一种抛光装置转轴缓冲结构的制作方法

本实用新型涉及研磨技术领域，尤其涉及一种抛光装置转轴缓冲结构。

背景技术：

在工业领域以及科研实验室领域，大量存在着研磨抛光这样的制作工艺，在研磨抛光过程中，会用到抛光机，抛光机的抛光盘设置在电机上。抛光样品在抛光过程中，对于抛光盘会有一个压力，这个压力的大小根据研磨抛光的需要来设定，现有的研磨装置大多由主转轴直接与抛光盘固定，大的压力会通过抛光盘施加一个很大的弯矩作用在电机主轴上，造成精度降低，电机寿命缩短。

技术实现要素：

本实用新型提供一种抛光装置转轴缓冲结构，采用特殊结构将研磨过程中的压力缓冲或和分解后再作用在电机转轴上，具有提高研磨精度和保护电机的技术效果。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种抛光装置转轴缓冲结构，包括：

电机法兰，用于与电机转轴固定并和抛光盘进行一体连接；

电机支架，用于与电机壳体进行固定；

所述电机法兰通过轴承与电机支架转动连接；

轴端挡圈，设置在电机转轴上，用于锁紧电机法兰；

轴用挡圈，设置在电机法兰上，用于锁紧轴承。

进一步地，所述电机支架上对称制有卡槽一和卡槽二；所述电机支架上端固定有法兰一，所述法兰一对称制有与卡槽一和卡槽二匹配的孔一和孔二。

进一步地，还包括漏液管

所述漏液管的管壁上制有与卡槽一和卡槽二卡接的卡楞；所述漏液管至少有一个，通过卡楞与卡槽一或和卡槽二卡接并与孔一或和孔二上空面平齐。

进一步地，所述电机法兰中心具有轴管，该轴管内壁与电机转轴固定连接；所述轴管的下端外壁安装轴承；所述轴管的下端外壁设置轴用挡圈。

进一步地，所述电机法兰周向制有固定孔；所述抛光盘具有的固定管下端制有固定盲孔；所述抛光盘与电机法兰通过固定螺钉通过固定孔后至固定盲孔内将电机法兰和抛光盘固定。

进一步地，所述抛光装置的固定管周向设置密封圈。

本实用新型的技术效果和优点：

1.本实用新型的一种抛光装置转轴缓冲结构，包括：电机法兰，用于与电机转轴固定并和抛光盘进行一体连接；电机支架，用于与电机壳体进行固定；所述电机法兰通过轴承与电机支架转动连接；轴端挡圈，设置在电机转轴上，用于锁紧电机法兰；轴用挡圈，设置在电机法兰上，用于锁紧轴承。能将抛光过程中抛光盘受到的弯矩力分别分解在法兰、电机支架、轴承上使得电机转轴受到的减少了很多，有效地保护电机转轴延长转轴寿命同时也提高了研磨精度。

附图说明

图1为本实用新型的整体外观图；

图2为本实用新型的剖视图；

图3为本实用新型结构展开图。

图中，1-法兰一，2-电机支架，3-轴承，4-轴用挡圈，5-伺服电机，6-轴端挡圈，7-电机法兰，8-抛光盘，9-密封圈，10-漏液管，101-卡楞，11-孔一，12-孔二，21-卡槽一，22-卡槽二，71-轴管，81-固定管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，本专利由于采用的部件较多使用的原理较多，如有器件或原理及附图未进行详细描述的均采用现有技术，本领域技术人员在理解本专利全文精神的基础上可以就普通知识补充未详细描述的部分，比如电机法兰的固定孔、螺栓固定方式,连接与联结等同用法等。

实施例1，结合附图1-3做以下描述；

本实用新型提供的一种抛光装置转轴缓冲结构，如图1、2、3所示转轴缓冲结构，包括：

电机法兰7，用于与电机转轴固定并和抛光盘8进行一体连接；

电机支架2，用于与电机壳体进行固定；

所述电机法兰7通过轴承3与电机支架2转动连接；

轴端挡圈6，设置在电机转轴上，用于锁紧电机法兰7；所述轴端挡圈6中心制有螺纹孔，所述电机转轴中心制有螺纹孔，轴端挡圈通过螺钉与电机转轴固定。

轴用挡圈4，设置在电机法兰7上，用于锁紧轴承3。

本申请实施例中当使用本实用新型结构进行抛光时，抛光盘受到的力不是直接传给电机转轴而是将受到的加工力量先传递给电机法兰进行一次分解，电机法兰再将受到加工力量传递给轴承进行二次分解，轴承再将受到加工力量传递给电机支架进行三次分解，电机支架再将受到加工力量传递给法兰一进行四次分解，经过四次力量的分解后电机转轴受到的力量降低至很小，具有抛光精度高和延长电机寿命的技术效果。

实施例2，结合附图1-3做以下描述；

在实施例1的基础上，如图1、2、3所示，本实用新型的进一步地，所述电机支架2上对称制有卡槽一21和卡槽二22；所述电机支架上端固定有法兰一1，所述法兰一1对称制有与卡槽一21和卡槽二22匹配的孔一11和孔二12。

进一步地，还包括漏液管10，

所述漏液管10的管壁上制有与卡槽一21和卡槽二22卡接的卡楞101；所述漏液管10至少有一个，通过卡楞101与卡槽一21或和卡槽二22卡接并与孔一11或和孔二22上空面平齐。

进一步地，所述电机法兰7中心具有轴管71，该轴管71内壁与电机转轴固定连接；所述轴管71的下端外壁安装轴承3；所述轴管71的下端外壁设置轴用挡圈4。

进一步地，所述电机法兰7周向制有固定孔；所述抛光盘8具有的固定管81下端制有固定盲孔；所述抛光盘8与电机法兰7通过固定螺钉通过固定孔后至固定盲孔内将电机法兰7和抛光盘8固定。

进一步地，所述抛光装置的固定管周向设置密封圈9。

本实施例中，电机采用伺服电机，使用时启动伺服电机带动电机法兰转动，电机法兰带动抛光盘转动后可进行抛光加工，轴承3起到了提高整体电机输出轴的刚性，研磨抛光过程中，抛光液通过管排放，密封圈9起到了密封的效果，保证了电机不受到抛光液影响。上述技术方案显著提高了整体结构的刚性，能够承受较大的轴向弯矩，研磨抛光过程中，保证了不对电机造成损坏，同时提高了研磨抛光精度，提高了生产的成品率，提高了生产效率。

进一步地，在实施例1、2构思的基础上，本实用新型的使用情况之一，在抛光盘的半径70mm的地方，施加了大约5kg的压力。在常见的连接方式中，抛光盘与电机轴直连，对于电机的输出轴，有3.5nm的弯矩，这是很大的一个负载力。本实用新型提供的新的结构，工作中由于被抛光物对抛光盘施加的压力，而形成的弯矩，通过轴承作用在了电机支架上，从而保护了电机，提高了精度。

力是施加在所述的抛光盘8圆周上，对于圆周中心形成了一个3.5nm的弯矩。在不使用本结构的情况下，采用电机与抛光盘直接连接的方式，电机轴承受所有的3.5nm的弯矩。

本申请实施例中，力施加在所述的抛光盘8圆周上半径70mm的地方，对于圆周中心形成了一个3.5nm的弯矩。在不使用本结构的情况下，采用电机与抛光盘直接连接的方式，电机轴承受所有的3.5nm的弯矩。当使用本实用新型缓冲结构时，所述的抛光盘连接在所述的电机法兰7上，所述电机法兰7通过轴承3与电机支架2配合。在本实施例中，弯矩传递到电机法兰，通过轴承，在传递到电机支架上，最后传递到法兰上。在实施例中，法兰是固定在设备上的，因此在电机上的弯矩很小，大约只有0.1nm。

本申请实施例中，力施加在所述的抛光盘8圆周上半径70mm的地方，对于圆周中心形成了一个3.5nm的弯矩。在不使用本结构的情况下，采用电机与抛光盘直接连接的方式，电机轴承受所有的3.5nm的弯矩。所述的抛光盘连接在所述的电机法兰7上，所述电机法兰7通过轴承3与电机支架2配合。在本实施例中，弯矩传递到电机法兰，通过轴承，在传递到电机支架上，最后传递到法兰上。在实施例中，法兰是固定在设备上的，因此在电机上的弯矩很小，大约只有0.05nm。

最后应说明的几点是：首先，在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，可以是机械连接，也可以是两个元件内部的连通，可以是直接相连，“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变，则相对位置关系可能发生改变；

其次：本实用新型公开实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计，在不冲突情况下，本实用新型同一实施例及不同实施例可以相互组合；

最后：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的设计思路或原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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