一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺及其制备工艺的制作方法
本发明涉及特种砂浆领域,特别涉及一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺及其制备工艺。
背景技术:
磁瓦主要用在永磁直流电机中,与电磁式电机通过励磁线圈产生磁势源不同,永磁电机是以永磁材料产生恒定磁势源。永磁磁瓦代替电励磁具有很多优点,可使电机结构简单、维修方便、重量轻、体积小、使用可靠、用铜量少、铜耗低、能耗小等,当今社会,随着电子工业的飞速发展,铁氧体磁瓦等磁性材料的需求量越来越多。虽然我国是磁性材料生产大国,但是我们的产品尺寸精度,性能档次相对于发达国家来说还有很大的差距,因此我们要从工装设备,生产工艺技术要求方面大力着手,改革,以提高产品质量。目前现有的永磁铁氧体磁瓦及其制作方法生产过程比较复杂,生产工艺不够成熟,产品精度较差,在现有的技术基础上进行技术创新。
技术实现要素:
本发明的主要目的在于提供一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺及其制备工艺,可以有效解决背景技术中磁瓦耐磨性差的问题。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:
一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺,配方材料包括:磁铁氧体预烧料与辅料,所述辅料包括功能添加剂与碳酸钙、二氧化硅、氧化镧、硫酸锶以及三氧化二铝,所述功能添加剂包括:分散剂、硼酸、苏打以及硅酸盐纤维。
优选的,所述磁铁氧体预烧料为铁红,所述硅酸盐纤维为硅酸盐纤维、硅酸铝纤维、硅酸碳纤维。
优选的,所述铁红的质量配比为85%,所述碳酸钙的质量配比为3%,所述二氧化硅的质量配比为2%,所述氧化镧的质量配比为1%,所述硫酸锶的质量配比为4%,所述三氧化二铝的质量配比为2%,所述分散剂的质量配比为1%,所述硼酸的质量配比为0.8%,所述苏打的质量配比为0.4%,所述硅酸盐纤维的质量配比为0.8%。
优选的,所述硅酸盐纤维中的各类添加剂均等量配置。
优选的,所述铁红与辅料的质量配比为5.6:1。
一种耐磨性好的铁氧体磁瓦的制备工艺,包括以下流程:
s1、材料与设备准备,根据铁氧体磁瓦的大小,事先预估并准备好足够的配方中的材料,同时准备好大小合适的烧结、打磨设备;
s2、用量计算与设备试机,根据作业区铁氧体磁瓦的需求量以及配比计算出各种材料的需求量,同时将预烧设备提前加热;
s3、基材混合,将配方中的铁红加入加温设备,开启加热设备并进行预烧混合,使铁红混合均匀,将预烧料加水搅拌后压制成块型,放入炉内在1250°c-1280°c的温度下烧制,时间控制在4h~6h,推进速度38~45min/板;
s4、一次球磨,将预烧混合完成后的铁红取出移动至打磨区,通过设置好的球型打磨工具为铁红进行第一次干打磨,使预烧料均匀混合,预烧料的颗粒≤5μm。
s5、助剂混合,将进行一次球磨后的铁红取出,将烧结成型的块料进行粉碎,粉料的颗粒≤3.5μm,将混合料中加入碳酸钙3%,二氧化硅2%,氧化镧1%,硫酸锶4%,三氧化二铝2%。
s6、二次球磨,先将混料在球磨机内进行粗球磨,料浆粒度控制在1.0μm~1.3μm,再将料浆打入细磨球磨机内,并按重量百分比加入硅酸盐纤维0.8%以及分散剂1%、硼酸0.8%、苏打0.4%,料浆粒度控制在0.75μm~0.85μm。
s7、烧结削磨,将得到的生坯在温度为1200°c~1350°c下烧结,烧结时间每板推进速度为8分钟~14分钟/板,保温时间2-3小时后出炉,将烧结料自然冷却至常温状态,然后将生胚削磨至所需尺寸。
s8、清洗充磁,将削磨完成后的生胚进行清洗充磁。
优选的,所述s4步骤中球磨机内球型打磨装置直径为20mm,所述s6步骤中球磨机内粗球型打磨装置直径为30mm,细磨球打磨装置直径为5mm。
优选的,所述s7步骤中若烧结完成后的的生胚,若削磨后发现生胚松散则添加基材混合物,若削磨后发现生胚削磨时间过长则延长球磨机的打磨时间。
与现有技术相比,本发明一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺及其制备工艺,通过铁红加温煅烧后进过第一轮干打磨,从而提高铁氧体磁瓦干燥成型后的耐磨性能,同时通过添加各种辅料以及各种功能添加剂,配合专门的铁氧体磁瓦二次湿磨、烧结削磨制备工艺,使得制成的铁氧体磁瓦具有良好的耐磨性能,从而避免了铁氧体磁瓦在频繁使用过程中发生损坏,造成不必要的经济损失。
附图说明
图1为本发明一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺及其制备工艺的制备流程图。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
在本发明的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺,配方材料包括:磁铁氧体预烧料与辅料,辅料包括功能添加剂与碳酸钙、二氧化硅、氧化镧、硫酸锶以及三氧化二铝,功能添加剂包括:分散剂、硼酸、苏打以及硅酸盐纤维;
磁铁氧体预烧料为铁红,硅酸盐纤维为硅酸盐纤维、硅酸铝纤维、硅酸碳纤维;铁红的质量配比为85%,碳酸钙的质量配比为3%,二氧化硅的质量配比为2%,氧化镧的质量配比为1%,硫酸锶的质量配比为4%,三氧化二铝的质量配比为2%,分散剂的质量配比为1%,硼酸的质量配比为0.8%,苏打的质量配比为0.4%,硅酸盐纤维的质量配比为0.8%;硅酸盐纤维中的各类添加剂均等量配置;铁红与辅料的质量配比为5.6:1。
如图1所示,一种聚合物抗裂砂浆的制备工艺,包括以下流程:
s1、材料与设备准备,根据铁氧体磁瓦的大小,事先预估并准备好足够的配方中的材料,同时准备好大小合适的烧结、打磨设备;
s2、用量计算与设备试机,根据作业区铁氧体磁瓦的需求量以及配比计算出各种材料的需求量,同时将预烧设备提前加热;
s3、基材混合,将配方中的铁红加入加温设备,开启加热设备并进行预烧混合,使铁红混合均匀,将预烧料加水搅拌后压制成块型,放入炉内在1250°c-1280°c的温度下烧制,时间控制在4h~6h,推进速度38~45min/板;
s4、一次球磨,将预烧混合完成后的铁红取出移动至打磨区,通过设置好的球型打磨工具为铁红进行第一次干打磨,使预烧料均匀混合,预烧料的颗粒≤5μm。
s5、助剂混合,将进行一次球磨后的铁红取出,将烧结成型的块料进行粉碎,粉料的颗粒≤3.5μm,将混合料中加入碳酸钙3%,二氧化硅2%,氧化镧1%,硫酸锶4%,三氧化二铝2%。
s6、二次球磨,先将混料在球磨机内进行粗球磨,料浆粒度控制在1.0μm~1.3μm,再将料浆打入细磨球磨机内,并按重量百分比加入硅酸盐纤维0.8%以及分散剂1%、硼酸0.8%、苏打0.4%,料浆粒度控制在0.75μm~0.85μm。
s7、烧结削磨,将得到的生坯在温度为1200°c~1350°c下烧结,烧结时间每板推进速度为8分钟~14分钟/板,保温时间2-3小时后出炉,将烧结料自然冷却至常温状态,然后将生胚削磨至所需尺寸。
s8、清洗充磁,将削磨完成后的生胚进行清洗充磁;
s4步骤中球磨机内球型打磨装置直径为20mm,s6步骤中球磨机内粗球型打磨装置直径为30mm,细磨球打磨装置直径为5mm;s7步骤中若烧结完成后的生胚,若削磨后发现生胚松散则添加基材混合物,若削磨后发现生胚削磨时间过长则延长球磨机的打磨时间。
需要说明的是,本发明为一种耐磨性好的铁氧体磁瓦及其制作工艺及其制备工艺,在制备铁氧体磁瓦时,首先准备好基材铁红和碳酸钙、二氧化硅、氧化镧、硫酸锶以及三氧化二铝等基材的辅料与相应的添加剂,同时准备好合适大小的球磨机设备,准备工作先接加热仓设备的电源,往加热仓设备中添加基材铁红,随后启动加热仓设备进行第一轮预加热,与此同时,根据所需铁氧体磁瓦的需求量估算出大概的铁红用量,再利用材料配方比计算出各种材料的用量,待加热并充分混合完成后加水搅拌后压制成块型,将预烧混合完成后的铁红取出移动至打磨区,通过设置好的球型打磨工具为铁红进行第一次干打磨,且球磨机内球型打磨装置直径为20mm,使预烧料均匀混合,预烧料的颗粒≤5μm,将进行一次球磨后的铁红取出,将烧结成型的块料进行粉碎,粉料的颗粒≤3.5μm,将铁红中加入碳酸钙3%,二氧化硅2%,氧化镧1%,硫酸锶4%,三氧化二铝2%,混料在球磨机内进行粗球磨且球磨机内粗球型打磨装置直径为30mm,料浆粒度控制在1.0μm~1.3μm,再将料浆打入细磨球磨机内且球磨机内细球型打磨装置直径为5mm,并按重量百分比加入硅酸盐纤维0.8%以及分散剂1%、硼酸0.8%、苏打0.4%,料浆粒度控制在0.75μm~0.85μm后得到生胚,将得到的生坯在温度为1200°c~1350°c下烧结,烧结时间每板推进速度为8分钟~14分钟/板,保温时间2-3小时后出炉,将烧结料自然冷却至常温状态,然后将生胚削磨至所需尺寸,最后将削磨完成后的生胚进行清洗充磁,最后若烧结完成后的生胚,若削磨后发现生胚松散则添加基材混合物,若削磨后发现生胚削磨时间过长则延长球磨机的打磨时间。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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