清洁刷结构的制作方法

本实用新型有关于一种清洁刷结构，尤指一种利用由数个清洁豆分别以螺旋形式定位排列于载体表面上的螺旋式清洁单元，特别是指会造成一个流场，除了对被清洗的物体有垂直方向，还会有一个横的方向，变成是一个平行方向的水流的流场，可更容易把脏污排走的清洁刷结构。

背景技术：

一般的精密电子组件（如：硅晶圆、硬盘盘、半导体及CPU芯片）所需的清洁结构如中国台湾专利第419401号的“清洁用海绵辊子”，其是由聚乙烯醇缩乙醛制成的具有弹性的多孔质体海绵所构成，同时在侧部表面配设多数的突起，并使该突起的顶部旋转接触于被清洁体的清洁面来清洁被清洁体，其中该些突起呈现矩阵形式排列，而每一突起的顶部由光滑度高的表层部所形成；藉此，可配合所需的致动机构以表面配设的多数突起，而达到清洁精密电子组件的功效。

而另一现有清洁结构，如中国台湾专利第I286096号的“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”，其包括可转动基座，该基座包括一内表面及一外表面；多孔垫材料，其覆盖该基座的至少一部分的外表面，以用于自基材移除材料；该多孔垫材料与该基座结合，而维持突出物于该多孔垫材料表面上的对准，且该些突出物在该多孔垫材料表面上呈现矩阵形式排列；藉此，可配合所需的致动机构以突出物达到清洁精密电子组件的功效。

再一现有清洁结构，如中国台湾专利第M362051号的“清洁结构”与第201347862号的“凹型结核海绵刷”，其包括一载体/刷具；以及多数清洁单元/结核，分别设于该载体/刷具的表面上呈矩阵形式排列，且各清洁单元/结核的端面分别具有一凹弧部/凹型表面；藉此，使各清洁单元/结核利用其端面凹弧部/凹型表面，而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。

虽然上述四种现有的清洁结构皆可用于清洁精密电子组件，但是由于该“清洁用海绵辊子”的突起呈现矩阵形式排列，而突起的顶部是由光滑度高的表层部所形成，且该突起的顶部为一平面；该“于可转动基座上制造单片多孔垫之方法及材料”的突出物成型后亦为一平面且呈矩阵形式排列，因此，其二者于清洁时，较无法有效接触原本即为不规则面的精密电子组件；而该“清洁结构”与“凹型结核海绵刷”的清洁单元/结核端面，虽然设有凹弧部/凹型表面，可有效接触具有不规则面的精密电子组件，但其清洁单元/结核成型后亦呈矩阵形式排列，因此，此四种清洁结构于清洁时，容易导致颗粒（particle）乱喷无方向性，无法将颗粒有方向性的清除之余，反而使颗粒可能会截留于清洁结构与精密电子组件之间，并刮擦精密电子组件而造成损害。因此，一般现有的清洁结构无法符合实际使用时所需。

技术实现要素：

本实用新型的主要目的在于，克服已知技术所遭遇的上述问题，并提供一种利用由数个清洁豆分别以螺旋形式定位排列于载体表面上的螺旋式清洁单元，当旋转时它就是正方向，此螺旋式清洁单元会造成一个流场，除了对被清洗的物体有垂直方向，其还会有一个横的方向，变成是一个平行方向的水流的流场，因此可较传统矩阵式清洁结构更容易把脏污排走，进而达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高等功效的清洁刷结构。

为达以上目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种清洁刷结构，其包括一载体以及一清洁单元，其特征在于，所述清洁单元由数个清洁豆分别以螺旋形式定位排列于该载体的表面上，形成一条由该载体的一端至另一端螺旋盘绕的螺旋形，而该些清洁豆形成围绕该载体沿周向延伸的一环形螺旋曲线通道。

所述清洁豆的端面具有一中心下凹的凹弧部，且该凹弧部的曲率介于70%～99%之间。

所述载体与该清洁单元由软性泡棉发泡一体成型而成。

所述清洁豆为圆柱体，或者是多边体，或者是圆柱体与多边体二者皆有。

所述载体呈圆筒状，且其中央处具有一套接部，而该清洁单元布设于该载体的外侧缘。

所述清洁豆自该载体表面向外突出一距离。

附图说明

图1是本实用新型清洁刷结构的立体示意图。

图2是本实用新型清洁刷结构的使用状态示意图。

标号对照：

清洁刷结构1

载体10

套接部11

清洁单元20

清洁豆21

凹弧部211

环形螺旋曲线通道22

电子组件3。

具体实施方式

请参阅图1及图2所示，分别为本实用新型清洁刷结构的立体示意图、及本实用新型清洁刷结构的使用状态示意图。如图所示：本实用新型为一种清洁刷结构，该清洁刷结构1至少由一载体10以及一清洁单元20所构成，而该载体10与该清洁单元20可依所需以复合材料、海绵、聚胺甲酸酯（PU）、聚乙烯醇（PVA）或高分子材料等制成的不同的软性泡棉发泡一体成型制成。

上述所提的载体10呈一圆筒状，且其中央处具有一套接部11。

该清洁单元20布设于该载体10的外侧缘，而该清洁单元20由数个清洁豆21分别以螺旋形式定位排列于该载体10的表面上，形成一条由该载体10的一端至另一端螺旋盘绕的螺旋形，该些清洁豆21自该载体10表面向外突出一距离，并形成围绕该载体10沿周向延伸的一环形螺旋曲线通道22，而各该清洁豆21的端面分别具有一中心下凹的凹弧部211，且各该凹弧部211的曲率介于70%～99%之间，其中各该清洁豆21可为圆柱体、多边体或其组合。如是，藉由上述揭露的结构构成一全新的清洁刷结构1。

当运用时，可使一个或多数个载体10利用其套接部11与相关的致动机构（图中未示）结合，使该致动机构以滚动的方式带动该载体10，并依所需的清洁状态及位置移动该致动机构，使载体10外侧缘上清洁单元20的各清洁豆21与相关精密电子组件3的表面接触进行所需的清洁。

于一较佳实施例中，如图2所示，在水平式清洗运动时，假设精密电子组件3（如：晶圆）在原位会以顺时钟或逆时钟方向转，具螺旋式清洁单元20的圆筒状载体10也会旋转，螺旋盘绕为螺旋形的清洁单元20可以将脏污（如：颗粒）利用数个清洁豆21所形成的围绕该载体10沿周向延伸的环形螺旋曲线通道20，由载体10的一端推至另一端（如图2中粗黑箭头所示），可让脏污具方向性的推开，提供更有效的清洁效率，进而达到大幅降低截留于清洁刷结构与电子组件3之间的颗粒；此外，由于各清洁豆21端面所设凹弧部211的曲率介于70%～99%之间，因此，更可于各清洁豆21使用时达到接触面大、清洁效率快以及去除脏污率高的功效。

综上所述，本实用新型的清洁刷结构，可有效改善现有技术的种种缺点，利用由数个清洁豆分别以螺旋形式定位排列于载体表面上的螺旋式清洁单元，当旋转时它就是正方向，此螺旋式清洁单元会造成一个流场，除了对被清洗的物体有垂直方向，还会有一个横的方向，变成是一个平行方向的水流的流场，因此可较传统矩阵式清洁结构更容易把脏污排走，进而使本实用新型的产生能更进步、更实用、更符合使用者所须，确已符合新型专利申请的要件，依法提出专利申请。

但以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，当不能以此限定本实用新型实施的范围。故，凡依本实用新型申请专利范围及新型说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆应仍属本实用新型专利涵盖的范围内。

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