一种陶瓷加工用的砖面抛光装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及陶瓷加工技术领域，更具体地说，涉及一种陶瓷加工用的砖面抛光装置。


背景技术：

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目前，陶瓷砖产品在生产加工过程中，尤其是抛光加工之后，需要对砖面进行防污的加工处理，即在抛光好的砖面上涂覆防污、防渗材料，通过防污材料覆盖瓷砖表面的微孔，形成防污层，从而提高瓷砖表面的抗污性能。
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基于以上描述，并检索了一件申请号为：cn201821906678.6的实用新型专利，其关于一种陶瓷设备用的抛光装置，包括装置框，所述装置框内顶部安装有抛光主机......所述装置框右侧内壁靠近抛光盘的右侧安装有降温喷头。通过检索发现，主要是通过降温喷头、过滤箱、抛光盘、污水槽、污水管、过滤网和活性碳层等来实现对陶瓷砖面的抛光工作，具有降噪、能够对水资源进行循环利用等特点。
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通过检索分析后，发现该抛光装置在实际使用中可能存在以下问题，由于该抛光装置处的载物块不具备夹持功能，当陶瓷砖直接放入至载物块处进行抛光作业时，其陶瓷砖可能会因为抛光盘的旋转而出现甩飞或位移等情况，这样就会对陶瓷砖造成磕碰等问题，因此，基于以上问题，需要一种陶瓷加工用的砖面抛光装置。


技术实现要素：

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(一)解决的技术问题
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本实用新型旨在于在解决当在对陶瓷砖面进行抛光作业时，通过其装置，能够对陶瓷砖面进行抵紧，从而避免在抛光作业中瓷砖容易出现晃动或位移等情况。
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(二)技术方案
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本实用新型提供了一种陶瓷加工用的砖面抛光装置，包括设备主体、抛光座，抛光座固定设置于设备主体的内部底端处，设备主体还包括有电机、抛光盘、伸缩气缸、连接板，电机活动设置于设备主体的内部，且电机固定设置于连接板的底部端面处，伸缩气缸固定设置于设备主体的内壁顶端处，且伸缩气缸杆体的一端固定连接于连接板的顶部端面处，连接板活动设置于设备主体的内部；
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抛光座还包括有陶瓷砖主体、套管、支撑杆、挤压弹簧、抵板、开槽、活动转辊、摩擦块、导水槽、导水板，陶瓷砖主体放置设置于抛光座顶部端面处，套管固定设置于抛光座的内壁左侧处和内壁右侧处，支撑杆活动设在于套管的内部，挤压弹簧固定设置于套管的内部，且挤压弹簧的一端固定连接有支撑杆，抵板固定设置于支撑杆的外侧端面处，开槽嵌入式设置于抵板的外侧端面处，活动转辊转动设置于开槽的内壁端面处，摩擦块固定设置于活动转辊的外侧端面处，导水槽贯穿设置于抛光座的顶部端面处，导水板固定设置于抛光座的内壁端面处。
[0010]
优选的：设备主体的内壁与连接板的连接处还嵌入式设置有矩形状滑槽，并且其
滑槽与连接板相互契合。
[0011]
优选的：抛光座整体为凹槽状结构设置，其后侧端面则为闭合式设置。
[0012]
优选的：套管和支撑杆整体均为圆柱状结构设置，并且其套管的内壁直径与支撑杆的直径相互契合。
[0013]
优选的：开槽整体为矩形状结构设置，并且其开槽的体积大于活动转辊的面积，同时活动转辊与开槽的连接处还配套设置有转轴。
[0014]
优选的：摩擦块均为胶质、软性材料设置，均固定设置于活动转辊的外侧端面处。
[0015]
优选的：导水槽整体为梯形状结构设置，而导水板则为斜面式结构设置。
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有益效果：
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1、这种陶瓷加工用的砖面抛光装置设置有套管、支撑杆、挤压弹簧和抵板，能够对抛光座处的陶瓷砖主体外端面进行夹持和抵紧工作，这样就可以避免陶瓷砖主体在抛光作业时可能出现位移等情况。
[0018]
2、这种陶瓷加工用的砖面抛光装置设置有抵板、开槽、活动转辊和摩擦块，能够快速的将陶瓷砖卡入至抛光座的内部，这样能够提升其陶瓷砖的放置便捷性。
[0019]
3、这种陶瓷加工用的砖面抛光装置设置有导水槽、导水板和抛光座，能够对抛光座内侧端面处的污水进行引导，这样可以避免部分污水残留至抛光座处等情况。
附图说明：
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图1为本实用新型的一种陶瓷加工用的砖面抛光装置正面示意图。
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图2为本实用新型的活动转辊侧面示意图。
[0022]
图3为一种陶瓷加工用的砖面抛光装置图1中的a处正面放大示意图。
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图4为一种陶瓷加工用的砖面抛光装置图1中的b处局部解刨侧面示意图。
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图1-4中：1-设备主体；101-电机；102-抛光盘；103-伸缩气缸； 104-连接板；2-抛光座；201-陶瓷砖主体；202-套管；2021-支撑杆； 2022-挤压弹簧；203-抵板；2031-开槽；2032-活动转辊；2033-摩擦块；204-导水槽；2041-导水板。
具体实施方式
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如附图1至附图4所示：本实用新型提供一种技术方案，一种陶瓷加工用的砖面抛光装置，包括设备主体1、抛光座2，抛光座2固定设置于设备主体1的内部底端处，设备主体1还包括有电机101、抛光盘102、伸缩气缸103、连接板104、水箱105、污水管106、抽水泵107、喷头108，电机101活动设置于设备主体1的内部，且电机101固定设置于连接板104的底部端面处，伸缩气缸103固定设置于设备主体1的内壁顶端处，且伸缩气缸103杆体的一端固定连接于连接板104的顶部端面处，连接板104活动设置于设备主体1的内部，水箱105固定设置于设备主体1的底部端面处，污水管106嵌入式设置于抛光座2的内部底端处，且污水管106的另一端分别嵌入式连接有抽水泵107和喷头108，抽水泵107配套设置于水箱105的右侧端面处，喷头108108配套设置于设备主体1的内部右侧处；
[0026]
抛光座2还包括有陶瓷砖主体201、套管202、支撑杆2021、挤压弹簧2022、抵板203、开槽2031、活动转辊2032、摩擦块2033、导水槽204、导水板2041，陶瓷砖主体201放置设置于抛光座2顶部端面处，套管202固定设置于抛光座2的内壁左侧处和内壁右侧处，支撑杆2021
活动设在于套管202的内部，挤压弹簧2022固定设置于套管202的内部，且挤压弹簧2022的一端固定连接有支撑杆2021，抵板203固定设置于支撑杆2021的外侧端面处，开槽2031嵌入式设置于抵板203的外侧端面处，活动转辊2032转动设置于开槽2031的内壁端面处，摩擦块2033固定设置于活动转辊2032的外侧端面处，导水槽204贯穿设置于抛光座2的顶部端面处，导水板2041固定设置于抛光座2的内壁端面处。
[0027]
其中：设备主体1的内壁与连接板104的连接处还嵌入式设置有矩形状滑槽，并且其滑槽与连接板104相互契合，通过滑槽与连接板 104的契合设置，能够使连接板104在滑槽和设备主体1内部进行平稳的上下运动，这样便于为电机11和抛光盘102提供稳定的支撑点。
[0028]
其中：抛光座2整体为凹槽状结构设置，其后侧端面则为闭合式设置，通过抛光座2的形状和布局设置，当陶瓷砖主体201放置在抛光座2处时，能够便于对陶瓷砖主体201的外侧端面进行限位和夹持。
[0029]
其中：套管202和支撑杆2021整体均为圆柱状结构设置，并且其套管202的内壁直径与支撑杆2021的直径相互契合，通过套管202 和支撑杆2021的形状和布局设置，能够增加支撑杆2021与套管202 内壁之间的摩擦力，这样可以使其支撑杆2021能够稳定的在套管202 处进行滑动，从而就便于保障活动转辊2032和摩擦块2033对陶瓷砖主体201的夹持力度。
[0030]
其中：开槽2031整体为矩形状结构设置，并且其开槽2031的体积大于活动转辊2032的面积，同时活动转辊2032与开槽2031的连接处还配套设置有转轴，通过其开槽2031和转轴的形状和布局设置，能够使活动转辊2032稳定的在开槽2031内部处进行转动，这样能够方便将陶瓷砖主体201快速的卡入至抛光座2处。
[0031]
其中：摩擦块2033均为胶质、软性材料设置，均固定设置于活动转辊2032的外侧端面处，通过摩擦块2033的材质设置，能够对陶瓷砖主体201的左侧端面和右侧端面进行软性保护，这样可以避免在卡入至抛光座2的过程中，出现损坏等情况。
[0032]
其中：导水槽204整体为梯形状结构设置，而导水板2041则为斜面式结构设置，通过导水槽204和导水板2041的倾斜面设置，能够对水的进行导流，这样可以避免部分污水残留至抛光座203的顶部端面处等情况。
[0033]
工作原理：
[0034]
首先，将电机101、抽水泵107和伸缩气缸103与外界电源电线相连，当需要对陶瓷砖面进行抛光作业时，通过套管202、支撑杆2021、挤压弹簧2022和抵板203的设置关系，能够对抛光座2处的陶瓷砖主体201外端面进行夹持和抵紧工作，这样就可以避免陶瓷砖主体 201在抛光作业时可能出现位移等情况，由于套管202、支撑杆2021 和挤压弹簧2022的布局设置，当陶瓷砖主体201放置在抛光座2的内侧端面处时，其挤压弹簧2022的压力会迫使其支撑杆2021向抛光座2的内侧方向处进行运动，这样就可以完成对陶瓷砖主体201的夹持工作，同时利用其抵板203、开槽2031、活动转辊2032和摩擦块 2033的设置关系，能够快速的将陶瓷砖卡入至抛光座2的内部，这样能够提升其陶瓷砖2的放置便捷性，由于开槽2031、活动转辊2032 和摩擦块2033之间的布局设置，当陶瓷砖的左侧端面和后侧端面与活动转辊2032进行摩擦接触后，其活动转辊2032可以利用其摩擦力而进行转动，这样就能够快速的将陶瓷砖卡入至抛光座2内部，最后通过导水槽204、导水板2041和抛光座2的布局设置，能
够对抛光座2内侧端面处的污水进行引导，这样可以避免部分污水残留至抛光座2处等情况，由于水槽204和导水板2041的倾斜面设置，当污水与其进行接触后，能够快速的将污水引导至污水管106处，这样就避免了污水残留的问题。
[0035]
最终，通过此装置，完成了对陶瓷砖的抵紧工作，从而避免了在抛光作业中瓷砖容易出现晃动或位移等情况。

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