一种开孔装置的制作方法

本实用新型涉及抛光垫领域，具体涉及一种开孔装置。

背景技术：

双面抛光工艺被广泛应用于半导体加工领域，抛光设备、抛光垫、抛光液是抛光加工的三要素，缺一不可。双面抛光设备在对硅片进行加工时，抛光液通过上盘面通孔流入作业区内。抛光垫属于抛光的消耗性辅料，它是贴在双面抛光设备上下盘面才能对硅片进行抛光，因此，贴在双面抛光设备上盘面的抛光垫需要根据双面抛设备结构进行开孔，贯通整个抛光液通道才能使用，并且抛光垫开孔大小需与上盘面孔大小一致。

由于抛光垫的背面有一层非常光滑的塑料保护膜，现有的抛光垫开孔方式，不仅容易切坏抛光垫，而且位置稍有把握不准，就会出现多切的现象，导致切出的抛光垫孔大于上盘面孔，影响抛光垫的使用效果；如果出现少切，还需要补切。因此，现有的抛光垫开孔方式，耗时耗力，打孔效率低，打孔效果较差。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型提供一种开孔装置，用以解决抛光垫开孔时耗时耗力，开孔效率低，开孔效果差的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

根据本实用新型实施例的开孔装置，包括：

套管；

杆体，所述杆体的长度大于所述套管的长度，所述套管套设在所述杆体的一端，且所述杆体的一端的端部设有刀具，所述刀具可伸出所述套管，所述杆体的另一端设有手柄；

至少三个支撑杆，每个所述支撑杆的第一端分别与所述套管的外侧壁相连；

多个吸盘，每个所述支撑杆的第二端分别设置一个所述吸盘。

其中，所述杆体的外侧壁设有沿所述杆体的长度方向延伸的导槽，所述套管的内侧壁上与所述导槽相应的位置设有导轨，所述导轨设置于所述导槽中且所述导轨沿所述导槽的长度方向可移动；或者

所述杆体的外侧壁设有沿所述杆体的长度方向延伸的导轨，所述套管的内侧壁上与所述导轨相应的位置设有导槽，所述导轨设置于所述导槽中且所述导轨沿所述导槽的长度方向可移动。

其中，所述支撑杆具有三个，三个所述支撑杆的第一端分别沿所述套管的周向均匀间隔开设置。

其中，所述杆体的轴线与所述套管的轴线共线。

其中，每个所述支撑杆的第一端分别与所述套管的外侧壁可枢转相连。

其中，每个所述支撑杆的第一端分别与所述套管的顶端的外侧壁相连。

其中，所述套管的内侧壁上设有限位块，所述杆体的一端的外侧壁上与所述限位块相应的位置设有挡块，所述杆体沿所述套管的长度方向移动时，所述挡块可止抵或远离所述限位块。

其中，所述杆体上设有沿所述杆体的长度方向分布的刻度线。

其中，所述套管或所述杆体上设有水平测量仪。

本实用新型的上述技术方案的有益效果如下：

根据本实用新型实施例的开孔装置，杆体的长度大于所述套管的长度，所述套管套设在所述杆体的一端，且所述杆体的一端的端部设有刀具，所述刀具可伸出所述套管，所述杆体的另一端设有手柄；至少三个支撑杆，每个所述支撑杆的第一端分别与所述套管的外侧壁相连；多个吸盘，每个所述支撑杆的第二端分别设置一个所述吸盘。在使用过程中，可以将吸盘吸附在台面或抛光垫上，通过支撑杆将套管支撑，使得刀具靠近抛光垫，让刀具对准抛光垫上待开孔的位置，通过手柄施加下压力使得刀具冲击抛光垫来进行开孔，通过该开孔装置进行开孔的开孔效率高，开孔效果好，开孔位置更加精准，减少人力，简单方便。

附图说明

图1为本实用新型实施例的开孔装置的一个结构示意图；

图2为本实用新型实施例的开孔装置的另一个结构示意图；

图3为本实用新型实施例的开孔装置的又一个结构示意图；

图4为本实用新型实施例的开孔装置使用时的一个示意图；

图5为本实用新型实施例的开孔装置的又一个结构示意图。

附图标记

套管10；限位块11；

杆体20；刀具21；手柄22；挡块23；螺母24；

支撑杆30；

吸盘40。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本实用新型的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

下面具体描述根据本实用新型实施例的开孔装置。

如图1至图5所示，根据本实用新型实施例的开孔装置包括套管10、杆体20、至少三个支撑杆30和多个吸盘40，其中，杆体20的长度大于套管10的长度，套管10套设在杆体20的一端，且杆体20的一端的端部设有刀具21，刀具21可伸出套管10，杆体20的另一端设有手柄22，每个支撑杆30的第一端分别与套管10的外侧壁相连，每个支撑杆30的第二端分别设置一个吸盘40。

也就是说，开孔装置主要有套管10、杆体20、至少三个支撑杆30和多个吸盘40构成，杆体20的长度大于套管10的长度，套管10套设在杆体20的一端，杆体20的一端在套管10中沿着套管10的长度方向可以移动，杆体20的一端的端部可以设有刀具21，刀具21的直径可以与开孔的直径相同，可以根据开孔的形状大小合理选择刀具21，刀具21可伸出套管10，可以从套管10的底端伸出，杆体20的另一端设有手柄22，可以通过手柄22对杆体20施加向下的压力。杆体20的另一端位于手柄22下方的位置可以设有外螺纹，通过外螺纹可以设有螺母24，螺母24的径向尺寸可以大于套管10的径向尺寸，螺母24可以沿着杆体20的长度方向移动，进而调节螺母24在杆体20上的位置，可以调节螺母24与手柄22之间的间距，通过螺母24可以限定杆体20向下移动时的距离，同时还可以避免操作时套管10碰撞操作人员的手。

每个支撑杆30的第一端分别与套管10的外侧壁相连，每个支撑杆30的第二端分别设置一个吸盘40，吸盘40可以吸附在台面或抛光垫上，通过支撑杆30将套管10支撑起。在使用过程中，可以将吸盘40吸附在台面或抛光垫上，通过支撑杆30将套管10支撑，使得刀具21靠近抛光垫，让刀具21对准抛光垫上待开孔的位置，通过手柄22施加下压力使得刀具21冲击抛光垫来进行开孔，通过该开孔装置进行开孔的开孔效率高，开孔效果好，开孔位置更加精准，减少人力，简单方便。

在本实用新型的一些实施例中，杆体20的外侧壁可以设有沿杆体20的长度方向延伸的导槽，套管10的内侧壁上与导槽相应的位置设有导轨，导轨设置于导槽中且导轨沿导槽的长度方向可移动；或者，杆体20的外侧壁设有沿杆体20的长度方向延伸的导轨，套管10的内侧壁上与导轨相应的位置设有导槽，导轨设置于导槽中且导轨沿导槽的长度方向可移动。通过导轨和导槽的配合，使得导轨能够沿导槽的长度方向移动，进而使得杆体20的一端在套管10中沿着套管10的长度方向稳定移动，以使刀具21对抛光垫进行冲击开孔，保证开孔位置的准确和开孔效果，减小开孔偏差。

可选地，支撑杆30可以具有三个，三个支撑杆30的第一端可以分别沿套管10的周向均匀间隔开设置，便于对套管10稳定支撑。三个支撑杆30的高度可以相同，可以相互间隔120°排列。

在一些实施例中，杆体20的轴线与套管10的轴线共线，便于杆体20的稳定移动，有利于保证开孔效果。

在另一些实施例中，每个支撑杆30的第一端分别与套管10的外侧壁可枢转相连，可以通过枢转轴连接，每个支撑杆30枢转时，该支撑杆30的轴线与套管10的轴线位于同一平面，且该枢转轴的轴线垂直于支撑杆30的轴线与套管10的轴线所在的平面，可以根据需要调节角度，从而便于调节套管10被支撑起的高度。

可选地，每个支撑杆30的第一端可以分别与套管10的顶端的外侧壁相连，便于稳定地支撑套管10。

根据一些实施例，如图3所示，套管10的内侧壁上设有限位块11，比如套管10的底端的内侧壁上设有限位块11，限位块11可以沿着套管10的内侧壁的周向延伸，杆体20的一端的外侧壁上与限位块11相应的位置设有挡块23，挡块23可以沿着杆体20的外侧壁的周向延伸，杆体20沿套管10的长度方向移动时，挡块23可止抵或远离限位块11，防止杆体20向上移动时从套管10中脱落。另外，限位块11和挡块23之中的至少一个为弹性件，比如橡胶件，能够缓冲限位块11和挡块23之间的碰撞，减小对握持手柄的操作人员的冲击力。

可选地，杆体20上可以设有沿杆体20的长度方向分布的刻度线，通过刻度线便于了解杆体20上的刀具伸出套管10的长度，便于根据实际情况调节不同的长度，便于每次开孔时能够保持相同的长度，使得每次开孔时刀具距离抛光垫的距离相同，保证开孔的一致性。

在一些实施例中，在套管10或杆体20上可以设有水平测量仪，便于检测套管10或杆体20是否出现倾斜，便于及时调节。

在使用过程中，首先将已经做好开孔位置标记的抛光垫有标记的面朝上平铺在洁净的水平载台上，让刀具21对准抛光垫上待开孔的位置，可以将吸盘40吸附在台面或抛光垫上，比如吸盘40与抛光垫表面的光滑塑料保护层相接触，通过吸盘40将开孔装置固定在抛光垫上，通过支撑杆30将套管10支撑，使得刀具21靠近抛光垫，通过手柄22施加下压力使得刀具21冲击抛光垫来进行开孔，通过该开孔装置进行开孔的开孔效率高，开孔效果好，开孔位置更加精准，减少人力，简单方便。

除非另作定义，本实用新型中使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本实用新型中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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