一种抛光机的喷淋除尘装置及抛光机的制作方法

一种抛光机的喷淋除尘装置及抛光机
[0001]
技术领域：本发明涉及抛光设备研发设计技术领域，尤其涉及一种抛光机的喷淋除尘装置及抛光机。
[0002]


背景技术：
：在抛光打磨作业过程中，由于受诱导气流的影响会产生粉尘的飞扬现象，如果没有适当的防护措施，会严重危害操作人员的健康，粉尘浓度超标极易引发爆炸，存在严重的安全隐患，对于抛光过程中产生的粉尘颗粒处理以及进行处理产生的废水回收处理、排出的颗粒物气体处理，均是需要进一步的研发改进的问题。
[0003]


技术实现要素：
：本发明的目的之一在于解决背景技术中至少一种技术问题而开发的一种抛光机的喷淋除尘装置及抛光机。
[0004]
为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：一种抛光机的喷淋除尘装置，其特征在于：在位于汽水回收口顶部设置水帘除尘机构，水帘除尘机构包括集水槽，集水槽位于汽水回收口的一侧设置有溢流板，溢流板的溢流口相对于汽水回收口设置，设置有水泵通过送水管连通集水槽，所述的溢流板包括溢流板主体以及设置于所述的溢流板主体上的溢流组件，所述的溢流组件设置于所述的溢流板主体顶部一侧，所述的溢流板主体上的溢流组件包括锯齿状的锯齿溢流段间隔分布于所述的溢流板主体顶部上。
[0005]
可选的，在位于所述的溢流组件的锯齿溢流段底部设置有通孔溢流段，所述的通孔溢流段包括间隔分布于所述的锯齿溢流段底部的溢流通孔。
[0006]
可选的，所述的通孔溢流段的两侧通孔直径小于中心通孔直径。
[0007]
可选的，所述的溢流板主体与所述的集尘槽之间设置有连接板，所述的连接板底部与除尘槽的连接处设置汽水回收口。
[0008]
可选的，所述的连接板的一端设置于所述的溢流通孔底部，所述的连接板的另一端往集尘槽方向斜向延伸。
[0009]
可选的，所述的抛光机主体内设置有中转水腔，所述的除尘槽位于中转水腔的一侧设置有汽水回收口，汽水回收口连通所述的中转水腔，中转水腔位于抛光机主体后部设置有主排水口，抛光机主体在所述的主排水口处设置废水回收槽。
[0010]
可选的，所述的除尘槽由工作工位一侧往其汽水回收口方向下斜向延伸设置。
[0011]
可选的，所述的废水回收槽在与所述的主排水口之间设置有废水过滤网。
[0012]
可选的，所述的主排水口设置于废水回收槽顶部一侧，所述的废水排水槽内设置有由控制器控制连接的用于监测废水回收槽内液位高度的液位高度监测器。
[0013]
一种抛光机，包括抛光机主体以及控制器，在位于抛光机前部设置第一抛光室、第二抛光室，所述的第一抛光室、第二抛光室内设置上述任一结构的对抛光过程中的粉尘颗粒进行喷淋除尘处理的喷淋除尘装置，设置用于工件抛光的抛光组件包括在位于所述的第一抛光室、第二抛光室内分别设置有抛光轮，两组抛光轮由旋转电机传动连接并带动其所述的抛光轮旋转。本发明的优点在于：可以实现对抛光过程中的粉尘颗粒进行加湿，降低爆炸以及工作人员吸入的可能性，并在配合上述的锯齿溢流段或通孔溢流段的双重溢出，可
以保持复合双重的水帘，除尘效果，除尘效果更佳。
[0014]
附图说明：附图1为应用于抛光机立体1结构示意图；附图2为应用于抛光机主视结构示意图；附图3为应用于抛光机立体2结构示意图；附图4为应用于抛光机侧板拆解1结构示意图；附图5为应用于抛光机侧板拆解2结构示意图；附图6为应用于抛光机的废水排水槽结构示意图；附图7为应用于抛光机溢流组件结构示意图；附图8为应用于抛光机的气流走向结构示意图；附图9为应用于抛光机的抛光尘挡罩结构图1；附图10为应用于抛光机的抛光尘挡罩结构图2；附图标记：1-抛光机主体、101-第一抛光室、102-第二抛光室、2-抛光组件、21-抛光轮、22-旋转电机、23-保护挡罩、3-除尘槽、4-抛光尘挡罩结构、40-抛光尘挡罩、41-滑块、5-喷淋除尘装置、51-汽水回收口、511-连接板、52-溢流板、521-锯齿溢流段、522-通孔溢流段、53-集水槽、6-废水回收槽、60-主排水口、7-气体除尘处理装置、71-中转气腔、72-负压抽气设备、73-除尘过滤腔室、74-主排气口、75-气液分离机构、751-气液分离通道、752-气液分离过滤板、8-控制器、9-照明灯。
[0015]
具体实施方式：以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0016]
在本发明中的描述中,在未作相反说明的情况下，“上、下、内、外”等包含在术语中的方位词仅代表该术语在常规使用状态下的方位，或为本领域技术人员理解的俗称，而不应视为对该术语的限制。
[0017]
在本发明中的描述中，在其不同的实施方式中，不同技术特征以及技术方案中，在技术特征以及技术方案之间未构成冲突既可以相互配合使用。
[0018]
本发明的说明书和权利要求书以及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解，这样描述的对象在适当情况下可以互换。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
[0019]
实施例1：参照图1-10，：一种抛光机，包括抛光机主体以及控制器8，在位于抛光机前部设置第一抛光室101、第二抛光室102，设置有用于挡止在抛光过程中产生的粉尘颗粒的抛光尘挡罩结构4，所述的第一抛光室101、第二抛光室102内设置有对抛光过程中的粉尘颗粒进行喷淋除尘处理的喷淋除尘装置5，在位于抛光机主体1上还设置有用于对抛光过程中产生的灰尘进一步回收的气体除尘处理装置7，设置用于工件抛光的抛光组件2包括在位于所述的第一抛光室101、第二抛光室102内分别设置有抛光轮21，两组抛光轮21由旋转电机22传动连接并带动其所述的抛光轮21旋转。
[0020]
喷淋除尘装置包括除尘槽3的汽水回收口顶部设置水帘除尘机构，水帘除尘机构包括集水槽53，集水槽53位于汽水回收口51的一侧设置有溢流板52，溢流板52的溢流口相
对于汽水回收口51设置，设置有水泵通过送水管连通集水槽53，优选的，汽水回收口51为两组并且间隔设置。
[0021]
其中，所述的溢流板52包括溢流板主体520以及设置于所述的溢流板主体上的溢流组件，所述的溢流组件设置于所述的溢流板主体520顶部一侧，所述的溢流板主体520上的溢流组件包括锯齿状的锯齿溢流段521间隔分布于所述的溢流板主体顶部上，在位于所述的溢流组件的锯齿溢流段521底部设置有通孔溢流段522，所述的通孔溢流段522包括间隔分布于所述的锯齿溢流段底部的溢流通孔。
[0022]
其中，所述的通孔溢流段522的两侧通孔直径小于中心通孔直径,中心位置可以相对于汽水回收口设置，以降低水分的浪费。
[0023]
具体的基于本实施例中，集水槽53内的水流可以通过锯齿溢流段521或通孔溢流段522溢出，具体的，配合上述的锯齿溢流段521或通孔溢流段522的双重溢出，可以保持复合双重的水帘，除尘效果，除尘效果更佳。
[0024]
其中，所述的溢流板主体520与所述的集尘槽之间设置有连接板511，所述的连接板511底部与除尘槽3的连接处设置汽水回收口51，所述的连接板511的一端设置于所述的溢流通孔底部，所述的连接板的另一端往集尘槽方向斜向延伸，具体的，溢流的水流可以通过连接板流出至汽水回收口处，以使夹带粉尘颗粒的气流通过汽水回收口时，由水帘进行加湿避免发生爆炸的问题。
[0025]
其中，为进一步的对溢流后的废水进一步的收集处理，在所述的抛光机主体1内设置有中转水腔50，所述的除尘槽位于中转水腔50的一侧设置有汽水回收口51，汽水回收口51连通所述的中转水腔50，中转水腔50位于抛光机主体1后部设置有主排水口60，抛光机主体1在所述的主排水口60处设置废水回收槽6。
[0026]
其中，所述的除尘槽3由工作工位一侧往其汽水回收口51方向下斜向延伸设置，而在加工人员进行抛光时，粉尘落入至除尘槽内水流并排出至主排水口60排出。
[0027]
其中，所述的主排水口60设置于废水回收槽6顶部一侧，所述的废水排水槽6内设置有由控制器控制连接的用于监测废水回收槽内液位高度的液位高度监测器，可以实现对主排水口中排出的废水高度进一步的监测，避免溢出。
[0028]
其中，所述的废水回收槽6在与所述的主排水口60之间设置有废水过滤网63,所述的废水过滤网63通过可拆卸的夹设机架62固设于所述的废水回收槽6上。
[0029]
其中，为进一步的对废水过滤网63进行夹设定位，所述的可拆卸的夹设机架包括多组上机架以及下机架，所述的废水过滤网夹设于所述的上机架与下机架之间。
[0030]
其中，设置竖向传动件通过连接杆传动所述的上机架抬升或下降以松开或夹设废水过滤网，竖向传动件可以为直线推动杆或驱动气缸，适用于自动化定位废水过滤网63。
[0031]
其中，为进一步的实现对废水过滤网63进行收卷以及放卷，在所述废水回收槽在位于所述的过滤网的一端设置有放卷机构64，过滤网组卷设于所述的放卷机构的放卷辊,所述废水回收槽6在位于所述的过滤网的一端设置有收卷机构65，过滤网组卷设于所述的收卷机构的收卷辊.优选的，所述的放卷辊以及收卷辊之间设置有张紧辊，适用于本实施例中，配合该放卷机构以及收卷机构，可以持续放卷以及收卷废水过滤网63，而无须人工替换废水过滤网63，相对于传统的摆放废水过滤网之后替换的做法，效率以及整体利用率高，过滤效果好。
[0032]
其中，废水回收槽6在位于所述的收卷辊的一侧设置有烘干鼓风机66，烘干鼓风机66相对于所述的收卷辊一侧设置，具体的目的在于对过滤收卷之后的废水过滤网进一步的干燥祛除废水过滤网中夹设的水分。
[0033]
当然，以上仅为本发明较佳实施方式，并非以此限定本发明的使用范围，故，凡是在本发明原理上做等效改变均应包含在本发明的保护范围内。

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