.6％。三聚磷酸钠和羧甲基纤维素钠作为辅料使用，有利于调整釉料的物化性能参数。可选地，釉料组合物的原料中，三聚磷酸钠的含量可以为0.15％、0.20％、0.25％、0.3％以及0.15％-0.3％之间的任一值；羧甲基纤维素钠的含量可以为0.3％、0.4％、0.5％、0.6％以及0.3％-0.6％之间的任一值。一种釉料，包括所述的釉料组合物和溶剂；优选地，所述溶剂包括水；优选地，所述水占所述釉料组合物的总质量的38-40％。普通的釉料只有亮光、柔光或哑光效果，任何一种不管质感和发色都达不到目标要求，且用在底釉上面会损失大部分细节和纹路。而且通常无法满足一次施釉操作的要求。可选地，所述水可以占所述釉料组合物的总质量的38％、39％、40％以及38-40％之间的任一值。优选地，所述釉料的比重为1.66-1.68g/ml。可选地，所述釉料的比重可以为1.66g/ml、1.67g/ml、1.68g/ml以及1.66-1.68g/ml之间的任一值。一种所述的釉料的制备方法，包括：将所述釉料组合物和水混合得到所述釉料。优选地，所述釉料组合物使用前进行预处理；优选地，所述预处理包括球磨；优选地，所述球磨的时间为4-5h；优选地，所述釉料的细度为：过325目筛的筛余为0.3wt％-0.6wt％。可选地，所述球磨的时间可以为4h、4.5h、5h以及4-5h之间的任一值；所述釉料过325目筛的筛余可以为0.3wt％、0.4wt％、0.5wt％、0.6wt％以及0.3wt％-0.6wt％之间的任一值。一种瓷砖，包括砖坯以及设置在所述砖坯的至少一个表面的釉层，所述釉层使用所述的釉料制得。优选地，所述砖坯的厚度为9.2-9.5mm；优选地，所述釉层施加的所述釉料的量为128-132g/0.18m2。可选地，所述砖坯的厚度可以为9.2mm、9.3mm、9.4mm、9.5mm以及9.2-9.5mm之间的任一值；所述釉层施加的所述釉料的量可以为128g/0.18m2、129g/0.18m2、130g/0.18m2、131g/0.18m2、132g/0.18m2以及128-132g/0.18m2之间的任一值。一种瓷砖的制备方法，包括：将所述砖坯进行第一次烧制，冷却后施釉，然后进行第二次烧制，得到所述瓷砖。优选地，所述第一次烧制的温度为942-1125℃，时间为40-45min；优选地，所述第二次烧制的温度为931-1114℃，时间为45-50min；优选地，所述施釉的采用喷釉的方式；优选地，所述喷釉的压力为6-7bar；优选地，所述砖坯采用精雕模具压制得到；优选地，所述精雕模具采用四维激光雕刻得到；优选地，所述四维激光雕刻的光源直径为0.02-0.04mm；优选地，所述压制的压力为24000-26000kn；优选地，所述施釉之后、所述第二次烧制之前还包括喷墨印花。如果采用普通的模具，则纹理不够精细，施釉过程容易造成糊化等缺陷，无法体现釉料的优势，用精雕模具可以将成品率提高3％-5％左右。可选地，所述第一次烧制的温度可以为942℃、950℃、960℃、970℃、980℃、990℃、1000℃、1010℃、1020℃、1030℃、1040℃、1050℃、1060℃、1070℃、1080℃、1090℃、1100℃、1110℃、1120℃、1125℃以及942-1125℃之间的任一值，时间可以为40min、41min、42min、43min、44min、45min以及40-45min之间的任一值；所述第二次烧制的温度可以为931℃、940℃、950℃、960℃、970℃、980℃、990℃、1000℃、1010℃、1020℃、1030℃、1040℃、1050℃、1060℃、1070℃、1080℃、1090℃、1100℃、1110℃、1114℃以及931-1114℃之间的任一值，时间可以为45min、46min、47min、48min、49min、50min以及45-50min之间的任一值；所述喷釉的压力可以为6bar、6.5bar、7bar以及6-7bar之间的任一值；所述四维激光雕刻的光源直径可以为0.02mm、0.03mm、0.04mm以及0.02-0.04mm之间的任一值；所述压制的压力可以为24000kn、25000kn、26000kn以及24000-26000kn之间的任一值。与现有技术相比，本发明的有益效果包括：本申请提供的釉料组合物和釉料，使用锆白熔块和硅酸锆使得釉料白度提高，对砖坯底色具有很好的遮盖能力，同时能够提升釉料发色水平，改变表面质感；哑光熔块使得釉料在烧成之后具有润滑的手感，而且还有助于提升发色水平；石英主要改变釉料的光泽度，提高硬度和耐磨度；水洗高岭土和煅烧高岭土的搭配，使得釉料具有良好的悬浮性、粘度和流动性；通过对成分和用量的选择，确定原料选用锆白熔块、石英石、硅灰石、哑光熔块、水洗高岭土、煅烧高岭土和硅酸锆以及确定它们的用量范围，使得釉料组合物在遮盖能力、表面质感和发色强弱等方面获得优异性能，能够一次施釉即可满足生产需要；本申请提供的釉料的制备方法，工艺简单；本申请提供的瓷砖，表面质感好，生产成本低；本申请提供的瓷砖的制备方法，只需一次施釉，工艺简单，操作难度低，人工成本、物料消耗等均大幅降低。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对本发明范围的限定。图1为实施例1至实施例4制得的瓷砖的外观照片。具体实施方式如本文所用之术语：“由……制备”与“包含”同义。本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。例如，包含所列要素的组合物、步骤、方法、制品或装置不必仅限于那些要素，而是可以包括未明确列出的其它要素或此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。连接词“由……组成”排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中，此短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料以外的材料，但与其相关的常规杂质除外。当短语“由……组成”出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时，其仅限定在该子句中描述的要素；其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。当量、浓度、或者其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时，这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开了范围“1～5”时，所描述的范围应被解释为包括范围“1～4”、“1～3”、“1～2”、“1～2和4～5”、“1～3和5”等。当数值范围在本文中被描述时，除非另外说明，否则该范围意图包括其端值和在该范围内的所有整数和分数。在这些实施例中，除非另有指明，所述的份和百分比均按质量计。“质量份”指表示多个组分的质量比例关系的基本计量单位，1份可表示任意的单位质量，如可以表示为1g，也可表示2.689g等。假如我们说a组分的质量份为a份，b组分的质量份为b份，则表示a组分的质量和b组分的质量之比a：b。或者，表示a组分的质量为ak，b组分的质量为bk(k为任意数，表示倍数因子)。不可误解的是，与质量份数不同的是，所有组分的质量份之和并不受限于100份之限制。“和/或”用于表示所说明的情况的一者或两者均可能发生，例如，a和/或b包括(a和b)和(a或b)。下面将结合具体实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。本申请实施例使用的锆白熔块、石英石、硅灰石、哑光熔块、水洗高岭土、煅烧高岭土购自佛山市意达加精密陶瓷科技有限公司，硅酸锆购自美轲(广州)化学股份有限公司，三聚磷酸钠购自佛山市奇毅贸易有限公司，羧甲基纤维素钠购自佛山市杨森化工有限公司。实施例1本实施例提供一种釉料组合物，包括：锆白熔块27kg、石英石5kg、硅灰石5kg、哑光熔块23kg、水洗高岭土10kg、煅烧高岭土7kg和硅酸锆23kg。将上述原料混合后球磨4h，检测细度后出料。使用四维激光雕刻得到精雕模具，四维激光雕刻的光源直径为0.02mm。然后使用等静压模具压机，在压力24000kn条件下压制得到砖坯，砖坯的厚度为9.2mm。将上述砖坯在942℃条件下烧制45min，然后冷却至室温。将准备好的釉料转移至喷釉房，过325目筛，筛余为0.6wt％，过筛后加水38kg搅拌得到釉料，控制釉料的比重为1.68g/ml。调节泵的压力为6bar，观察压力和雾化是否均匀，调节施釉量为132g/0.18m2后开始喷釉。喷釉结束后进行喷墨印花，然后入窑进行烧制，烧制的温度为931℃，时间为50min。烧制结束后，冷却、磨边分选、包装入库。所得瓷砖的外观如图1所示(最左侧)。实施例2本实施例提供一种釉料组合物，由以下原料组成：锆白熔块25kg、石英石4kg、硅灰石7kg、哑光熔块22.3kg、水洗高岭土10kg、煅烧高岭土6kg、硅酸锆25kg、三聚磷酸钠0.2kg和羧甲基纤维素钠0.5kg。将上述原料混合后球磨5h，检测细度后出料。使用四维激光雕刻得到精雕模具，四维激光雕刻的光源直径为0.03mm。然后使用等静压模具压机，在压力26000kn条件下压制得到砖坯，砖坯的厚度为9.5mm。将上述砖坯在1125℃条件下烧制40min，然后冷却至室温。将准备好的釉料转移至喷釉房，过325目筛，筛余为0.3wt％，过筛后加水40kg搅拌得到釉料，控制釉料的比重为1.66g/ml。调节泵的压力为7bar，观察压力和雾化是否均匀，调节施釉量为128g/0.18m2后开始喷釉。喷釉结束后进行喷墨印花，然后入窑进行烧制，烧制的温度为1114℃，时间为45min。烧制结束后，冷却、磨边分选、包装入库。所得瓷砖的外观如图1所示(左起第二个)。实施例3本实施例提供一种釉料组合物，包括：锆白熔块26.5kg、石英石3.5kg、硅灰石6.55kg、哑光熔块21.5kg、水洗高岭土10kg、煅烧高岭土7kg、硅酸锆24.5kg、三聚磷酸钠0.15kg和羧甲基纤维素钠0.3kg。将上述原料混合后球磨4.5h，检测细度后出料。使用四维激光雕刻得到精雕模具，四维激光雕刻的光源直径为0.04mm。然后使用等静压模具压机，在压力25000kn条件下压制得到砖坯，砖坯的厚度为9.3mm。将上述砖坯在1100℃条件下烧制42min，然后冷却至室温。将准备好的釉料转移至喷釉房，过325目筛，筛余为0.4wt％，过筛后加水39kg搅拌得到釉料，控制釉料的比重为1.67g/ml。调节泵的压力为6bar，观察压力和雾化是否均匀，调节施釉量为130g/0.18m2后开始喷釉。喷釉结束后进行喷墨印花，然后入窑进行烧制，烧制的温度为1000℃，时间为48min。烧制结束后，冷却、磨边分选、包装入库。所得瓷砖的外观如图1所示(左起第三个)。实施例4本实施例提供一种釉料组合物，由以下原料组成：锆白熔块27kg、石英石4kg、硅灰石6kg、哑光熔块22.5kg、水洗高岭土10kg、煅烧高岭土7kg、硅酸锆23kg、三聚磷酸钠0.3kg和羧甲基纤维素钠0.2kg。将上述原料混合后球磨5h，检测细度后出料。使用四维激光雕刻得到精雕模具，四维激光雕刻的光源直径为0.03mm。然后使用等静压模具压机，在压力26000kn条件下压制得到砖坯，砖坯的厚度为9.4mm。将上述砖坯在1050℃条件下烧制44min，然后冷却至室温。将准备好的釉料转移至喷釉房，过325目筛，筛余为0.5wt％，过筛后加水39kg搅拌得到釉料，控制釉料的比重为1.66g/ml。调节泵的压力为7bar，观察压力和雾化是否均匀，调节施釉量为130g/0.18m2后开始喷釉。喷釉结束后进行喷墨印花，然后入窑进行烧制，烧制的温度为1100℃，时间为48min。烧制结束后，冷却、磨边分选、包装入库。所得瓷砖的外观如图1所示(最右侧)。测试实施例1到实施例4制得的瓷砖的性能，结果如下表1所示：表1性能测试结果项目破坏强度/n断裂模数/mpa实施例11258.625.89实施例21386.226.85实施例31278.626.27实施例41354.326.45由上表1可知，本申请获得的瓷砖具有较高的强度。经过对实施例1-4得到的瓷砖进行光泽度检测，其光泽度的平均值在12-15之间；从手感上进行主观评价，实施例1-4得到的瓷砖均具有光滑的手感。对比例1本对比例提供一种釉料组合物，包括：锆白熔块27kg、石英石2kg、硅灰石6kg、哑光熔块22.5kg、水洗高岭土10kg、煅烧高岭土7kg、硅酸锆25kg、三聚磷酸钠0.3kg和羧甲基纤维素钠0.2kg。制备方法同实施例4。与实施例4相比，本对比例降低了石英的用量，其光泽度平均值仅为11，而实施例4的光泽度平均值可达到17.5。说明石英石在可以提高本申请提供的瓷砖的表面光泽度。对比例2本对比例提供一种釉料组合物，包括：锆白熔块27kg、石英石4kg、硅灰石4kg、哑光熔块23kg、水洗高岭土10kg、煅烧高岭土7kg、硅酸锆24.5kg、三聚磷酸钠0.3kg和羧甲基纤维素钠0.2kg。制备方法同实施例4。与实施例4相比，本对比例降低了硅灰石的用量，其光泽度平均值仅为11-12之间，而且与实施例4得到的瓷砖相比，手感明显偏粗糙。说明硅灰石在对本申请提供的瓷砖的表面光泽度有一定影响，但主要影响瓷砖表面的光滑度，合适的硅灰石使用量有助于提升瓷砖表面的光滑度。本申请通过对配方的研究，提供的釉料组合物和釉料，兼顾对坯体的遮盖能力、表面质感和发色强弱等等性能。其中，锆白熔块和哑光熔块主要提高白度，遮盖坯体，提升釉料发色水平，改变表面质感，与坯体的膨胀系数匹配；如果配方没有锆白熔块则发色变差，手感不够润滑，会容易露坯体色，砖型不易控制；石英主要改变釉料的光泽度，提高硬度和耐磨度，如果没有石英或含量低，会导致光泽不够，理化性能不达标；高岭土在配方结构中提供al，是配方主要的支架，提高釉料的悬浮性和黏度，使施釉过程操作简便，否则釉浆性能差会容易触变。最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。例如，在上面的权利要求书中，所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。公开于该
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的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。当前第1页1 2 3 

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