一种制备花状氧化锌的方法与流程
本发明属于材料制备技术领域,具体涉及一种制备花状氧化锌的方法。
背景技术:
氧化锌是一种重要的化工原料,广泛应用于橡胶、涂料、陶瓷、医药、半导体和军事等领域。纳米氧化锌材料具有特异的理化性能,为新型多功能金属氧化物半导体材料,因其尺寸介于原子簇和宏观微粒之间,具有纳米材料的体积效应、表面效应、宏观量子隧道效应、久保效应等宏观材料不具备的特殊性质,如压电性、荧光性、非迁移性、吸收和散射紫外线的能力。纳米氧化锌可作为光谱催化剂、助溶剂、涂料增色剂和橡胶硫化活性剂等。
氧化锌材料的结构和形貌与材料的性能密切相关,纳米尺寸的氧化锌棒组成的花状结构比表面积大,具有介孔效应,具备优良性能。zn0纳米材料的形貌可控制仍然是zn0材料研究领域的一个热点。目前制备zn0纳米材料的方法有很多,比如金属有机化学气相沉积、水热法、溶胶凝胶法、电沉积法等。
现有水热法制备氧化锌的过程中会加入有机物作为原料,对环境会造成一定的影响;且操作繁琐、可控性低、设备要求高,花状氧化锌的形貌完整度较差,阻碍其应用。
技术实现要素:
本发明针对上述现有技术存在的不足,提供一种制备花状氧化锌的方法,在反应过程中无有机物加入,利用水析结晶法,制备出了花状氧化锌,氧化锌从中心向周围按照一维方向生长。
具体技术方案如下:
一种制备花状氧化锌的方法,以氧化锌和氢氧化钠为原料,水为溶剂,通过水析结晶法进行合成。
上述方法包括如下步骤:
(1)将氧化锌、氢氧化钠与水混合,制备得锌酸钠溶液;
(2)将达到预定温度的锌酸钠溶液和达到预定温度的水混合;
(3)将步骤(2)获得的体系进行过滤并洗涤,将得到的固相烘干,得到花状氧化锌。
本发明提供一种具有优异性能的花状氧化锌的形貌和物相调控方法,利用水析结晶法制备目标,制备过程中无有机物加入。
从电镜扫描图片可见,本发明的方法制备出由氧化锌棒组成的花状氧化锌颗粒,氧化锌从中心向周围按照一维方向生长。
进一步,步骤(1)中:氧化锌、氢氧化钠与水的混合物中,含氧化锌4wt%-14wt%、氢氧化钠15wt%-35wt%,余量为水。
进一步,步骤(2)中的结晶温度为20-90℃。具体地,锌酸钠溶液的温度为20-90℃,水的温度为20-90℃。
进一步,步骤(2)的反应时间为10-300min。
进一步,步骤(2)中:锌酸钠溶液和与其混合的水的质量比为1:(1-10)。
进一步,步骤(2)中:反应过程中持续搅拌,搅拌速率为100-700r/min。
进一步,步骤(3)中:所述的过滤为采用真空抽滤机、板框压滤机或离心机进行固液分离。
本发明的有益效果如下:
本发明提供一种具有优异性能的花状氧化锌的形貌和物相调控方法,利用水析结晶法制备出由氧化锌棒组成的花状氧化锌颗粒。本发明的方法不需使用有机试剂,具有原料易得,操作简单,不污染环境,反应溶液可以回收利用等优点。
附图说明
图1是实施例1中花状氧化锌的物相图;
图2是实施例1中花状氧化锌的扫描电子显微镜测试图。
具体实施方式
以下结合实例对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。
实施例1
一种制备花状氧化锌的方法,包括如下步骤:
(1)配置质量分数为20wt%naoh,5wt%zno的锌酸钠溶液;
(2)将20℃的50g锌酸钠溶液与20℃的450g水混合,反应温度为20℃,反应过程中持续搅拌,搅拌速率为300r/min,反应时间为300min;
(3)将步骤(2)获得的体系进行过滤并用水洗涤,将得到的固相放置于烘箱中,60℃烘干10h,得到花状氧化锌。
上述花状氧化锌的物相图见图1,从图1可以看出物相是单一的氧化锌,无其他杂质存在。
上述花状氧化锌的扫描电子显微镜测试图见图2,从图2可以看出,氧化锌颗粒是由氧化锌纳米棒由中心向外放射性生长的花状结构,颗粒呈球形。
实施例2
一种制备花状氧化锌的方法,包括如下步骤:
(1)配置质量分数为32wt%naoh,11wt%zno的锌酸钠溶液;
(2)将80℃的50g锌酸钠溶液与80℃的450g水混合,反应温度为80℃,反应过程中持续搅拌,搅拌速率为100r/min,反应时间为20min;
(3)将步骤(2)获得的体系进行过滤并用水洗涤,将得到的固相放置于烘箱中,60℃烘干10h,得到花状氧化锌。
实施例3
一种制备花状氧化锌的方法,包括如下步骤:
(1)配置质量分数为20wt%naoh,5wt%zno的锌酸钠溶液;
(2)将90℃的150g锌酸钠溶液与90℃的300g水混合,反应温度为90℃,反应过程中持续搅拌,搅拌速率为700r/min,反应时间为100min;
(3)将步骤(2)获得的体系进行过滤并用水洗涤,将得到的固相放置于烘箱中,60℃烘干10h,得到花状氧化锌。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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