一种高效3d打印雕刻抛光机技术领域[0001]本实用新型涉及一种3d打印抛光机，特别涉及一种高效3d打印雕刻抛光机，属于抛光技术领域。背景技术：[0002]3d打印技术即快速成

• 抛光机
• 抛光液
• 高效电机
• 雾化器
• 潜水泵

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基于雾化熏蒸的3d打印成品表面处理系统技术领域[0001]本实用新型涉及抛光技术领域，具体地，涉及一种基于雾化熏蒸的3d打印成品表面处理系统。背景技术：[0002]3d打印技术

• 抛光液

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本发明涉及化学机械研磨(cmp)领域，具体涉及一种用于碳化硅cmp的抛光组合物及其制备方法。背景技术：碳化硅材料因其硬骨高，导热性好，耐磨性能好，以及禁带宽度大等特点，而应用于

• 消泡剂
• 抛光液

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本发明涉及抛光材料制备技术领域，具体涉及一种混合磨料的硬质合金抛光浆料及其制备方法。背景技术：硬质合金具有很高的硬度、强度、耐磨性和耐腐蚀性，被誉为“工业牙齿”，用于制造切削工

• 去离子水
• 硅溶胶
• 抛光液
• 镜面抛光
• 牙齿抛光

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本发明涉及半导体材料抛光技术领域：，尤其涉及一种氮化镓衬底材料的抛光液。背景技术：：氮化镓(gan)在蓝光和紫外发光二极管和激光二极管等光电器件方面具有潜在的应用前景。目前，大

• 抛光液
• 氮化镓
• 金属腐蚀
• 科普

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本发明涉及化学机械抛光(cmp)领域，具体涉及一种用于ic铜阻挡层cmp的抛光组合物及其制备方法。背景技术：现今超大集成电路的发展已经接近纳米级的技术节点，而化学机械抛光(cm

• 去离子水
• 消泡剂
• 植酸
• 抛光液
• 金属腐蚀

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[0001]本发明涉及一种抛光材料的制备技术领域，尤其是一种超低色散玻璃镜片用抛光液及其制备方法。背景技术：[0002]超低色散玻璃镜片，简称ed(extra-lowdispe

• 去离子水
• 抛光液
• 色散
• 硅酸锆

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[0001]本发明属于机械领域，尤其涉及一种齿条抛光装置。背景技术：[0002]现有的齿条抛光装置，均是通过抛光盘进行，但是采用抛光盘，容易出现部分区域抛光不充分的现象，因此需

• 齿条
• 抛光液

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分案说明本申请是针对申请日为2020年06月10日、申请号为202010524188.5、发明名称为“一种用于制备掺杂yag单晶光纤的方法”的中国申请提出的分案申请。本申请涉及

• 抛光液
• 光纤损耗

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本发明涉及一种不规则形貌的纳米磨粒及其制备方法。特别是一种花状二氧化硅磨粒，用于蓝宝石晶片的抛光加工工艺过程中，属表面抛光加工技术领域。背景技术：蓝宝石，单晶形态的α-al2o

• 去离子水
• 氧化硅
• 抛光液
• 纳米二氧化硅
• 纳米粒子

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