本实用新型属于磁控溅射技术领域：，涉及一种溅射靶材组件，尤其涉及一种长寿命溅射靶材组件。背景技术：：溅射靶材是半导体集成电路制备过程中重要的原材料之一，靶材的材质主要包括al、

• 溅射靶材
• 磁控溅射

查看详情

[0001]本发明属于超亲水薄膜材料技术领域，具体涉及一种具有耐久超亲水特性的微纳结构薄膜的制备方法。背景技术：[0002]超亲水材料在自清洁、防雾防污、油水分离、生物材料等领

• 溅射靶材
• 接触角
• 等离子体

查看详情