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一种还原黑GL染料及其制备方法与流程

2021-02-02 18:02:53|331|起点商标网

本发明涉及一种染料及其制备方法,特别是涉及一种还原黑gl染料及其制备方法,属于还原染料技术领域。



背景技术:

还原染料是染料中各项性能都比较优良的染料,按其主要化学结构可分为靛类和蒽醌两大类,黑色还原染料是还原染料中最重要、用量最大的品种,色泽鲜艳,耐晒、耐碱、耐洗、耐汗渍等坚牢度都很优越,用于棉纤维的染色,匀染性和亲和力均好,也适用于棉布的印花,还用于染黏胶纤维、蚕丝和维棉织物以及用于涤棉、涤黏织物染黑色和深灰,得色均匀。

现有的还原染料存在以下不足:(1)现有的还原染料在实际生产中的应用性能低,并且渗透性差;(2)现有的染料的费料并且有污染。



技术实现要素:

本发明的主要目的是为了解决现有技术的不足,而提供一种还原黑gl染料及其制备方法。

本发明的目的可以通过采用如下技术方案达到:

一种还原黑gl染料,按重量份数计,包括:染料单体a3~5份、染料单体b4~6份、染料单体c8~15份、染料单体d5~13份、助剂6~10份、水30~45份、润湿剂1~3份、硫酸羟胺1~3份、分散红3~5份、分散橙3~5份、添加剂3~5份、紫蒽酮4~6份、浓硫酸15~20份和五氧化二矾1~1.5份。

优选的,按重量份数计,包括:染料单体a3~4.5份、染料单体b4.5~6.5份、染料单体c8~13份、染料单体d5~10份、助剂6~10份、水35~45份、润湿剂1~3份、硫酸羟胺1~3份、分散红3~5份、分散橙3~5份、添加剂3~5份、紫蒽酮4~6份、浓硫酸17~20份和五氧化二矾1~1.5份。

优选的,按重量份数计,包括:染料单体a3.5份、染料单体b5份、染料单体c9份、染料单体d8份、助剂8份、水40份、润湿剂2.5份、硫酸羟胺1.6份、分散红3.5份、分散橙4.5份、添加剂4份、紫蒽酮5.3份、浓硫酸19.5份和五氧化二矾1.2份。

优选的,所述助剂为木质素磺。

优选的,所述润湿剂为甘油、丙二醇或乙醇中的一种或多种。

优选的,所述添加剂是浓度为0.5~1.3mol/l四羟甲基硫酸磷溶液。

优选的,所述紫蒽酮与所述五氧化二矾的添加比例为1:1.5。

一种还原黑gl染料的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:取染料单体a、染料单体b、染料单体c、染料单体d、助剂、水、润湿剂、硫酸羟胺、分散红、分散橙、添加剂、紫蒽酮、浓硫酸和五氧化二矾;

步骤2:将步骤1中的原料进行打浆并过滤,同时经过乳化泵乳化,得到原料a;

步骤3:将原料经砂磨机进行3~5次研磨,将研磨后的原料经过烘干塔烘干,得到烘干还原黑gl染料;

步骤4:将还原黑gl染料进行检测并包装。

优选的,在步骤3中,砂磨机中粗研磨1~2次,细研磨2~3次。

本发明的有益技术效果:按照本发明的还原黑gl染料及其制备方法,本发明提供的还原黑gl染料及其制备方法,添加硫酸羟胺与添加剂混合反应后得到的原料固色效果增强,减少掉色同时也减少原料的使用;在原料加工时多次研磨能够增强染料的混合度,在使用时能够增强染色的渗透性。

具体实施方式

为使本领域技术人员更加清楚和明确本发明的技术方案,下面结合实施例对本发明作进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。

本实施例提供的还原黑gl染料,按重量份数计,包括:染料单体a3~5份、染料单体b4~6份、染料单体c8~15份、染料单体d5~13份、助剂6~10份、水30~45份、润湿剂1~3份、硫酸羟胺1~3份、分散红3~5份、分散橙3~5份、添加剂3~5份、紫蒽酮4~6份、浓硫酸15~20份和五氧化二矾1~1.5份。

按重量份数计,包括:染料单体a3~4.5份、染料单体b4.5~6.5份、染料单体c8~13份、染料单体d5~10份、助剂6~10份、水35~45份、润湿剂1~3份、硫酸羟胺1~3份、分散红3~5份、分散橙3~5份、添加剂3~5份、紫蒽酮4~6份、浓硫酸17~20份和五氧化二矾1~1.5份。

按重量份数计,包括:染料单体a3.5份、染料单体b5份、染料单体c9份、染料单体d8份、助剂8份、水40份、润湿剂2.5份、硫酸羟胺1.6份、分散红3.5份、分散橙4.5份、添加剂4份、紫蒽酮5.3份、浓硫酸19.5份和五氧化二矾1.2份。

助剂为木质素磺。润湿剂为甘油、丙二醇或乙醇中的一种或多种。添加剂是浓度为0.5~1.3mol/l四羟甲基硫酸磷溶液。紫蒽酮与五氧化二矾的添加比例为1:1.5。

一种还原黑gl染料的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:取染料单体a、染料单体b、染料单体c、染料单体d、助剂、水、润湿剂、硫酸羟胺、分散红、分散橙、添加剂、紫蒽酮、浓硫酸和五氧化二矾;

步骤2:将步骤1中的原料进行打浆并过滤,同时经过乳化泵乳化,得到原料a;

步骤3:将原料经砂磨机进行3~5次研磨,将研磨后的原料经过烘干塔烘干,得到烘干还原黑gl染料;

步骤4:将还原黑gl染料进行检测并包装。

在步骤3中,砂磨机中粗研磨1~2次,细研磨2~3次。

实施例1:

一种还原黑gl染料,按重量份数计,包括:染料单体a3份、染料单体b4份、染料单体c8份、染料单体d5份、助剂6份、水30份、润湿剂1份、硫酸羟胺1份、分散红3份、分散橙3份、添加剂3份、紫蒽酮4份、浓硫酸15份和五氧化二矾1份。

一种还原黑gl染料的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:取染料单体a、染料单体b、染料单体c、染料单体d、助剂、水、润湿剂、硫酸羟胺、分散红、分散橙、添加剂、紫蒽酮、浓硫酸和五氧化二矾;

步骤2:将步骤1中的原料进行打浆并过滤,同时经过乳化泵乳化,得到原料a;

步骤3:将原料经砂磨机进行3~5次研磨,将研磨后的原料经过烘干塔烘干,得到烘干还原黑gl染料;

步骤4:将还原黑gl染料进行检测并包装。

实施例2:

一种还原黑gl染料,按重量份数计,包括:染料单体a3.5份、染料单体b4.5份、染料单体c8.5份、染料单体d6份、助剂7份、水32份、润湿剂1.5份、硫酸羟胺1.5份、分散红3.5份、分散橙3.5份、添加剂3.5份、紫蒽酮4.5份、浓硫酸16份和五氧化二矾1.1份。

一种还原黑gl染料的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:取染料单体a、染料单体b、染料单体c、染料单体d、助剂、水、润湿剂、硫酸羟胺、分散红、分散橙、添加剂、紫蒽酮、浓硫酸和五氧化二矾;

步骤2:将步骤1中的原料进行打浆并过滤,同时经过乳化泵乳化,得到原料a;

步骤3:将原料经砂磨机进行3~5次研磨,将研磨后的原料经过烘干塔烘干,得到烘干还原黑gl染料;

步骤4:将还原黑gl染料进行检测并包装。

实施例3:

一种还原黑gl染料,按重量份数计,包括:染料单体a3.5份、染料单体b5份、染料单体c9份、染料单体d8份、助剂8份、水40份、润湿剂2.5份、硫酸羟胺1.6份、分散红3.5份、分散橙4.5份、添加剂4份、紫蒽酮5.3份、浓硫酸19.5份和五氧化二矾1.2份。

一种还原黑gl染料的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:取染料单体a、染料单体b、染料单体c、染料单体d、助剂、水、润湿剂、硫酸羟胺、分散红、分散橙、添加剂、紫蒽酮、浓硫酸和五氧化二矾;

步骤2:将步骤1中的原料进行打浆并过滤,同时经过乳化泵乳化,得到原料a;

步骤3:将原料经砂磨机进行3~5次研磨,将研磨后的原料经过烘干塔烘干,得到烘干还原黑gl染料;

步骤4:将还原黑gl染料进行检测并包装。

实施例4:

一种还原黑gl染料,按重量份数计,包括:染料单体a4.5份、染料单体b5.5份、染料单体c14.5份、染料单体d12.5份、助剂9.5份、水42份、润湿剂2.5份、硫酸羟胺2.5份、分散红4.5份、分散橙4.5份、添加剂4.5份、紫蒽酮5.5份、浓硫酸19份和五氧化二矾1.4份。

一种还原黑gl染料的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:取染料单体a、染料单体b、染料单体c、染料单体d、助剂、水、润湿剂、硫酸羟胺、分散红、分散橙、添加剂、紫蒽酮、浓硫酸和五氧化二矾;

步骤2:将步骤1中的原料进行打浆并过滤,同时经过乳化泵乳化,得到原料a;

步骤3:将原料经砂磨机进行3~5次研磨,将研磨后的原料经过烘干塔烘干,得到烘干还原黑gl染料;

步骤4:将还原黑gl染料进行检测并包装。

实施例5:

一种还原黑gl染料,按重量份数计,包括:染料单体a5份、染料单体b6份、染料单体c15份、染料单体d13份、助剂10份、水45份、润湿剂3份、硫酸羟胺3份、分散红5份、分散橙5份、添加剂5份、紫蒽酮6份、浓硫酸20份和五氧化二矾1.5份。

一种还原黑gl染料的制备方法,包括如下步骤:

步骤1:取染料单体a、染料单体b、染料单体c、染料单体d、助剂、水、润湿剂、硫酸羟胺、分散红、分散橙、添加剂、紫蒽酮、浓硫酸和五氧化二矾;

步骤2:将步骤1中的原料进行打浆并过滤,同时经过乳化泵乳化,得到原料a;

步骤3:将原料经砂磨机进行3~5次研磨,将研磨后的原料经过烘干塔烘干,得到烘干还原黑gl染料;

步骤4:将还原黑gl染料进行检测并包装。

综上所述,在本实施例中,按照本实施例的还原黑gl染料及其制备方法,本实施例提供的还原黑gl染料及其制备方法,实施例1~实施例5中,实施例3制备的还原黑gl染料的应用性能和渗透性最佳,并且更加省料,污染系数最低。添加硫酸羟胺与添加剂混合反应后得到的原料固色效果增强,减少掉色同时也减少原料的使用;在原料加工时多次研磨能够增强染料的混合度,在使用时能够增强染色的渗透性。

以上所述,仅为本发明进一步的实施例,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明所公开的范围内,根据本发明的技术方案及其构思加以等同替换或改变,都属于本发明的保护范围。

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