蒸镀坩埚的制作方法

[0001]
本公开涉及但不限于显示技术领域，更具体地，涉及一种蒸镀坩埚。


背景技术：

[0002]
有机发光二极管(organic light-emitting diode，oled)作为液晶显示后的新一代发光显示技术，具有可视角宽、对比度高、色彩鲜艳、可柔性显示等优点，已经被普遍应用于各种手机、可穿戴设备中，具有良好的应用前景。
[0003]
目前主要采用蒸镀设备制备oled，在蒸镀过程中使用蒸镀坩埚来盛放蒸发材料。随着基板尺寸越来越大，蒸发源由最初的点源发展为现在的线源，导致蒸镀坩埚越来越大。由于蒸镀坩埚尺寸变大，蒸镀坩埚的坩埚本体和盖板可能存在缝隙，在蒸镀过程中有机材料蒸气会从缝隙中泄漏，造成材料损失，甚至会出现材料之间的交叉污染，影响oled面板的显示效果。


技术实现要素：

[0004]
以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
[0005]
本公开实施例提供了一种蒸镀坩埚，可以有效提升坩埚本体和盖板之间的密封性。
[0006]
本公开实施例提供的蒸镀坩埚，包括坩埚本体和盖板；
[0007]
所述坩埚本体包括底部、设置于所述底部周向上的侧壁以及设置于所述侧壁远离所述底部一端周向上的连接耳，所述底部和所述侧壁围成具有开口的容置腔，所述连接耳沿远离所述容置腔的方向延伸；
[0008]
所述盖板覆盖所述开口；
[0009]
其中，所述连接耳和所述盖板均具有磁性，所述连接耳与所述盖板磁吸连接。
[0010]
在一示例性实施例中，所述连接耳包括连接耳本体和设置于所述连接耳本体靠近所述盖板一侧的第一磁性层，所述盖板包括盖板本体和设置于所述盖板本体朝向所述连接耳一侧的第二磁性层，所述第一磁性层和所述第二磁性层磁吸配合。
[0011]
在一示例性实施例中，所述第二磁性层至少位于所述盖板本体与所述连接耳搭接的位置。
[0012]
在一示例性实施例中，所述连接耳包括第一连接耳层和第二连接耳层以及设置于所述第一连接耳层和所述第二连接耳层之间的第一磁性层，所述盖板包括第一盖板层和第二盖板层以及设置于所述第一盖板层和所述第二盖板层之间的第二磁性层，所述第一磁性层和所述第二磁性层磁吸配合。
[0013]
在一示例性实施例中，所述第一连接耳层相对于所述第二连接耳层更靠近所述盖板，所述第一连接耳层厚度小于所述第二连接耳层厚度。
[0014]
在一示例性实施例中，所述第一盖板层相对于所述第二盖板层更靠近所述连接
耳，所述第一盖板层的厚度小于所述第二盖板层的厚度。
[0015]
在一示例性实施例中，所述第一磁性层的材料包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金，所述第二磁性层的材料包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金。
[0016]
在一示例性实施例中，所述第一磁性层的厚度为500微米-2000微米，所述第二磁性层的厚度为500微米-2000微米。
[0017]
在一示例性实施例中，所述连接耳和所述盖板均采用磁性材料制成，所述磁性材料包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金。
[0018]
在一示例性实施例中，所述连接耳朝向所述盖板一侧的周向上设置多个螺纹孔，所述盖板朝向所述连接耳一侧的周向上设置多个通孔，所述螺纹孔与所述通孔位置一一对应，所述盖板通过穿设于所述通孔的螺杆与所述螺纹孔螺纹连接固定于所述连接耳上。
[0019]
本公开实施例提供的蒸镀坩埚包括坩埚本体和盖板，通过将盖板和坩埚本体的连接耳设置为具有磁性的结构，利用盖板与连接耳的磁吸配合，增加盖板和连接耳之间的气密性，防止连接耳与盖板件间形成缝隙，减少蒸气泄露，提升显示效果。
[0020]
本公开的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本公开而了解。本公开的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
[0021]
在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。
附图说明
[0022]
附图用来提供对本公开技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。
[0023]
图1为本公开实施例蒸镀坩埚的结构图；
[0024]
图2为本公开实施例盖板的结构图；
[0025]
图3为本公开示例性实施例另一种蒸镀坩埚的结构图；
[0026]
图4为本公开示例性实施例另一种蒸镀坩埚的结构图；
[0027]
图5为本公开示例性实施例另一种蒸镀坩埚的结构图。
[0028]
附图标记说明
[0029]
1-蒸镀坩埚；
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10-坩埚本体；
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11-底部；
[0030]
12-侧壁；
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13-连接耳；
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131-连接耳本体；
[0031]
132-第一磁性层；
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133-第一连接耳层；
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134-第二连接耳层；
[0032]
135-螺纹孔；
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14-容置腔；
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20-盖板；
[0033]
201-盖板本体；
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202-第二磁性层；
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203-第一盖体层；
[0034]
204-第二盖体层；
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205-通孔；
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30-喷嘴；
[0035]
40-螺杆。
具体实施方式
[0036]
为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本公开的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中
的特征可以相互任意组合。
[0037]
在本公开中的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“一侧”、“另一侧”、“一端”、“另一端”、“边”、“相对”、“四角”、“周边”、
““
口”字结构”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本公开和简化描述，而不是指示或暗示所指的结构具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。
[0038]
在本公开实施例的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“直接连接”、“间接连接”、“固定连接”、“安装”、“装配”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；术语“安装”、“连接”、“固定连接”可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。
[0039]
本公开提供了一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体和盖板；坩埚本体包括底部、设置于底部周向上的侧壁以及设置于侧壁远离底部一端周向上的连接耳，底部和侧壁围成具有开口的容置腔，连接耳沿远离容置腔的方向延伸；盖板覆盖开口；其中，连接耳和盖板均具有磁性，连接耳与盖板磁吸连接。
[0040]
下面结合附图示例性说明本公开实施例蒸镀坩埚的技术方案。
[0041]
图1为本公开实施例蒸镀坩埚的结构图。如图1所示，蒸镀坩埚1，应用于但不局限于蒸镀设备，用于在蒸镀过程中盛放蒸发材料。蒸镀坩埚1包括坩埚本体10、盖板20和喷嘴30。坩埚本体10包括底部11、侧壁12和连接耳13。侧壁12设置于底部11的周向上，并与底部11围成具有开口的容置腔14，蒸发材料盛放于容置腔14内。容置腔14大致为矩形腔。连接耳13设置于侧壁12远离底部11的一端的周向上，并沿着远离容置腔14的方向延伸。连接耳13远离底部11的表面形成搭接面。盖板20覆盖开口，并搭接在连接耳13的搭接面上。盖板20和连接耳13密封容置腔14。喷嘴30设置于盖板20上并与容置腔14连通。喷嘴30可以为一个，或可以为多个，例如4、6或9个。蒸发材料受热后形成的蒸气，蒸气可以从喷嘴30喷出并沉积在基板上。其中，连接耳13具有磁性，盖板20具有磁性，连接耳12和盖板20磁吸连接。
[0042]
本公开实施例提供的蒸镀坩埚包括坩埚本体和盖板，通过将盖板和坩埚本体的连接耳设置为具有磁性的结构，利用盖板与连接耳的磁吸配合，增加盖板和连接耳之间的气密性，防止连接耳与盖板件间形成缝隙，减少蒸气泄露，提升显示效果。
[0043]
图2为本公开实施例盖板的结构图。在一示例性实施例中，如图1和图2所示，连接耳13包括连接耳本体131和设置于连接耳本体131靠近盖板20一侧的第一磁性层132。盖板20包括盖板本体201和设置于盖板本体201朝向连接耳13一侧的第二磁性层202。第一磁性层132和第二磁性层201磁吸配合。在一示例中，第二磁性层201至少设置于盖板本体201与连接耳13搭接的位置。在本示例中，第一磁性层132朝向盖板20的一侧设置为n极和s极两者中的一个，第二磁性层202朝向连接耳13的一侧设置为n极和s极两者中的另一个，进而连接耳13和盖板20相互吸引。第一磁性层132可以采用涂覆方式或电镀的方式形成在连接耳本体131表面。第一磁性层132的材料为耐高温磁性材料，包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金。第一磁性层131的厚度为500微米-2000微米。第二磁性层202可以采用涂覆方式或电镀的方式形成在盖板本体201表面。第二磁性层202的材料为耐高温磁性材料，包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金。第二磁性层的厚度为500微米-2000微米。第一磁性层和第二磁性层表面平坦，并相互贴合。
[0044]
在一示例性实施例中，第一磁性层和第二磁性层形成齿合结构。在一示例中，第一磁性层设置多个卡齿，第二磁性层设置多个卡槽，卡齿与卡槽一一对应，卡齿可以嵌入到卡槽内。
[0045]
图3为本公开示例性实施例另一种蒸镀坩埚的结构图。在一示例性实施例中，如图3所示，连接耳13包括第一连接耳层133和第二连接耳层134以及设置于第一连接耳层133和第二连接耳层134之间的第一磁性层132，盖板20包括第一盖板层203和第二盖板层204以及设置于第一盖板层203和第二盖板层204之间的第二磁性层202，第一磁性层132和第二磁性层202磁吸配合。在第一示例中，第一连接耳层133相对于第二连接耳层134更靠近盖板20，第一连接耳层133的厚度小于第二连接耳层134的厚度。第一盖板层203相对于第二盖板层204更靠近连接耳13，第一盖板层203的厚度小于第二盖板层204的厚度。第一连接耳层133和第二连接耳层134的厚度根据实际需求设定。第一盖板层203和第二盖板层204的厚度根据实际需求设定。第一连接耳层133的厚度和第一盖板层203的厚度设置相对较小，有利于缩减第一磁性层132和第二磁性层202之间的距离，保证第一磁性层132和第二磁性层202的磁吸力，进而保证盖板20与连接耳13之间的气密性。在本示例中，连接耳13和盖板20均为夹层结构，可以防止蒸发材料在蒸发过程中粘附在磁性材料表面，保证第一磁性层132和第二磁性层202的磁力的持久性，延长连接耳13和盖板20的使用寿命。其中，第一磁性层132的材料为耐高温磁性材料，包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金。第一磁性层的厚度为500微米-2000微米。第二磁性层202的材料为耐高温磁性材料，包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金。第二磁性层的厚度为500微米-2000微米。
[0046]
图4为本公开示例性实施例另一种蒸镀坩埚的结构图。在一示例性实施例中，如图4所示，连接耳13采用磁性材料制成，盖板20采用磁性材料制成。磁性材料为耐高温磁性材料，包括钕铁硼合金、钐钴合金、铝镍钴合金、铁镍钽合金或铁铬钴合金。连接耳采用的磁性材料与盖板采用的磁性材料可以相同，或可以不同，根据实际需要设计。磁性材料的掺杂比例根据实际需求设定，在不污染蒸发材料的前提下，保证盖板和连接耳有效密封即可。在一示例中，磁性材料可以为铁(fe)镍(ni)钽(ta)合金，其中各组分的质量份数为：ni为65.00～83.65％，fe为8.00～24.70％，ta为3.20～23.90％，例如ni为73.00％，fe为12.05％，ta为14.95％。在本示例中，坩埚本体均采用磁性材料制成，连接耳、底部和侧壁一体成型。成型工艺可以为浇注烧结工艺。连接耳和盖板直接采用磁性材料，减少了制造工序，也可减少成本。
[0047]
盖板和连接耳可以通过磁吸作用进行连接。图5为本公开示例性实施例另一种蒸镀坩埚的结构图。为了增加盖板和连接耳的气密性，在一示例性实施例中，如图5所示，连接耳13朝向盖板20一侧的周向上设置多个螺纹孔135，盖板20朝向连接耳13的一侧的周向上设置多个通孔205，螺纹孔135与通孔205位置一一对应，盖板20通过穿设于通孔205的螺杆40与螺纹孔135螺纹连接固定于连接耳13上。螺纹孔135和通孔205的数量根据坩埚的尺寸设定，可以为8个或10个，在此不做限定。在本示例中，盖板20和连接耳13之间通过磁吸和螺杆的固定方式，进一步提升了盖板20和坩埚本体10的气密性。
[0048]
虽然本公开所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本公开而采用的实施方式，并非用以限定本公开。任何本公开所属领域内的技术人员，在不脱离本公开所揭
露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本公开的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定为准。

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