[0001]本实用新型涉及高纯金属靶材生产技术领域，具体为一种高纯金属靶材生产用搬运装置。背景技术：[0002]高纯金属靶材是是靶材的一种，靶材通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类

• 轴承
• 气泵
• 靶材

查看详情

本发明涉及一种二硫化钼掺银的硫化薄膜，特别涉及一种二硫化钼掺银的硫化薄膜及其制备方法，以及其硫化处理方法，可用于真空-大气环境下交变服役的基体表面，属于表面处理技术领域。背景技

• 靶材
• 磁控溅射
• 硫化工艺

查看详情

[0001]本发明属于印刷电路板加工技术领域，涉及一种印刷电路板钻针的复合涂层及其制备方法。背景技术：[0002]随着电子通信行业的快速发展，尤其是5g技术的商用，对印刷电路板

• 靶材
• 涂层刀具
• 钻石
• 占空比

查看详情

[0001]本发明属于靶材制备技术领域，涉及一种靶材表面的清洗方法。背景技术：[0002]随着半导体行业的快速发展，镀膜材料作为半导体电子器件制造的重要材料，其需求量也日益增加

• 靶材
• 超纯水
• 高压水枪

查看详情

本发明涉及一种两步高通量法外延生长成分连续可调的第二代单晶高温合金的方法，属于材料科学与工程领域。背景技术：高温合金是指以铁、镍、钴为基，可在600℃以上的高温及一定应力作用下

• 靶材
• 外延生长
• 磁控溅射
• 镍基合金
• 单晶叶片

查看详情

本发明涉及一种孤立zno微米棒的制备方法，属于半导体微纳结构制备技术领域。背景技术：zno是ⅱ-ⅵ族直接带隙化合物半导体材料，禁带宽度为3.37ev，室温下激子束缚能高达60m

• 靶材
• 纳米效应
• 微米
• 纳米
• 电子束

查看详情

本发明属于玻璃加工技术领域，具体涉及镀膜玻璃及其制造方法。背景技术：ito导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法沉积一层氧化铟锡薄膜加工制作成的。ito

• 镀膜玻璃
• 靶材
• 磁控溅射
• 射频溅射
• 真空度

查看详情

本发明涉及节能玻璃技术领域，特别涉及一种离线银基low-e玻璃及其制备方法。背景技术：玻璃由于其良好的通透性和采光性，防紫外线及防风雪功能，被广泛应用于建筑上，随着社会对于玻璃

• 磁控溅射
• 玻璃镀膜
• low-e
• low-e玻璃
• 靶材

查看详情

本发明涉及显示器件领域，具体涉及一种高阻膜的制备方法与应用。背景技术：随着电子、通信技术的发展，各种电子显示设备层出不穷，液晶显示器(liquidcrystaldisplay，

• 靶材
• 磁控溅射
• 液晶材料

查看详情

本申请涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种陶瓷结构件的制备方法、陶瓷结构件及电子设备。背景技术：随着消费者对手机、平板电脑等电子设备整体外观质感的追求，占据移动终端外表面较大部

• 陶瓷
• 增透膜
• 靶材
• 喷枪

查看详情