一种塞头式下压棒组件的制作方法

本发明涉及粉末冶金加工零件技术领域，尤其涉及一种塞头式下压棒组件。

背景技术：

现有的粉末冶金多采用回转式的粉末成型机对金属粉末进行压制成型，其原理是在回转的中盘上设置多个工位，工位包括母模、上下对应设置并可插入母模的上型和下型，上型和下型分别连接有上压棒和下压棒，当工位转至上压轮和下压轮时，上压棒和下压棒在上压轮和下压轮的共同压力作用下，将上型和下型压入母模，使母模内的粉末在巨大的压力下压制成坯块，而且现有的下压棒的塞头通过螺杆固定连接于下压棒体，在成品压制时，需要通过巨大的压力经下压棒将坯块压制成型或顶出，这种情况很容易出现下压棒和滑轨磨损破坏的情况，从而影响坯块成型质量，并造成成本增加的情况，大大影响设备的使用寿命，

技术实现要素：

为了克服上述技术缺陷，本发明的目的是提供一种塞头式下压棒组件，其不仅结构简单，设计合理，且使用寿命长，能保证粉末成型的质量，且降低制造成本。

为实现上述目的，本发明通过以下技术方案予以实现：

一种塞头式下压棒组件，包括依次连接的塞头、设有用于安装芯棒的安装槽的下压棒体和下型；

所述塞头经螺杆可活动设于所述下压棒体一端的定位槽内，所述螺杆上套设有轴套，所述塞头伸入端与所述定位槽底部之间设有垫片；

所述下型经定位螺帽固定连接于所述下压棒体的另一端，所述下型包括底座和固定设于所述底座上的下冲头，所述定位螺帽内还设有下型座和垫圈，所述下型座位于所述底座和所述下压棒体之间，所述垫圈设于所述底座上并位于所述下型座和所述定位螺帽之间。

进一步的，所述塞头上设有经所述螺杆穿过的通孔，所述轴套设于通孔内。

进一步的，所述轴套高出所述螺杆0.1-0.4mm。

进一步的，所述垫片的厚度为10-15mm。

进一步的，所述垫圈的厚度为10-15mm。

综上所述，本发明的优点是：

该结构在螺杆和塞头之间设置有轴套，保证了塞头经螺杆可活动连接于下压棒体，从而保证了塞头在将坯块压制成型或顶出时，不会由于塞头上某个固定位置一直承受的压力过大而出现损坏，其可实现360度旋转，从而使受力点作用在塞头上不同的位置，使受力平均，从而保证了其使用寿命。

此外，塞头伸入端与所述定位槽底部之间设有垫片，下型座和定位螺帽之间还设有垫圈，垫片和垫圈的作用是为了保证产品在压制时不会出现压制表面不平的情况，从而影响其成型质量。

综上所述，其不仅结构简单，设计合理，且使用寿命长，能保证粉末成型的质量，且降低制造成本。

附图说明

图1是本发明的结构示意图；

图2是图1中沿a-a线的截面示意图；

图3是本发明中塞头的结构示意图；

图4是本发明中下压棒体的结构示意图；

图5是本发明中下型的结构示意图；

图6是本发明中轴套的结构示意图；

图7是本发明中垫片的结构示意图；

图8是本发明中下型座的结构示意图；

图9是本发明中垫圈的结构示意图。

1、塞头，2、下压棒体，201、定位槽，202、安装槽，3、下型，301、底座，302、下冲头，4、定位螺帽，5、螺杆，6、轴套，7、垫片，8、下型座，9、垫圈。

具体实施方式

下面将结合附图以及具体实施方式对发明作进一步的说明：

如图1、图2、图3、图4、图5、图6、图7、图8和图9所示，一种塞头式下压棒组件，包括依次连接的塞头1、设有用于安装芯棒的安装槽202的下压棒体2和下型3；

所述塞头1经螺杆5可活动设于所述下压棒体2一端的定位槽201内，所述螺杆5上套设有轴套6，所述塞头1伸入端与所述定位槽201底部之间设有垫片7；

所述下型3经定位螺帽4固定连接于所述下压棒体2的另一端，所述下型3包括底座301和固定设于所述底座301上的下冲头302，所述定位螺帽4内还设有下型座8和垫圈9，所述下型座8位于所述底座301和所述下压棒体2之间，所述垫圈9设于所述底座301上并位于所述下型座8和所述定位螺帽4之间。

其中，所述塞头1上设有经所述螺杆5穿过的通孔101，所述轴套6设于通孔101内。

其中，所述轴套6高出所述螺杆50.1-0.4mm。

其中，所述垫片7的厚度为10-15mm。

其中，所述垫圈9的厚度为10-15mm。

该结构在螺杆5和塞头1之间设置有轴套6，保证了塞头1经螺杆5可活动连接于下压棒体2，从而保证了塞头1在将坯块压制成型或顶出时，不会由于塞头1上某个固定位置一直承受的压力过大而出现损坏，其可实现360度旋转，从而使受力点作用在塞头1上不同的位置，使受力平均，从而保证了其使用寿命。

此外，塞头1伸入端与所述定位槽201底部之间设有垫片7，下型座8和定位螺帽4之间还设有垫圈9，垫片7和垫圈9的作用是为了保证产品在压制时不会出现压制表面不平的情况，从而影响其成型质量。

综上所述，其不仅结构简单，设计合理，且使用寿命长，能保证粉末成型的质量，且降低制造成本。

对于本领域的技术人员来说，可根据以上技术方案以及构思，做出其他各种相应的改变以及变形，而所有的这些改变和变形都应该属于本发明权利要求的保护范围之内。

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