低辐射玻璃的制作方法

本实用新型属于玻璃技术领域，尤其涉及一种低辐射玻璃。

背景技术：

low-e玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃的表面镀上低辐射膜层，低辐射膜层由多层金属或其他化合物组成，特别是低辐射膜层里面含有纯银层，对红外线具有高强的反射率，使低辐射膜玻璃具有一定的节能性。低辐射玻璃在完成镀膜加工后，紧接着是切割、磨边、钢化、夹层、中空等加工工序，在每一道加工工序都会有一定比例的低辐射玻璃因脱膜而报废，严重影响低辐射玻璃的生产和成品率。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种低辐射玻璃，旨在解决现有技术中的低辐射玻璃在生产加工过程中存在脱膜的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种低辐射玻璃包括玻璃基板、低辐射膜层和氧化硅层，所述低辐射膜层包括依次叠层设置的第一介质层、第二介质层、第一银层、第一保护层、第三介质层、第二银层、第二保护层和第四介质层；所述氧化硅层覆盖于所述玻璃基板的表面，所述低辐射膜层覆盖于所述氧化硅层背向所述玻璃基板的表面，所述第一介质层背向所述第二保护层的表面与所述氧化硅层相接。

可选地，所述氧化硅层的厚度范围为12nm～15nm。

可选地，所述第二介质层为含有氧化锌和锌的混合物膜层。

可选地，所述混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量范围为90％～95％。

可选地，所述第二介质层的厚度范围为12nm～18nm。

可选地，所述第三介质层为含有氧化锌和锌的混合物膜层。

可选地，所述混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量范围为90％～95％。

可选地，所述第一介质层为氮化硅层。

可选地，所述第一介质层的厚度范围为10nm～12nm。

可选地，所述第四介质层的厚度范围为45nm～55nm。

本实用新型提供的低辐射玻璃中的上述一个或多个技术方案至少具有如下技术效果之一：该低辐射玻璃的低辐射膜层与玻璃基板之间通过氧化硅层连接，氧化硅层具有较强的粘合作用力，大大提高了低辐射膜层和玻璃基板之间结合力，连接强度高，稳定性好，提高了该低辐射玻璃的耐磨性能，也解决了低辐射玻璃在后续的加工过程中的脱膜问题，提高了成品率，避免了材料的浪费，大大节约了生产成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的低辐射玻璃的截面图。

其中，图中各附图标记：

10—玻璃基板20—低辐射膜层21—第一介质层

22—第二介质层23—第一银层24—第一保护层

25—第三介质层26—第二银层27—第二保护层

28—第四介质层30—氧化硅层。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图1描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1所示，在本实用新型的一个实施例中，提供一种低辐射玻璃，其主要作为建筑节能玻璃使用，该低辐射玻璃包括：

玻璃基板10；

低辐射膜层20，包括依次叠层设置的第一介质层21、第二介质层22、第一银层23、第一保护层24、第三介质层25、第二银层26、第二保护层27和第四介质层28；

氧化硅层30，覆盖于玻璃基板10的表面，低辐射膜层20覆盖于氧化硅层30背向玻璃基板10的表面，第一介质层21背向第二保护层27的表面与氧化硅层30相接。

具体地，本实用新型实施例的低辐射玻璃，低辐射膜层20与玻璃基板10之间通过氧化硅层30连接，氧化硅层30具有较强的粘合作用力，大大提高了低辐射膜层20和玻璃基板10之间结合力，连接强度高，稳定性好，提高了该低辐射玻璃的耐磨性能，也解决了低辐射玻璃在后续的加工过程中的脱膜问题，提高了成品率，避免了材料的浪费，大大节约了生产成本。

进一步地，低辐射膜层20内设有第一银层23和第二银层26，双层银层的设置，提高对红外线的反射率，使得该低辐射玻璃具有良好的节能性。

优选地，玻璃基板10为浮法玻璃。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的氧化硅层30的厚度范围为12nm～15nm。具体地，氧化硅层30的厚度可以为12nm、13nm、14nm或者15nm，若氧化硅层30的厚度过小，无法将低辐射膜层20和玻璃基板10可靠地粘结在一起；若氧化硅层30的厚度过大，低辐射玻璃的厚度过厚，浪费材料。

优选地，氧化硅层30的厚度为12nm。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的第二介质层22为含有氧化锌和锌的混合物膜层。具体地，第二介质层22由氧化锌和锌的混合物制成，当第一银层23沉积或者溅射在混合物膜层上时，第一银层23在氧化锌上的表面铺设平整性好，提高了第一银层23与第二介质层22之间结合力，解决了第一银层23脱落的问题，提高了低辐射膜层20的稳定可靠性以及耐磨性能。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量范围为90％～95％。具体地，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量可以为90％、91％、92％、93％、94％或者95％，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量高，说明混合物膜层内的氧化锌含量高，这样第一银层23大部分能够与第二介质层22内的氧化锌连接，从而大幅度地提高了第一银层23与第二介质层22之间的结合力，从而避免第一银层23脱落的问题，提高了低辐射膜层20的稳定可靠性以及耐磨性能。

进一步地，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量范围可以为92％～95％或者93％～94％。

优选地，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量可以为90％。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的第二介质层22的厚度范围为12nm～18nm。具体地，第二介质层22的厚度可以为12nm、14nm、16nm或者18nm，若第二介质层22的厚度过小，无法紧密将第一介质层21与第一银层23连接起来，若第二介质层22的厚度过厚，会影响低辐射玻璃的光学性能。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的第三介质层25为含有氧化锌和锌的混合物膜层。具体地，第三介质层25由氧化锌和锌的混合物制成，当第二银层26沉积或者溅射在混合物膜层上时，第二银层26在氧化锌上的表面铺设平整性好，提高了第二银层26与第三介质层25之间结合力，解决了第二银层26脱落的问题，提高了低辐射膜层20的稳定可靠性以及耐磨性能。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量范围为90％～95％。具体地，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量可以为90％、91％、92％、93％、94％或者95％，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量高，这样第二银层26大部分能够与第三介质层25内的氧化锌连接，从而大幅度地提高了第二银层26与第三介质层25之间的结合力，从而避免第二银层26脱落的问题，提高了低辐射膜层20的稳定可靠性以及耐磨性能。

进一步地，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量范围可以为92％～95％或者93％～94％。

优选地，混合物膜层内的氧化锌质量百分比含量可以为90％。

进一步地，第三介质层25的厚度范围为15nm～18nm。其中，第三介质层25的厚度可以为15nm、16nm、17nm或者18nm。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的第一介质层21为氮化硅层。具体地，第一介质层21由氮化硅制成，由于氮化硅和氧化硅内均含有硅原子，其材料相近，第一介质层21与第二介质层22之间连接更为稳定可靠，有效地防止第一介质层21与第二介质层22分离而造成的脱膜问题，大大提高了该低辐射玻璃的耐磨性能。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的第一介质层21的厚度范围为10nm～12nm。具体地，第一介质层21的厚度可以为10nm、11nm或者12nm，第一介质层21起着连接玻璃基板10和第二介质层22的作用，也可以起到减少光的反射的作用；若该厚度设置的过小，无法将玻璃基板10和第二介质层22稳定连接在一起；若该厚度设置的过大，会影响低辐射玻璃的光学性能。

优选地，第一介质层21的厚度为12nm。

在本实用新型的另一个实施例中，提供的该低辐射玻璃的第四介质层28的厚度范围为45nm～55nm。具体地，第四介质层28的厚度可以为45nm、46nm、47nm、48nm、49nm、50nm、51nm、52nm、53nm、54nm或者55nm，位于该第四介质层28保护整个低辐射膜层20，其厚度设置较厚，可以抵抗外部的划伤，使得该低辐射玻璃具有良好的抗划伤性能、耐磨性能、抗腐蚀性能、硬度以及韧性；若厚度设置的过小，第四介质层28易于损坏；若厚度设置的过大，第四介质层28的韧性差，低辐射玻璃易于破损。

进一步地，第四介质层28由氮化物或氧化物制成，如sizrox、tio2、sio2、ta2o5、sinxoy、bio2、al2o3、nb2o5、si3n4、azo等。

进一步地，第一保护层24和第二保护层27均镍铬层，镍铬层主要用于保护第一银层23或者第二银层26，避免第一银层23和第二银层26氧化。

进一步地，第一保护层24的厚度范围为2nm～3nm，第二保护层27的厚度范围为1nm～1.5nm。其中，第一保护层24的厚度可以为2nm、2.5nm或者3nm；第二保护层27的厚度可以为1nm、1.2nm、1.4nm或者1.5nm。

进一步地，第一银层23的厚度范围为12nm～15nm，第二银层26的厚度范围为10nm～12nm。其中，第一银层23的厚度可以为12nm、13nm、14nm或者15nm，第二银层26的厚度可以为10nm、11nm或者12nm。

下面对本实用新型实施例的低辐射玻璃的制作过程中进行说明：将玻璃基板10通过纯水清洗吹干后，通过真空离子磁控溅射法控制离子层在玻璃基板10的表面按工艺厚度不同且依次沉积得到氧化硅层30、第一介质层21、第二介质层22、第一银层23、第一保护层24、第三介质层25、第二银层26、第二保护层27和第四介质层28，最终达到所需要的颜色、节性能以及高耐磨性的低辐射玻璃。

以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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