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[0001]本发明总体上涉及在等离子体加工方法诸如等离子体蚀刻中保护表面的方法。特别地,本发明涉及利用气相化学沉积的方法制造耐等离子体腐蚀的涂覆物品。背景技术:[0002]化学
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