一种开启力度小的铝质旋盖的制作方法

[0001]
本实用新型属于瓶盖技术领域，具体涉及一种开启力度小的铝质旋盖。


背景技术：

[0002]
铝质旋盖是常用的一种盖子，具有比较可靠的强度，使用寿命长，多用于对酒类饮料的包装，铝质旋盖为了便于开启，盖体上设有滚刻痕，滚刻痕间设有连点，在开启时旋动旋盖，撕裂连点，以打开旋盖，需要一定的力气，尤其是在含有丰富气体的酒类饮料的包装使用中，由于瓶内具有一定的压强，开启旋盖时需要较大的力气，使用的效果不好，需要对旋盖进行改进。


技术实现要素：

[0003]
本实用新型所要解决的技术问题是针对上述缺陷，提供一种开启力度小的铝质旋盖，旋盖开启的力度小，方便使用。
[0004]
本实用新型解决其技术问题采用的技术方案如下：
[0005]
一种开启力度小的铝质旋盖，包括倒u型的铝质的盖体，所述的盖体的侧壁的中部设有多个贯穿壁体的滚刻痕，多个滚刻痕沿盖体侧壁周向均匀分布，且多滚刻痕处于同一平面内，相邻的滚刻痕间形成连点，连点的长度为0.05-0.08mm，滚刻痕底侧的盖体侧壁设有内环，内环的上部为锥形结构，内环的上端外周面设有多个凸片，凸片的位置与滚刻痕对应，内环的环身设有环形槽，滚刻痕底侧的盖体侧壁设有延伸至环形槽内的限位凸起，旋盖旋紧后内环上部受瓶口挤压向外扩展使得凸片进入到滚刻痕内。
[0006]
进一步的，所述的内环与盖体侧壁间设有多出点胶粘接点。
[0007]
进一步的，所述的盖体上部设有密封组件，密封组件包括垫片、垫片底侧的胶圈，盖体侧壁于胶圈底侧处设有多个内凹槽，多个内凹槽处于同一水平面内，内凹槽形成对密封组件的限位结构，内凹槽处设有贯穿孔，垫片的外径小于盖体内径。
[0008]
进一步的，所述的胶圈的下端面为与瓶口继而配合的弧面，胶圈的内沿内径小于瓶口的内沿口内径、胶圈的外沿外径大于瓶口的外沿口外径。
[0009]
进一步的，凸片的最外侧始终不超过盖体侧壁外周面。
[0010]
进一步的，沿旋盖开启方向，凸起的侧面设有刃口。
[0011]
本实用新型的有益效果是：采用上述方案，旋盖旋紧后凸片嵌入滚刻痕内，旋开时，凸片对滚刻痕间的连点进行切割，减小旋盖的开启力，提高使用效果。
附图说明
[0012]
通过下面结合附图的详细描述，本实用新型前述的和其他的目的、特征和优点将变得显而易见。
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图1为本实用新型一种实施例的横截面结构示意图。
[0014]
图2为本实用新型一种实施例的侧视图。
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图3为本实用新型一种实施例中凸片嵌入滚刻痕时的局部截面示意图。
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其中：1为盖体，11为滚刻痕，12为限位凸起，13为内凹槽，2为内环，21为凸片，22为环形槽，3为垫片，4为胶圈。
具体实施方式
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下面结合附图对本实用新型做进一步说明。
[0018]
参照图1-图3，一种开启力度小的铝质旋盖，包括倒u型的铝质的盖体1，盖体1的侧壁的中部设有多个贯穿壁体的滚刻痕11，多个滚刻痕11沿盖体侧壁周向均匀分布，且多滚刻痕处于同一平面内，相邻的滚刻痕间形成连点，连点的长度为0.05-0.08mm，滚刻痕底侧的盖体侧壁设有内环2，内环2的上部为锥形结构，内环2的上端外周面设有多个凸片21，凸片21的位置与滚刻痕对应，内环2的环身设有环形槽22，滚刻痕底侧的盖体侧壁设有延伸至环形槽内的限位凸起12，限位凸起12与环形槽22配合实现内环与盖体的装配，未使用时，凸片21与滚刻痕相对，内环2通过多处的点胶与盖体侧壁粘接，实现内环与盖体侧壁相对位置的固定，旋盖旋紧后，内环2的上部受瓶口挤压向外扩展使得凸片21进入到滚刻痕11内，开启旋盖时，仅需很小的力即可克服内环与侧壁间的点胶粘接，沿旋盖开启方向，凸片21的侧面设有刃口，继续旋转旋盖，凸片21的刃口对连点处进行切割，使得多个滚刻痕连通，盖体切断，便于旋盖的开启，相比连点的扭断撕裂，本实用新型所需的施力更小，便于使用，凸片21的最外侧始终不超过盖体侧壁外周面，能够有效避免凸片对使用者造成损伤。
[0019]
盖体1上部设有密封组件，密封组件包括垫片3、垫片3底侧的胶圈4，盖体1侧壁于胶圈4底侧处设有多个内凹槽13，多个内凹槽13处于同一水平面内，内凹槽13形成对密封组件的限位结构，内凹槽13处设有贯穿孔，垫片3的外径小于盖体1的内径，胶圈4的内沿内径小于瓶口的内沿口内径、胶圈的外沿外径大于瓶口的外沿口外径，胶圈4为主要的密封件，旋紧后紧紧的压贴在瓶口进行密封，垫片的作用在于保持胶圈的灵活转动能力，能够促使减少胶圈处对开启旋盖时的阻力，有利于减小开启力度，提高使用效果，胶圈的下端面为与瓶口配合的弧面，弧面与瓶口贴合的更紧密，提高密封效果，在旋盖开启后，瓶内散出的气体能够快速的从内凸槽处的贯穿孔排除盖体外部，继而避免瓶内产生大量泡沫，避免泡沫外泄，排气效果好，盖体侧壁设有与瓶口连接的螺纹。
[0020]
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型做任何形式上的限制，凡是依据本实用新型的技术实质上对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化，均落入本实用新型的保护范围之内。

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