一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具的制作方法

[0001]
本实用新型涉及物理气相沉积技术零件镀膜领域，具体涉及用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具。


背景技术：

[0002]
物理气相沉积(简称pvd)是将金属、合金或化合物放在真空室中蒸发(或称溅射)，使这些气相原子或分子在一定条件下沉积在工件表面上的工艺。物理气相沉积可分为真空蒸镀、真空溅射和离子镀互类。与cvd相比，pvd法的主要优点是处理温度较低，沉积速度较快，无公害等，因而有很高的实用价值。
[0003]
随着物理气相沉积技术的发展，镀膜的夹具层出不穷，但是目前市场上还未出现针对球体零件的pvd涂层夹具，因为球体零件不易夹持固定，并且从固定位置对球体零件的球面进行涂层，涂层效果不好。


技术实现要素：

[0004]
本实用新型要解决的技术问题是提供，一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，实现对球体零件的夹持和旋转喷涂。
[0005]
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具，包括分别固定在转炉杆上的上夹具和下夹具，所述上夹具包括套设在转炉杆上的基盘，所述基盘上设置有若干转盘轴承，所述转盘轴承内设置有上支架；所述下夹具包括依次套设在转炉杆上的底盘、中盘和上盘，所述上盘固定在所述转炉杆上，所述上盘设置有与所述转盘轴承位置对应的转动柱，所述转动柱上设置有与所述上支架位置对应的下支架，所述底盘固定在上盘上，所述中盘夹在底盘和上盘之间，所述中盘能够相对于底盘和上盘转动，所述中盘的一侧设置有突出部，所述突出部上设置有拨片，所述拨片能够拨动所述转动柱转动。
[0006]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述转盘轴承和转动柱均以转炉杆为中心，分别周向均匀分布在基盘和上盘上。
[0007]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述上盘上突出设置有小圆柱，所述转动柱底端设置有圆柱孔与上盘上小圆柱配合，所述转动柱能够在小圆柱上转动。
[0008]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述转动柱的外周设置有与所述拨片配合的转动柱凹槽。
[0009]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述上支架与所述转盘轴承分体连接，所述下支架与所述转动柱分体连接。
[0010]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述上支架插入到所述转盘轴承中，所述上支架与转盘轴承采用过盈配合的方式连接。
[0011]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述下支架与所述转动柱通过螺纹连接。
[0012]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述上支架和下支架的端面均设置有与所述球体零件匹配的球形凹槽。
[0013]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述转炉杆上设置有多个固定凹槽，所述基盘和上盘均通过紧固螺钉旋入到固定凹槽中将基盘和上盘的位置固定。
[0014]
本实用新型一个较佳实施例中，进一步包括所述拨片通过拨片立柱和拨片螺钉固定在中盘的突出部上，所述拨片立柱焊接或者通过螺栓连接在所述中盘上。
[0015]
本实用新型的有益效果：
[0016]
本实用新型采用上夹具和下夹具将球体零件进行夹持固定，并且将上夹具和下夹具套设在转炉杆上，随转炉杆一起转动，上夹具和下夹具之间的球体零件也以转炉杆为轴心转动，在转动的过程中，在下夹具上设置有不随转动炉转动的中盘和拨片，通过拨片能够拨动球体零件自身转动，从而，通过此夹具实现了球体零件在镀层设备中的公转和自转，能够实现对球体表面的球面进行全方位的喷涂。
附图说明
[0017]
图1是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具总装图；
[0018]
图2是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具上夹具图；
[0019]
图3是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具下夹具爆炸图；
[0020]
图4是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具下夹具图；
[0021]
图5是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具下夹具上盘图；
[0022]
图6是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具下夹具转动柱图；
[0023]
图7是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具下夹具下支架图；
[0024]
图8是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具上支架图；
[0025]
图9是本实用新型一种用于物理气相沉积球体零件镀膜夹具转炉杆图。
[0026]
图中标号说明：1、转炉杆；11、固定凹槽；2、上夹具；21、基盘；22、转盘轴承；23、上支架；3、下夹具；31、底盘；32、中盘；33、上盘；331、小圆柱；34、转动柱；341、转动柱凹槽；35、下支架；36、拨片；37、拨片立柱；38、拨片螺钉；4、球体零件；5、球形凹槽；6、紧固螺钉。
具体实施方式
[0027]
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本实用新型并能予以实施，但所举实施例不作为对本实用新型的限定。
[0028]
参照图1-4所示，本实用新型的用于物理气相沉积的球体零件镀膜夹具的一实施例，包括分别固定在转炉杆1上的上夹具2和下夹具3，所述上夹具2和下夹具3用于将球体零件4夹持固定，所述上夹具2包括套设在转炉杆1上的基盘21，所述基盘21上设置有若干转盘轴承22，所述转盘轴承22内设置有上支架23；所述下夹具3包括依次套设在转炉杆1上的底盘31、中盘32和上盘33，所述上盘33固定在所述转炉杆1上，所述上盘33设置有与所述转盘轴承22位置对应的转动柱34，所述转动柱34上设置有与所述上支架23位置对应的下支架35，所述转盘轴承22和转动柱34均以转炉杆1为中心，分别周向均匀分布在基盘21和上盘33上，每个所述上支架23和下支架35之间夹持一个球体零件4，所述底盘31通过连接螺钉固定在上盘33上，所述中盘32夹在底盘31和上盘33之间，所述中盘32能够相对于底盘31和上盘
33转动，所述中盘32的一侧设置有突出部，所述突出部上设置有拨片36，所述拨片36通过拨片立柱37和拨片螺钉38固定在中盘32的突出部上，所述拨片立柱37焊接或者通过螺栓连接在所述中盘32上，所述拨片36能够拨动所述转动柱34转动。
[0029]
参照图5所示，所述上盘33上突出设置有小圆柱331，所述转动柱34底端设置有圆柱孔与上盘33上小圆柱331配合，所述转动柱34能够在小圆柱331上转动。
[0030]
参照图6所示，所述转动柱34的外周设置有若干与所述拨片36配合的转动柱凹槽341，所述拨片36依次插入到转动柱凹槽341中，从而拨动所述转动柱34转动。
[0031]
具体地，将本实施例的夹具放入到物理沉积喷涂设备中时，由于上夹具2和下夹具3均套设在转炉杆1上，所述上夹具2和下夹具3在转炉杆1的带动下转动，所述中盘32活动设置在底盘31和上盘33之间，所述中盘32能够相对于底盘31和上盘33转动，在所述中盘32突出部的转动轨迹上设置档杆，限制所述中盘32转动，这样在转炉杆1转动的过程中，所述中盘32就会停止转动，所述中盘32上的拨片36也停止运动，所述上盘33和底盘31相对于中盘32转动，所述上盘33转动带动转动柱34移动，当转动柱凹槽341移动到与拨片36接触的时候，所述拨片36就会拨动所述转动柱34转动。
[0032]
参照图7、图8所示，为了更好的夹持住球体零件4，所述上支架23和下支架35的端面均设置有与所述球体零件4匹配的球形凹槽5，通过球形凹槽5将球体零件4进一步固定，并且根据球体零件4的大小，可以设置不同大小的球形凹槽5。
[0033]
具体地，对于不同尺寸的球体零件4，需要采用不同大小的上支架23和下支架35，为了便于对上支架23、下支架35进行更换，本实施例中，所述上支架23与所述转盘轴承22分体连接，所述下支架35与所述转动柱34分体连接。
[0034]
具体地，所述上支架23插入到所述转盘轴承22中，所述上支架23与转盘轴承22采用过盈配合的方式连接；所述下支架35与所述转动柱34通过螺纹连接，在具体的实施过程中，所述上支架23与转盘轴承22也可以通过螺纹连接，所述下支架35与所述转动柱34也可以采用过盈配合的方式连接。
[0035]
参照图9所示，所述转炉杆1上设置有多个固定凹槽11，所述基盘21和上盘33均通过紧固螺钉6旋入到固定凹槽11中将基盘21和上盘33的位置固定，再将球体零件4夹紧的过程中，先通过紧固螺钉6将下夹具3固定在转炉杆1上，将球体零件4放置在上夹具2和下夹具3之间，然后尽量下移上夹具2，将球体零件4在上夹具2和下夹具3之间夹紧，最后通过紧固螺钉4将上夹具2固定在转炉杆1上。
[0036]
具体地，本实施例的夹具，在对球体零件4镀膜时，需要夹持球体零件4，在上支架23和下支架35夹持的位置没有镀膜，因此需要二次镀膜，将上支架23和下支架35的夹持位置设置在已涂层的地方，从而对一次镀膜中未涂层的球体零件4部分实现涂层，即完成了球体零件4球形表面的完全涂层。
[0037]
以上所述实施例仅是为充分说明本实用新型而所举的较佳的实施例，本实用新型的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本实用新型基础上所作的等同替代或变换，均在本实用新型的保护范围之内。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。

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