化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统的制作方法

本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统。

背景技术：

化学浴镀膜是将镀膜基板置于溶液中，然后使溶液中的镀膜成分自动沉积到镀膜基板上。化学浴镀膜的优点为成本低/易于大规模量产，制程简单易操作。目前，在薄膜太阳能电池领域，常用的化学浴镀膜的方法在玻璃基板上沉积硫化镉薄膜，以形成硫化镉薄膜太阳能电池。

目前，常用的硫化镉镀膜设备有两种，一种是反应槽为立式，来料基板镀膜时，基板竖直放置在反应槽中，另一种是反应槽为水平式，来料基板镀膜时，上腔盖压住镀膜基板及反应平台，由上部管道注入镀膜液至分液盘，分液盘使镀膜液大致均匀分布在整个基板，注入镀膜液后，整个反应平台由底部中心的摇摆电机带动摇摆，使镀膜液均匀分布，镀膜300秒后，腔盖升起，取出镀膜基板。该化学水浴镀膜系统，镀膜较为均匀，但是由于设备镀膜腔室较少，即同时可容纳的镀膜基板较少，所以产能受限制，且设备体积较大。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统，以解决现有技术中化学浴镀膜设备产能低且设备体积较大的问题。

为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案为：

第一方面，本发明提供了一种化学浴镀膜设备，包括：

设备壳体，所述设备壳体围成镀膜腔室；

柔性托盘，设置在所述镀膜腔室内，所述柔性托盘包括至少一个用于放置镀膜基板的容纳槽；

传送装置，设置在所述镀膜腔室内，用于驱动所述柔性托盘绕所述传送装置转动；

喷射装置，设置在所述镀膜腔室内且位于所述柔性托盘的上方，用于向所述容纳槽内喷射镀膜液。

第二方面，本发明提供了一种化学浴镀膜系统，包括：

本发明提供的上述化学浴镀膜设备，所述镀膜腔室包括进料口和出料口；

与所述进料口连通的入料装置，所述入料装置通过所述进料口将镀膜基板传送至所述容纳槽内；

与所述出料口连通的出料装置，所述出料装置用于对镀膜后的基板进行传输和清洗。

本发明提供的上述技术方案与现有技术相比具有如下优点：

本发明的化学浴镀膜设备，包括镀膜腔室与设置于所述镀膜腔室内的柔性托盘、传送装置和喷射装置，其中，柔性托盘包括至少一个容纳槽，用于承载镀膜基板，传送装置用于带动柔性托盘转动，喷射装置用于向容纳槽内喷射镀膜液。可见，本发明中提供了一种较为新颖的镀膜设备，主要采用柔性托盘作为对镀膜基板进行镀膜的反应槽(即容纳槽)，每一柔性托盘中可以设置多个反应槽，且可以在传送装置的带动下围绕传动装置转动，从而有利于依次对多个容纳槽内的基板进行镀膜，有利于提高设备的产能，且对多个反应槽通过回传传送的方式进行设计，进一步节省了设备的体积。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种化学浴镀膜设备的结构示意图；

图2为本发明实施例中提供的一种喷射装置的结构示意图；

图3为本发明实施例中提供的一种混料器与喷射管的连接结构示意图；

图4为本发明实施例中提供的一种柔性托盘的结构示意图；

图5为本发明实施例中提供的第二种化学浴镀膜设备的结构示意图；

图6为本发明实施例中提供的一种刮板式均化机构的结构示意图；

图7为本发明实施例中提供的一种气泡式均化机构的结构示意图；

图8为本发明实施例中提供的一种震动式均化机构的结构示意图；

图9为化学浴镀膜系统中出料装置和镀膜腔室的位置关系结构示意图。

图标：1-设备壳体；10-镀膜腔室；101-排气口；102-进料口；103-出料口；11-传送装置；111-支架；112-支撑结构；113-驱动机构；2-柔性托盘；20-容纳槽；201-底板；21-侧壁；22-加热装置；3-镀膜基板；30-喷射装置；31-喷射管；32-喷嘴；33-混药槽；34-增压器件；35-药液槽；4-出料装置；40-传输辊；41-水刀；42-风刀；43-清洁刷；50-清洗装置；51-集液槽；511-排液口；512-排液管；61-升降电机；62-承托板；63-支撑架；64-刮板；65-支撑柱；66-气泡发生柱；67-震动器。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明用于提供一种化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统，以解决现有技术中化学浴镀膜设备产能低且设备体积较大的问题。

本发明实施例提供的一种化学浴镀膜设备，如图1所示，包括：设备壳体1，设备壳体1围成镀膜腔室10；柔性托盘2，设置在镀膜腔室10内，柔性托盘2包括至少一个用于放置镀膜基板3的容纳槽20；传送装置11，设置在镀膜腔室10内，用于驱动柔性托盘2绕传送装置11转动；喷射装置30，设置在镀膜腔室10内并位于柔性托盘2的上方，用于向容纳槽20内喷射镀膜液。

可以理解的是，除上述部件外，本发明中提供的化学浴镀膜设备还可以包括支架，通过在支架上设置传送装置，从而通过支架可以将传送装置设置在不同高度，进一步使得柔性托盘位于不同的高度。

如图1所示，设备壳体1上还设有用于排酸性气体和/或排碱性气体的排气口11。较佳地，排气口11可以为两个，一个用于排酸性气体，另一个用于排碱性气体，避免酸性气体和碱性气体产生化学反应。其中，设备壳体1上还包括入料口和出料口，在其入料口将待镀膜基板3传送到柔性托盘2上，并通过出料口将镀膜后的基板传送出镀膜腔室10。

本发明中的柔性托盘2可以采用具有柔性且具有韧性的材料进行制作，使得该柔性托盘2可以在围绕传送装置进行转动，且具有支撑作用，可以在传送装置的支撑下形成具有平面底面的容纳槽20，当有镀膜液以及镀膜基板3在容纳槽20内时，柔性托盘2保持水平状态。例如，柔性托盘2可采用高分子聚合物树脂制备而成。柔性托盘2的容纳槽20可以如图1所示，容纳槽20包括底板201和沿底板201的周向设置的侧壁21。其中底板201和侧壁21均为柔性托盘的一部分。

需要说明的是，本发明中容纳槽20的尺寸可以依据产品的要求进行设定，具体的可以根据镀膜基板2的尺寸进行设计。

另外，本发明提供的柔性托盘2中可以包括一个容纳槽20、两个容纳槽20或者更多个容纳槽20。而且一个镀膜腔室10内可以设置一个或者多个传送装置，每一传送装置上设置一个柔性托盘2，即一个镀膜腔室10内可以设置多个柔性托盘2，从而在实际产线上进行镀膜时，可以多个柔性托盘2同时进行工作，使得多个柔性托盘2同时进行镀膜，提高了基板的镀膜效率。如图2所示，柔性托盘2中包括多个容纳槽20，柔性托盘2可以为围绕传送装置的传送带结构一样的托盘，且该托盘上包括多个间隔设置的容纳槽。从而提高镀膜基板的镀膜效率。其中，容纳槽间隔设置可以避免相邻两个容纳槽进行镀膜时相互进行影响。其中，柔性托盘和容纳槽可以为一体式结构，也可以分开设置，在此不做具体限定。

具体地，本发明提供的化学浴镀膜设备，柔性托盘套设在传送装置上，在传送装置的转动作用下围绕其进行转动，从而实现对柔性托盘中容纳槽的循环利用。传送装置带动柔性托盘进行转动，容纳槽中放置基板，且转动到喷射装置下方时喷射装置对基板进行喷射镀膜。另外，柔性托盘能够与镀膜基板进行很好地贴合。当镀膜时，喷射装置向柔性托盘内喷射镀膜液，镀膜液覆盖镀膜基板后，在镀膜基板表面反应沉积形成镀膜层。可见，本发明中提供了一种较为新颖的镀膜设备，主要采用柔性托盘作为对镀膜基板进行镀膜的反应槽(即容纳槽)，每一柔性托盘中可以设置多个反应槽，且可以在传送装置的带动下围绕传动装置转动，从而有利于依次对多个容纳槽内的基板进行镀膜，有利于提高设备的产能，且对多个反应槽通过回传传送的方式进行设计，进一步节省了设备的体积。本实施例提供的化学浴镀膜设备主要采用水平方式进行镀膜，镀膜液在各部位的沉积更均匀，一致性高。本实施例的镀膜设备由于采用在柔性托盘中设置镀膜基板的反应槽，在镀膜过程中可以去除上腔盖和分液盘，从而降低了设备的成本，且结构更加简洁。

在一些可选的实施例中，参见图1，传送装置11包括：支撑结构112，用于支撑柔性托盘2；驱动机构113，与支撑结构112连接，用于驱动柔性托盘2绕支撑结构转动。

可以理解的是，除上述部件外，传送装置11还可以包括支架111，通过在支架111将传送装置11固定在镀膜腔室10内。通过支架111可以将支撑结构112和驱动机构113设置在不同高度，进一步使得柔性托盘2位于不同的高度。另外，支撑结构112和支架111可以为一体式结构，也可以分开设置。

具体地，支撑结构可以为长方体形状的支撑块，柔性托盘围绕该长方体支撑块转动，或支撑结构为环形跑道形状的支撑块；驱动机构包括：设置在支撑结构两侧的转动轴和驱动转动轴旋转的驱动电机。转动轴带动柔性托盘在支撑结构上进行转动，即围绕支撑结构进行旋转。在转动过程中，两转动轴可以分别设置在长方体支撑块的两侧或者设置在环形跑道内，从而带动柔性托盘从上到下-从下到上的循环转动。

可以理解的是，支撑结构用于支撑柔性托盘围绕自身结构进行转动，一般地支撑结构为环形跑道形状，在此不做具体限定。支撑结构至少上表面为平面结构，从而支撑柔性托盘中的容纳槽槽底为平面状。

可选地，可以在支撑结构和柔性托盘之间设置支撑板，从而使支撑板对容纳槽的槽底进行支撑。

具体地，在柔性托盘转动的过程中，置于容纳槽内的镀膜基板随柔性托盘一同运转。当柔性托盘转动到向下的位置时，由于镀膜基板一般为玻璃，不会再随柔性托盘一起运转，此时可以用其他设备或人工将镀膜基板从容纳槽中移开。

继续参照图1，本实施例中的化学浴镀膜设备还包括加热装置22，该加热装置22设置于支撑结构112和柔性托盘2之间，用于给容纳槽20内的镀膜液加热。因此，化学浴镀膜设备中通过设置加热装置22，从而为喷射到容纳槽20中的镀膜液进行加热，以加快镀膜液原料之间相互反应，提高镀膜效率。

可选地，加热装置包括：加热器和与加热器连接的控制器。其中，加热器可以为加热片或者加热管等，控制器用于控制加热器的温度，从而提供适应镀膜液反应的温度。其中，加热器设置在柔性托盘和支撑结构之间，或者也可以设置在支撑结构中。

可以理解的是，加热器为加热管时，可以在加热管中通入液体，如水等，通过对液体的加热实现对容纳槽内镀膜液的加热。

在一些可选的实施例中，如图1和图4所示，本发明中提供的喷射装置30包括：喷射管31，喷射管31上设置有至少一个喷嘴31，喷嘴32的喷出方向朝向容纳槽20；混药槽33，与喷射管31连接，用于给喷射管提供镀膜液。镀膜液从混药槽33进入喷射管31后，从喷嘴32中喷出。镀膜液从喷嘴32喷出后进入容纳槽内对基板进行镀膜。

其中，喷射装置可以包括多根喷射管，如图3所示，喷射管31为多根，且每根喷射管31上均设有喷嘴32。设置多根喷射管31的目的，当其中一根喷射管31处于使用状态时，第二根喷射管31处于混料状态，第三根喷射管31处于清洗状态。由此，通过设置多根喷射管31可以减少工艺节拍，提高镀膜效率。喷射管31可以固定设置于柔性托盘2的上方，也可以移动设置于柔性托盘2的上方。当移动设置时，喷射管31可以从柔性托盘2的一端移动到另一端，并进行往复运动，以实现均匀喷射。其中，喷射管固定设置在柔性托盘上方时，可以在容纳槽运动到喷射管下方时，再对容纳槽进行喷射；当容纳槽的边缘运动到远离喷射管时，喷射管停止喷射镀膜液，从而保证镀膜液完全落入容纳槽内。

具体地，在对混药槽中的药液进行混合前，如图4所示，还包括与混药槽33连通的多个药液槽35，每一药液槽35中容纳有镀膜液的不同原材料，药液槽35中不同的药液分别通入在混药槽33中进行反应形成镀膜液。另外，混药槽33与喷射管31的连接管线上还可以设有增压器件34。

以硫化镉薄膜光伏电池的镀膜工艺为例，镀膜液的原料包括硫脲、硫酸铬、氨水和去离子水；药液槽中分别盛放硫脲、硫酸铬、氨水和去离子水，并进入混药槽进行混合，在增压器件的作用下进入喷射管。其中，混药槽可以为多个。

可以理解的是，混药槽33、增压器件34和喷射管31之间可以设置自动控制阀等部件，以实现各部件之间的联动控制。

在一些可选的实施例中，继续参照图1，本发明提供的上述化学浴镀膜设备还包括设置于传送装置下方的集液槽51，用于在容纳槽20转动至传动装置的底部或者侧面时，收集容纳槽20内的镀膜液；集液槽51内设有排液口511和与排液口511连接的排液管512。

具体地，在通过喷射装置对基板进行镀膜后，容纳槽内还存在一定量的镀膜液，当容纳槽转动到出料口附近，即传送装置的侧面时，镀膜液从容纳槽内流出，并通过集液槽对镀膜液的收集。

可选地，该集液槽的长度大于传送装置的长度，以使废液全部流入集液槽内。

在一些可选的实施例中，参照图1，作为本实施例进一步改进的技术方案，化学浴镀膜设备还包括清洗装置50，清洗装置50设置于传送装置11的下方且位于集液槽51上方，用于对转动至传送装置11底部的容纳槽进行清洗。该方案能够实现在线清洗，无需停机对设备进行清洗，进一步通过柔性托盘的进一步转动，可以对该容纳槽进行循环利用。

具体地，清洗装置包括毛刷；与毛刷连接、用于驱动毛刷运动的驱动单元。可以理解的是，毛刷的驱动单元能够驱动毛刷靠近或远离容纳槽。其中，驱动单元可以为气缸或电机。

可以理解的是，清洗装置还可以采用其他方式进行清洗，例如水利用水对容纳槽进行清洗等方式。

为了进一步提高镀膜层厚度的均匀性，提高容纳槽内的镀膜液的均匀性，该镀膜设备设置了镀膜液均匀装置，用于对容纳槽内的镀膜液进行震荡或搅拌，以使得容纳槽内的镀膜液混合的更加均匀，镀膜效果更佳。

可选地，镀膜液均化装置包括倾斜式均化机构、刮拌式均化机构、气泡式均化机构或震动式均化机构中的至少一种。

可选地，该倾斜式均化机构包括设置于柔性托盘和传送装置之间的承托板、用于驱动承托板倾斜运动的驱动机构，承托板带动柔性托盘震荡。其中，驱动机构例如可以为电机或气囊。

例如，如图5所示，驱动机构为升降电机61，承托板62设置在柔性托盘2和支撑结构112之间，升降电机61设置在承托板62的底部并用于驱动承托板62进行运动。具体地，升降电机61为多个，升降电机61控制承托板62进行上下运动，例如，位于左侧的升降电机61带动承托板62向上运动，同时位于右侧的升降电机61带动承托板62向下运动，在下一秒，则位于左侧的升降电机61带动承托板62向下运动，同时位于右侧的升降电机61带动承托板62向上运动，从而使得柔性托盘2上下震荡，从而实现对容纳槽内镀膜液的均化处理。

另外，承托板62还可以实现对容纳槽20起到支撑作用。

可以理解的是，驱动机构也可以用气囊进行取代，同样可以达到相同的作用效果。

可选地，如图6所示，刮板式均化机构包括：设置在传送装置两侧的支撑架63、设置于支撑架63上的刮板64、以及用于驱动支撑架63竖直和水平运动的第一控制器。其中，刮板64位于容纳槽20的上方，第一控制器可以为气缸控制器或电机控制器。支撑架63在第一控制器的控制下可沿上下方向运动，从而带动刮板64靠近或远离柔性托盘2；同时支撑架63可以在第一控制器的控制下，沿水平方向往复运动，从而带动刮板64沿水平方向往复运动。

利用该刮板式均化机构时，刮板64的作用面在镀膜液的液面和镀膜基板3的镀膜面之间。即，刮板64的下边沿位于镀膜液的液面以下且位于镀膜基板3的镀膜面以上。通过刮板64的水平往复运动实现镀膜液的均化，提高镀膜均匀度。

可选地，如图7所示，气泡式均化机构包括：设置在柔性托盘2上侧的支撑柱65、与支撑柱65连通的气泡发生柱66、以及用于驱动支撑柱65升降的第二控制器；其中，气泡发生柱66上设有出气孔。同样，第二控制器可以为气缸控制器或电机控制器。

具体地，在第二控制器的控制下支撑柱65可在竖直方向上下运动以带动气泡发生柱66以靠近或远离柔性托盘2。镀膜时，气泡发生柱66的出气孔位于镀膜液的液面以下且位于镀膜基板3的镀膜面以上。气体进入气泡发生柱后形成微气泡后从出气孔流出，进入柔性托盘2内的镀膜液中，镀膜液在微气泡的扰动下实现均化。

可选地，如图8所示，震动式均化机构包括：设置于柔性托盘2的侧面，用于驱动柔性托盘2震动的震动器67。通过震动实现镀膜液的均化处理。当然，震动器67还可以设置在柔性托盘2的底部。震动器的具体设置位置在此不做具体限定。

通过上述实施例可知，本发明中的镀膜液均化机构可以选自倾斜式均化机构、刮拌式均化机构、气泡式均化机构或震动式均化机构中的至少一种。

综上所述，本实施例提供的化学浴镀膜设备，具有如下优点：

1)本发明中提供了一种较为新颖的镀膜设备，主要采用柔性托盘作为对镀膜基板进行镀膜的反应槽(即容纳槽)，每一柔性托盘中可以设置多个反应槽，且可以在传送装置的带动下围绕传动装置转动，从而有利于依次对多个容纳槽内的基板进行镀膜，有利于提高设备的产能，且对多个反应槽通过回传传送的方式进行设计，进一步节省了设备的体积，增加了单台设备产能，可实现模块化设计；降低设备机构复杂度，降低宕机率，降低设备造价；

2)进一步地，通过采用喷射装置从上向下喷射药液在容纳槽内，对基板进行镀膜，从而减少镀膜过程中镀膜液的消耗量；

3)进一步地，通过本发明中在镀膜设备中增加镀膜液均化装置，从而提高了镀膜液的均匀性提升了镀膜基板镀膜层厚度的均匀性；

4)进一步地，本发明中提供的镀膜设备中，镀膜腔室内包括对柔性托盘的清洗装置，从而使得当容纳槽转动到传动装置下方时，对容纳槽进行清洗，另外，柔性托盘的性质也方便维护，因此本发明中的镀膜设备即方便清洗也方便维护操作。

基于同一发明思想，本实施例提供了一种化学浴镀膜系统，如图9所示，该化学浴镀膜系统包括上述实施例中提供的任一种的化学浴镀膜设备，其中，镀膜腔室10包括进料口102和出料口103；与进料口102连通的入料装置，入料装置通过进料口102将镀膜基板传送至容纳槽内；与出料口103连通的出料装置4，出料装置4用于镀膜后的基板的进行传输和清洗。

镀膜前，为了实现镀膜基板的自动传输，该镀膜系统设置了入料装置，该入料装置中设置有多排传输辊，利用传输辊的转动将镀膜基板通过进料口传送至容纳槽内。当镀膜完成后，为了避免人工移走镀膜基板时污染镀膜层，该实施例的镀膜系统设置了出料装置。

继续参照9所示，出料装置4包括：传输辊40，用于接收出料口103传输出的基板，并将基板沿传输辊40的传输方向将基板进行传送；水刀41，设置在传输辊40的上方和/或下方，用于对基板进行清洗；风刀42，设置在传输辊的上方和/或下方，用于对经过水刀41清洗后的基板进行干燥。

该出料装置中的传输辊40与出料口等高水平设置。传输辊40的传送方向与柔性托盘的传送方向相同。当镀膜基本与柔性托盘分离后，镀膜后的基板在多排传输辊40的作用下继续沿原来的传送方向行进，进而逐步离开镀膜腔室。

可选地，如图9所示，在通过水刀41对基板进行清洗后，以及在通过风刀42对基板进行干燥前，还可以在水刀41和风刀42之间设置清洁刷43，用于对基板的进一步清洁。具体地，在出料装置4中，在多排传输辊的中间穿插设置有清洁刷43，利用清洁刷以对镀膜后的基板进行清洁；在传输辊40的上方和下方均设有风刀42，以对镀膜后的基板进行干燥。

需要说明的是，出料装置还可以包括其他结构的清洗机，在此不做具体限定。上述起到传输作用的传输辊也可以为传送带等结构，在此不做具体限定。

利用本发明的化学浴镀膜系统进行镀膜的工艺过程如下：

首先，将镀膜基板3放置在入料装置中，入料装置中的传输辊将镀膜基板3送至镀膜腔室10内的容纳槽20中。当镀膜基板3随容纳槽20运动至喷射装置30的下方时，喷射装置30开始向容纳槽20喷射镀膜液。此时，加热装置22也开始加热。镀膜液在容纳槽20内充分反应，并在镀膜基板3表面沉积形成镀膜层。随后，镀膜基板3随容纳槽继续前移，当达到传送装置11的一端时，柔性托盘2上的容纳槽20随柔性托盘2绕传送装置11运动，容纳槽20中的镀膜液流入到集液槽51中，而镀膜基板3则从镀膜腔室10的出料口103处出料并进入出料装置4。最后，在出料装置4中，在传输辊40传动作用下继续移动，在移动过程中，依次经水刀41、清洁刷43和风刀42的作用进行清洗和干燥，进而完成镀膜的整个过程。

需要说明的是：容纳槽20将镀膜液流入到集液槽51后，随着柔性托盘绕传送装置11的进一步移动，容纳槽20被转动到传送装置11下方，进一步通过设置在传送装置11和集液槽51之间的清洗装置50进行清洗，并随着传送装置11的进一步转动，转动到上方，继续用于容纳镀膜基板和镀膜液，从而实现容纳槽20的循环利用，且镀膜设备可以不停机直接进行镀膜，提高了镀膜基板的效率，进一步提高产量。

可选地，为了提高镀膜效率，可以控制传送装置在镀膜基板通过喷射装置进行镀膜过程中，暂时停止转动，从而避免由于传送装置带动柔性托盘转动过程中对镀膜造成不均匀的影响。

需要说明的是，在本文中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本发明的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所发明的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

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