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可热定型或UV照射定型的3D保护膜的制作方法

2021-02-02 16:02:28|248|起点商标网
可热定型或UV照射定型的3D保护膜的制作方法

本实用新型涉及技术领域,尤其指一种可热定型或uv照射定型的3d保护膜。



背景技术:

随着科技的发展,屏下指纹识别技术成为智能手机解锁方式的一种发展趋势,当前采用屏下指纹识别技术进行解锁的曲面屏手机也越来越多。

现有的应用屏下指纹解锁的曲面屏手机的保护膜大多采用srf基材的光学保护膜,该保护膜材料的生产工艺复杂,并且srf基材具有一定的极化角,在生产过程中需要固定角度模切,由于无法保证所有产品模切后的角度精确度,因此与手机屏幕配合后容易出现契合度不佳、降低解锁灵敏度的问题,另外,srf基材的横向撕裂强度极差,热弯容易碎裂,导致其量产的稳定性较差,且其生产工艺流程繁琐,包括了找极化角、调整排版、模切、热弯以及贴合等多个步骤。也有一些应用屏下指纹解锁的曲面屏手机采用零偏向角度pet基材或者tpu基材作为保护膜,但零偏向角度pet的损耗极高,其模切小片后需要热弯定型,制程良率低、生产效率低、可量产性差;而tpu基材则抗压印效果较差,无法满足消费者的应用需求。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种可热定型或uv照射定型的3d保护膜,保证屏下指纹解锁的灵敏性,并在极大程度上提高制程良率和生产效率。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案:一种可热定型或uv照射定型的3d保护膜,包括保护膜本体,所述保护膜本体包括光学膜基材,所述光学膜基材的下表面涂覆有一层基膜层,所述基膜层的收缩率高于光学膜基材的收缩率,所述光学膜基材为流延或涂布成型的tpu或pmma薄膜,所述基膜层为涂布在光学膜基材表面并经过uv固化或热固化的tpu或亚克力材料,所述光学膜基材的上表面涂覆有一层自修复涂层或硬化防刮层,所述自修复涂层或硬化防刮层上复合有一层pet保护膜,所述基膜层的下表面涂覆有一层排气胶层,所述排气胶层的下表面复合有一层pet离型膜。

优选地,所述光学膜基材的厚度为25-75um,透光率≥92%,雾度≤1%,收缩率为150℃*30min≤0.2%,硬度≥65d,拉伸断裂伸长率≥200%,断裂强度≥30mpa。

更优选地,所述基膜层为涂布在光学膜基材上并经过uv固化或热固化的tpu材料,所述tpu材料为脂肪族tpu或聚醚型聚氨酯。

其中,所述基膜层的厚度为15-75um,紫外线吸收率≥70%,80℃下的收缩率为0.3-2%,硬度≥90a。

优选地,所述自修复涂层为聚氨酯丙烯酸涂层,其厚度为20-50um,硬度/负重:1h/200g,水滴角≥108°,动摩擦系数u≤0.15。

更优选地,所述硬化防刮层的厚度为1-5um,水滴角≥108°,动摩擦系数u≤0.1。

更优选地,所述pet保护膜为亚克力保护膜,其厚度为25-85um。

更优选地,所述排气胶层为硅胶或亚克力胶,所述排气胶层的硬度≥65a。

更优选地,所述保护膜本体还包括一层防蓝光层,所述防蓝光层位于光学膜基材与基膜层之间或所述防蓝光层位于基膜层与排气胶层之间;或者所述保护膜本体中的任意一层结构内增加有蓝光吸收剂。

更优选地,所述保护膜本体的总厚度为0.07~0.2mm,透光率≥91%,雾度≤1%,光通量≥90%。

本实用新型的有益效果在于:通过采用tpu或pmma薄膜的光学膜基材以及tpu或亚克力材料的基膜层组成主要的基层结构,由于没有极化角度,其自身在任何角度的光通量都是一致的,解决了现有的srf等材料需进行固定角度式的模切加工而可能引发的加工角度不精确的问题,从而保证了该3d保护膜与手机屏幕配合后的契合度,进而保证屏下指纹解锁的灵敏性;另外,该3d保护膜的加工流程仅包括模切、贴合、再热定型或uv照射定型即可完成,相比现有的srf基材的工艺流程而言得到了更大的精简和优化,可在极大程度上提高制程良率和生产效率。

附图说明

图1为本实用新型实施例1中的整体结构示意图;

图2为本实用新型实施例2中的整体结构示意图;

图3为本实用新型实施例3的一种结构示意图;

图4为本实用新型实施例3的另一种结构示意图。

附图标记为:

1——光学膜基材2——基膜层3a——自修复涂层

3b——硬化防刮层4——pet保护膜5——排气胶层

6——pet离型膜7——防蓝光层。

具体实施方式

为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例与附图对本实用新型作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。

在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

实施例1

如图1所示,可热定型或uv照射定型的3d保护膜,包括保护膜本体,保护膜本体包括光学膜基材1,光学膜基材1的下表面涂覆有一层基膜层2,基膜层2的收缩率高于光学膜基材1的收缩率,光学膜基材1为流延或涂布成型的tpu或pmma薄膜,基膜层2为涂布在光学膜基材1表面并经过uv固化或热固化的tpu或亚克力材料,光学膜基材1的上表面涂覆有一层自修复涂层3a,自修复涂层3a上复合有一层pet保护膜4,基膜层2的下表面涂覆有一层排气胶层5,排气胶层5的下表面复合有一层pet离型膜6。

上述实施方式提供的可热定型或uv照射定型的3d保护膜,通过采用tpu或pmma薄膜的光学膜基材1以及tpu或亚克力材料的基膜层2组成主要的基层结构,由于没有极化角度,其自身在任何角度的光通量都是一致的,解决了现有的srf等材料需进行固定角度式的模切加工而可能引发的加工角度不精确的问题,从而保证了该3d保护膜与手机屏幕配合后的契合度,进而保证屏下指纹解锁的灵敏性,以实现快速屏下指纹识别。

另外,该3d保护膜的加工流程仅包括模切、贴合、再热定型或uv照射定型即可完成,相比现有的srf基材的工艺流程而言得到了更大的精简和优化,可在极大程度上提高制程良率和生产效率。值得说明的是,本领域的技术人员应该知道,由于基膜层2更加靠近手机屏幕,因此将光学膜基材1下表面的基膜层2的收缩率设置成高于光学膜基材1的收缩率,使得在热定型或uv照射定型成3d结构时,能够使基膜层2产生相对更大程度的收缩,以达到良好契合手机屏幕的同时还能与其上方的光学膜基材1保持良好的整齐度。

作为优选地,上述光学膜基材1可以采用热固化或者光固化方式生产,晶点、次点少、平整度高,并且耐黄变性能良好,其厚度为25-75um,透光率≥92%,雾度≤1%,收缩率为150℃*30min≤0.2%,耐温且收缩性低,硬度≥65d,拉伸断裂伸长率≥200%,断裂强度≥30mpa。

作为更优选地,基膜层2在选用为涂布在光学膜基材1表面并经过uv固化或热固化的tpu材料时,该tpu材料则具体可以是脂肪族tpu或聚醚型聚氨酯,其耐黄变性能佳。

其中,本实施中的基膜层2的厚度为15-75um,其紫外线吸收率≥70%,80℃下的收缩率为0.3-2%,硬度≥90a,在加热或者uv照射后,具有良好的定型和软化效果,也因此该3d保护膜无需像现有的较硬质的材料一样需进行热弯成型工序。

作为优选地,自修复涂层3a为具有良好的修复效果和高回弹效果的聚氨酯丙烯酸涂层,其厚度为20-50um,回弹时间≤10s(硬度/负重:1h/200g),水滴角≥108°,动摩擦系数u≤0.15。

作为更优选地,pet保护膜4为具有良好排气性以及不析出的低粘pet保护膜,其厚度为25-85um,可优选为亚克力保护膜,其耐温且低析出,可保证表面的水滴角的足够以及良好的爽滑性能,触感可同现有的srf材料、钢化玻璃等材料一致。

作为更优选地,排气胶层5作为排气性压敏胶,可以是硅胶或亚克力胶,对af屏幕具有良好的粘着效果,af粘着力≥30gf(af水滴角118°),该排气胶层5的硬度≥65a。

另外,在本实施例中,保护膜本体的总厚度为0.07~0.2mm,透光率≥91%,雾度≤1%,不同角度的光通量≥90%。

实施例2

如图2所示,本实施例与实施例1的不同之处仅在于用硬化防刮层3b结构替代了自修复涂层3a结构,即光学膜基材1与pet保护膜4之间的结构为硬化防刮涂层3b,其中,硬化防刮层3b的厚度为1-5um,水滴角≥108°,动摩擦系数u≤0.1,该结构的3d保护膜在撕去pet离型膜6和pet保护膜4之后贴覆于手机屏幕上,最上方硬化防刮涂层3b能够具备良好的抗指纹效果和防刮效果,其具体材料可从市面上常见的硬化防刮涂料中进行选择,在本实施例中,涂覆形成的硬化防刮涂层3b的耐磨性能满足≥2500次(0000#钢丝绒,1kg)即可。

基于上述实施例1与实施例2的结构,本申请对其各自进行了测试,得到的结果如下表所示:

通过上表的数据可见,该3d保护膜成型后的性能良好,应用于当下的屏下指纹解锁的曲面屏能够很好的替代现有的srf等材料形式的3d保护膜,同时由于工艺步骤能够得到有效缩减,因此本申请的3d保护膜的优势更加明显,市场前景良好,而较于损耗极高的零偏向角的pet材质而言,该3d保护膜更耐用,能有效保护手机等电子设备的屏幕,延长其使用寿命。

实施例3

本实施例与实施例1或实施例2的不同之处仅在于增加了防蓝光的结构,其具体包括以下三种形式的结构:一、如图3所示,保护膜本体还包括一层防蓝光层7,该防蓝光层7位于光学膜基材1与基膜层2之间;二、如图4所示,保护膜本体还包括一层防蓝光层7,该防蓝光层7位于基膜层2与排气胶层5之间;三、不单独增设防蓝光层,而是在保护膜本体中的任意一层结构内增加有蓝光吸收剂。上述蓝光吸收剂可从市面上现有的蓝光吸收剂中进行选择,本申请并不对其作具体限定,而防蓝光层7的具体结构也可以是包含有蓝光吸收剂的单独的涂层,因此本领域的技术人员对于设置防蓝光层7实现防蓝光效果不存在任何技术障碍。本实施通过在实施例1或实施例2的基础之上增加防蓝光的效果,能够有效地吸收屏幕散发的高能量的蓝光,从而保护电子产品使用者的眼睛。

上述实施例为本实用新型较佳的实现方案,除此之外,本实用新型还可以其它方式实现,在不脱离本技术方案构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。

为了让本领域普通技术人员更方便地理解本实用新型相对于现有技术的改进之处,本实用新型的一些附图和描述已经被简化,并且为了清楚起见,本申请文件还省略了一些其它元素,本领域普通技术人员应该意识到这些省略的元素也可构成本实用新型的内容。

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