基板及其制备方法、显示面板与流程

[0001]
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板及其制备方法、显示面板。


背景技术：

[0002]
随着通信技术的发展，诸如智能手机等电子装置越来越普及。在显示面板制备工艺中，有些膜层，如有机绝缘光阻层、色阻层、支撑柱等，需要使用涂布工艺在已有膜层上制备，如已有膜层与待制作膜层预设区段差过大，待制作膜层成膜后，待制作膜层与已有膜层交界处容易出现膜层堆积及厚度不均等问题，从而导致边缘的显示不均，严重影响显示装置的显示品质。


技术实现要素：

[0003]
本发明的目的在于，提供一种基板及其制备方法、显示面板，以解决现有膜层与待制作膜层预设区段差过大、边缘厚度不均的技术问题。
[0004]
为实现上述目的，本发明提供一种基板，包括：基底；若干膜层，相互间隔的设置于所述基底上，其中相邻的膜层之间具有网格状结构或者栅状结构。
[0005]
进一步地，所述基板还包括平坦层，填充于所述网格状结构或者栅状结构中并覆于所述膜层远离所述基底的一面。
[0006]
进一步地，所述网格状结构或者栅状结构的宽度为5ˉ30um。
[0007]
为实现上述目的，本发明还提供一种制备方法，用以制备前文所述的基板，包括以下步骤：提供一基底；以及在所述基底上依次制作若干膜层，在每形成一膜层的同时，在该膜层的侧边形成相应网格状结构或者栅状结构。
[0008]
进一步地，所述在所述基底上依次制作若干膜层的步骤，具体包括如下步骤：形成第一膜层于所述基底上，所述第一膜层图案化形成多个阵列设置的第一单元；
[0009]
每一第一单元包括：第一主膜层；以及至少一第一柱体，设于所述第一主膜层的一侧边；其中，所述第一柱体形成相邻两个第一主膜层交界处的第一网状结构。
[0010]
进一步地，所述在所述基底上依次制作若干膜层的步骤，具体包括如下步骤：
[0011]
形成第二膜层于所述基底上，所述第二膜层图案化形成多个间隔设置的第二单元；以及形成第三膜层于所述基底上，所述第三膜层设于相邻的两个所述第二膜层之间，且所述第三膜层图案化形成第三单元。
[0012]
进一步地，每一第二单元包括：第二主膜层；以及至少一第二柱体，设于所述第二主膜层的一侧边；
[0013]
每一第三单元包括：第三主膜层，设于相邻的两个第二单元之间；以及至少一第三柱体，设于所述第二主膜层与所述第三主膜层之间；
[0014]
其中，当所述第二主膜层为偶数个，且第三主膜层为奇数个时，所述第二柱体形成所述第二主膜层与所述第三主膜交界处的第二网状结构，所述第三柱体形成所述第二主膜层与所述第三主膜交界处的第三网状结构。
[0015]
进一步地，所述形成第三膜层于所述基底上的步骤之后，还包括：形成第四膜层于所述基底上，所述第四膜层图案化处理形成第四单元；所述第四单元包括：第四主膜层，设于所述第二单元及所述第三单元之间；以及至少一第四柱体，设于所述第四主膜层与所述第二主膜层之间；其中，所述第四柱体形成所述四主膜层与所述第二主膜层交界处的第四网状结构。
[0016]
进一步地，所述在所述基底上依次制作若干膜层的步骤，具体包括如下步骤：形成第五膜层于所述基底上，所述第五膜层图案化形成间隔设置的第五单元；以及形成第六膜层于所述基底上，所述第六膜层设于相邻两个第五膜层的间隙中；每一第五单元包括：第五主膜层；以及至少一第五柱体，设于所述第五主膜层的侧边；其中，所述第五柱体形成所述第五主膜层与所述第六膜层的第五网状结构。
[0017]
为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板，包括前文所述的基板或者根据前文所述的制备方法制备的基板。
[0018]
本发明的技术效果在于，提供一种基板及其制备方法、显示面板，通过在基底上制备相邻设置的若干膜层，且在相邻的两膜层之间设置网格状结构或者栅状结构充当缓冲区，缩短两膜层的膜厚段差，提升后制程膜层边缘膜厚的均匀性，缓解了现有技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。
附图说明
[0019]
下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0020]
图1为本申请实施例1所述第一基板的结构示意图。
[0021]
图2为本申请实施例1所述第一基板的平面图。
[0022]
图3为本申请实施例1所述第一基板的制备方法的流程图。
[0023]
图4为本申请实施例1所述膜层制备完成的结构示意图。
[0024]
图5为本申请实施例2所述第二基板的结构示意图。
[0025]
图6为本申请实施例2所述第二基板的平面图。
[0026]
图7为本申请实施例2所述膜层的制备的流程图。
[0027]
图8为本申请实施例3所述第三基板的结构示意图。
[0028]
图9为本申请实施例3所述第三基板的平面图。
[0029]
图10为本申请实施例3所述膜层的制备的流程图。
[0030]
图11为本申请实施例4所述第四基板的结构示意图。
[0031]
图12为本申请实施例4所述第四基板的平面图。
[0032]
图13为本申请实施例4所述膜层的制备的流程图。
[0033]
附图部件标识如下：
[0034]
1基底；2膜层；
[0035]
3平坦层；
[0036]
10第一网格状结构或者栅状结构；20第二网格状结构或者栅状结构；
[0037]
30第三网格状结构或者栅状结构；40第四网格状结构或者栅状结构；
[0038]
50第五网格状结构或者栅状结构；60第六网格状结构或者栅状结构；
[0039]
11第一主膜层；12第一柱体；
[0040]
101第一单元；102第二单元；
[0041]
103第三单元；104第四单元；
[0042]
105第五单元；106第六单元；
[0043]
201第二主膜层；201第二柱体；
[0044]
203第三主膜层；204第三柱体；
[0045]
301第四主膜层；302第四柱体；
[0046]
401第五主膜层；402第五柱体；
[0047]
403第六主膜层；
[0048]
100第一基板；200第二基板；
[0049]
300第三基板；400第四基板。
具体实施方式
[0050]
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0051]
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
[0052]
实施例1
[0053]
如图1-2所示，本实施例提供一种第一基板100，包括基底1、膜层2以及平坦层3。
[0054]
若干膜层2相互间隔的设置于基底1，其中相邻的膜层2间具有网格状结构或者栅状结构10，膜层2的厚度为1um以上。膜层2具有多个第一单元101，每一第一单元101包括第一主膜层11以及第一柱体12。第一主膜层11设于基底1上；至少一第一柱体12设于基底1上且位于第一主膜层11的一侧边。其中，第一柱体12的高度为大于第一主膜层11三分之一且小于第一主膜层11的高度，一个或一个以上的第一柱体12形成第一网格状结构或者栅状结构10。
[0055]
如图2所示，相邻的两个第一主膜层11的交界处形成一第一网格状结构或者栅状结构10，该第一网格状结构或者栅状结构10的宽度为5ˉ30um。网格状结构或者栅状结构10的镂空位置图形可以是方形、圆形、菱形或其他不规则图形，在此不做限定。本实施例中，第一网格状结构或者栅状结构10充当相邻两个第一主膜层11间的缓冲区，缩短两个第一主膜层11的膜厚段差，提升后制程膜层边缘膜厚的均匀性，缓解了现有技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。平坦层3填充于第一网格状结构或者栅状结构10中并覆于膜层2的上表面。本实施例中，多个膜层2为相同材质的膜层。
[0056]
如图3所示，本实施例还提供第一种制备方法，用以前文所述的第一基板100，包括
以下步骤：s11)-s13)。
[0057]
s11)提供一基底。
[0058]
s12)在所述基底上依次制作若干膜层，在每形成一膜层的同时，在该膜层的侧边形成相应网格状结构或者栅状结构。
[0059]
如图4所示，形成第一膜层2于基底上，多个膜层2为相同材质的膜层，多个膜层均为光阻层，包含色阻、ps、bps、有机绝缘层等。本实施例中采用一张掩膜板对第一膜层2图案化形成多个阵列设置的第一单元101。该图案化工艺包括涂布、曝光、显影、烘烤等工艺，在此不一一赘述。每一第一单元101包括第一主膜层11以及第一柱体12。第一主膜层11设于基底1上；至少一第一柱体12设于基底1上且位于第一主膜层11的一侧边。其中，第一柱体12的高度为大于第一主膜层11三分之一且小于第一主膜层11的高度，一个或一个以上的第一柱体12形成第一网格状结构或者栅状结构10。相邻的两个第一主膜层11的交界处形成一第一网格状结构或者栅状结构10，参照图2，该第一网格状结构或者栅状结构10的宽度为5ˉ30um，网格状结构或者栅状结构10的镂空位置图形可以是方形、圆形、菱形或其他不规则图形，在此不做限定。网格状结构或者栅状结构10充当相邻两个第一主膜层11间的缓冲区，缩短两个第一主膜层11的膜厚段差，提升后制程膜层边缘膜厚的均匀性，缓解了现有技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。
[0060]
s13)形成一平坦层填充于所述网格状结构或者栅状结构中并覆于所述膜层的上表面。平坦层3填充第一主膜层11与第一柱体12之间的间隙以及相邻两个第一柱体12之间的间隙，且覆于第一主膜层11的上表面。平坦层3用以平坦化并保护平坦层3以下的各膜层。
[0061]
本实施例提供一种基板及其制备方法，通过一张掩膜板在基底上制备相邻设置的相同材质的两层膜层，且在相邻的两膜层之间设置网格状结构或者栅状结构充当缓冲区，缩短两膜层的膜厚段差，提升后制程膜层边缘膜厚的均匀性，缓解了现有技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。
[0062]
本实施例还提供一种显示面板，包括前文所述的基板或者根据前文所述制备方法制备的基板。
[0063]
实施例2
[0064]
本实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板，包括实施例1的大部分技术方案，其区别在于，本实施例的膜层为两种不同材质的膜层。
[0065]
如图5-6所示，本实施例提供一种第二基板200包括基底1、膜层2以及平坦层3。
[0066]
若干膜层2相互间隔的设置于基底1，其中相邻的膜层2间具有网格状结构或者栅状结构10，膜层2的厚度为1um以上。
[0067]
膜层2具有偶数个第二单元102以及奇数个第三单元103，第三单元103设于两个第二单元102之间，其中，第二单元102的膜层材质不同于第三单元103的膜层材质。每一第二单元102包括第二主膜层201以及第二柱体202。两个第二柱体202体设于第二主膜层201的一侧边。其中，第二柱体202的高度为大于第二主膜层201三分之一且小于第二主膜层201的高度，一个或一个以上的第二柱体202形成第二网格状结构或者栅状结构20。每一第三单元103包括第三主膜层203以及第三柱体204。第三主膜层203设于相邻的两个第二单元102之间。两个第三柱体204设于第二主膜层201与第三主膜层203之间。其中，第三柱体204的高度为大于第三主膜层203三分之一且小于第三主膜层203的高度，一个或一个以上的第三柱体
204形成第三网格状结构或者栅状结构30。当第二主膜层201为偶数个，且第三主膜层203为奇数个时，第二柱体202形成第二主膜层201与第三主膜层203的第二网状结构20，第三柱体204形成第二主膜层201与第三主膜层203交界处的第三网状结构30。
[0068]
平坦层3填充于两膜层之间的间隙。具体的，平坦层3第二主膜层201与第二柱体202之间的间隙、相邻两个第二柱体202之间的间隙、第二柱体202与第三主膜层203之间的间隙、第三主膜层203与第三柱体204之间的间隙以及相邻两个第三柱体204之间的间隙。平坦层3主要用以平坦化并保护平坦层3以下的各膜层。
[0069]
本实施例还提供一种基板的制备方法，用以制备前文所述的第二基板，包括如下步骤s21)-s23)。
[0070]
s21)提供一基底。
[0071]
s22)在所述基底上依次制作若干膜层，在每形成一膜层的同时，在该膜层的侧边形成相应网格状结构或者栅状结构。
[0072]
如图7所示，步骤s22)具体包括如下步骤s221)-s222)。
[0073]
s221)形成第二膜层于所述基底上，所述第二膜层图案化形成多个间隔设置的第二单元。采用第二掩膜板在所述基底上形成多个间隔设置的第二单元。
[0074]
如图5所示，第二单元102的膜层材质不同于第三单元103的膜层材质。每一第二单元102包括第二主膜层201以及第二柱体202。两个第二柱体202体设于第二主膜层201的一侧边。其中，第二柱体202的高度为大于第二主膜层201三分之一且小于第二主膜层201的高度，一个或一个以上的第二柱体202形成第二网格状结构或者栅状结构20。
[0075]
s222)形成第三膜层于所述基底上，所述第三膜层设于相邻的两个所述第二膜层之间，且所述第三膜层图案化形成第三单元。采用第三掩膜板图案化处理第三膜层形成第三单元。
[0076]
如图5所示，每一第三单元103包括第三主膜层203以及第三柱体204。第三主膜层203设于相邻的两个第二单元102之间。两个第三柱体204设于第二主膜层201与第三主膜层203之间。其中，第三柱体204的高度为大于第三主膜层203三分之一且小于第三主膜层203的高度，一个或一个以上的第三柱体204形成第三网格状结构或者栅状结构30。当第二主膜层201为偶数个，且第三主膜层203为奇数个时，第二柱体202形成第二主膜层201与第三主膜层203的第二网状结构20，第三柱体204形成第二主膜层201与第三主膜层203交界处的第三网状结构30。
[0077]
s23)形成一平坦层填充于所述网格状结构或者栅状结构中并覆于所述膜层的上表面。
[0078]
如图5所示，平坦层3填充于两膜层之间的间隙。具体的，平坦层3第二主膜层201与第二柱体202之间的间隙、相邻两个第二柱体202之间的间隙、第二柱体202与第三主膜层203之间的间隙、第三主膜层203与第三柱体204之间的间隙以及相邻两个第三柱体204之间的间隙。平坦层3主要用以平坦化并保护平坦层3以下的各膜层。
[0079]
本实施例提供一种基板及其制备方法，通过两张掩膜板在基底上制备相邻设置的两层不同材质的膜层，且在相邻的两膜层之间设置网格状结构或者栅状结构充当缓冲区，缩短两膜层的膜厚段差，提升后制程膜层边缘膜厚的均匀性，缓解了现有技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。
[0080]
实施例3
[0081]
本实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板，包括实施例2的大部分技术方案，其区别在于，所述膜层还包括第四单元。
[0082]
如图8-9所示，本实施例提供一种第三基板300包括基底1、膜层2以及平坦层3。
[0083]
若干膜层2相互间隔的设置于基底1，其中相邻的膜层2间具有网格状结构或者栅状结构10，膜层2的厚度为1um以上。
[0084]
膜层2具有第二单元102、第三单元103以及第四单元104，且相互阵列设置。本实施例中，第三基板300在基底1上从左向右依次设置第二单元102、第三单元103、第四单元104以及第二单元102。其中，第二单元102、第三单元103以及第四单元104的膜层材质均不同。
[0085]
每一第二单元102包括第二主膜层201以及第二柱体202。每一第三单元103包括第三主膜层203以及第三柱体204。每一第四单元104包括第四主膜层301以及第四柱体302。
[0086]
具体的，两个第二柱体202体设于第二主膜层201的一侧边。其中，第二柱体202的高度为大于第二主膜层201三分之一且小于第二主膜层201的高度，一个或一个以上的第二柱体202形成第二网格状结构或者栅状结构20。
[0087]
第三主膜层203设于相邻的第二单元102与第四单元104之间。两个第三柱体204设于第二主膜层201与第四主膜层301之间。其中，第三柱体204的高度为大于第三主膜层203三分之一且小于第三主膜层203的高度，一个或一个以上的第三柱体204形成第三网格状结构或者栅状结构30。第二柱体202形成第二主膜层201与第三主膜层203的第二网状结构20，第三柱体204形成第二主膜层201与第四主膜层301交界处的第三网状结构30。
[0088]
第四主膜层301设于第三柱体204与第四柱体302之间，第四柱体302形成第四主膜层301与第二主膜层201交界处的第四网状结构40。
[0089]
本实施例还提供一种基板的制备方法，用以制备前文所述的第三基板，包括如下步骤s31)-s33)。
[0090]
s31)提供一基底。
[0091]
s32)在所述基底上依次制作若干膜层，在每形成一膜层的同时，在该膜层的侧边形成相应网格状结构或者栅状结构。
[0092]
如图10所示，步骤s32)具体包括如下步骤s321)-s323)。
[0093]
s321)形成第二膜层于所述基底上，所述第二膜层图案化形成多个间隔设置的第二单元。采用第二掩膜板在所述基底上形成多个间隔设置的第二单元。
[0094]
s322)形成第三膜层于所述基底上，所述第三膜层图案化形成第三单元。采用第三掩膜板图案化处理第三膜层形成第三单元。
[0095]
s323)形成第四膜层于所述基底上，所述第四膜层图案化处理形成第四单元。采用第四掩膜板图案化处理第三膜层形成第四单元。
[0096]
如图8所示，膜层2具有第二单元102、第三单元103以及第四单元104，且相互阵列设置。本实施例中，第三基板300在基底1上从左向右依次设置第二单元102、第三单元103、第四单元104以及第二单元102。其中，第二单元102、第三单元103以及第四单元104的膜层材质均不同。
[0097]
每一第二单元102包括第二主膜层201以及第二柱体202。每一第三单元103包括第三主膜层203以及第三柱体204。每一第四单元104包括第四主膜层301以及第四柱体302。
[0098]
具体的，两个第二柱体202体设于第二主膜层201的一侧边。其中，第二柱体202的高度为大于第二主膜层201三分之一且小于第二主膜层201的高度，一个或一个以上的第二柱体202形成第二网格状结构或者栅状结构20。
[0099]
第三主膜层203设于相邻的第二单元102与第四单元104之间。两个第三柱体204设于第二主膜层201与第四主膜层301之间。其中，第三柱体204的高度为大于第三主膜层203三分之一且小于第三主膜层203的高度，一个或一个以上的第三柱体204形成第三网格状结构或者栅状结构30。第二柱体202形成第二主膜层201与第三主膜层203的第二网状结构20，第三柱体204形成第二主膜层201与第四主膜层301交界处的第三网状结构30。
[0100]
第四主膜层301设于第三柱体204与第四柱体302之间，第四柱体302形成第四主膜层301与第二主膜层201交界处的第四网状结构40。
[0101]
本实施例提供一种基板及其制备方法，通过三张掩膜板在基底上制备相邻设置的三层不同材质的膜层，且在相邻的两膜层之间设置网格状结构或者栅状结构充当缓冲区，缩短两膜层的膜厚段差，提升后制程膜层边缘膜厚的均匀性，缓解了现有技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。
[0102]
实施例4
[0103]
本实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板，包括实施例2的大部分技术方案，其区别在于，所述膜层还包括第五单元和第六单元。
[0104]
如图11-12所示，本实施例提供一种第四基板400，膜层2包括第五单元105和第六单元106。
[0105]
每一第五单元105包括第五主膜层401以及第五柱体402。其中，至少一第五柱体402设于第五主膜层401的侧边。第六单元106为一第六主膜层403，其中，第五柱体402形成第五主膜层401与第六单元106的第五网状结构50以及第六网状结构60。
[0106]
如图13所示，本实施例还提供一种基板的制备方法，用以制备前文所述的第四基板，包括如下步骤：s41)-s43)。
[0107]
s41)提供一基底。
[0108]
s42)在所述基底上依次制作若干膜层，在每形成一膜层的同时，在该膜层的侧边形成相应网格状结构或者栅状结构。
[0109]
如图11所示，步骤s42)具体包括如下步骤s421)-s422)。
[0110]
s421)形成第五膜层于所述基底上，所述第五膜层图案化形成间隔设置的第五单元。
[0111]
s422)形成第六膜层于所述基底上，所述第六膜层设于相邻两个第五膜层的间隙中。
[0112]
如图11所示，每一第五单元105包括第五主膜层401以及第五柱体402。其中，至少一第五柱体402设于第五主膜层401的侧边。第六单元106为一第六主膜层403，其中，第五柱体402形成第五主膜层401与第六单元106的第五网状结构50以及第六网状结构60。
[0113]
本实施例提供一种基板及其制备方法、显示面板，在基底上制备相邻设置的两层不同材质的膜层，且在相邻的两膜层之间设置网格状结构或者栅状结构充当缓冲区，缩短两膜层的膜厚段差，提升后制程膜层边缘膜厚的均匀性，缓解了现有技术存在的膜层边缘厚度不均的技术问题。
[0114]
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
[0115]
以上对本申请实施例所提供的一种基板及制备方法、显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

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