一种可提高镀膜均匀度的镀膜装置的制作方法

[0001]
本发明涉及镀膜技术领域，更具体地说，本发明涉及一种可提高镀膜均匀度的镀膜装置。


背景技术：

[0002]
当光线进入不同传递物质时如由空气进入玻璃，大约有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％至40％。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5％，多层增透膜则可让反射降低至0.25％，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95％。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。
[0003]
常见的镀膜装置在工作时，通过镀膜装置中的控制箱打开电子枪的电源，让电子枪产生高强的电流溶解坩埚内的镀膜材料，使其雾化挥发，从而给镀膜件固定装置上的镀膜件进行镀膜，但是在整个镀膜过程中，坩埚中镀膜材料的挥发面尺寸一定，且距离电子枪不同距离、角度的坩埚内镀膜材料，雾化挥发程度相异，而镀膜材料位置固定，从而导致镀膜均匀度差。


技术实现要素：

[0004]
为解决上述技术问题，本发明提供一种可提高镀膜均匀度的镀膜装置，包括机箱密封门、托盘和带动托盘在机箱密封门内垂直移动的电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的输出端与端板相连，端板连接在托盘的端头且位于托盘的内腔，所述托盘上间距安装有坩埚，且托盘的底部安装有使坩埚的尺寸可调节的底调节板，所述底调节板经传动连板与电动伸缩杆相连，且传动连板上安装有驱动设备，所述驱动设备的输出端连接有从动板，所述从动板与底调节板相连。
[0005]
在一个优选地实施方式中，所述驱动设备的数量为两个，且两个驱动设备的输出端分别位于底调节板的左右两侧。
[0006]
在一个优选地实施方式中，所述坩埚的左右两端均为倾斜状，两个坩埚的底端分别向托盘的中部倾斜，在坩埚的腔底成斜坡状。
[0007]
在一个优选地实施方式中，每两个相邻的坩埚之间均安装有一个集流板，所述集流板的左右两侧分别向着两侧的坩埚成倾斜状。
[0008]
在一个优选地实施方式中，所述电动伸缩杆的数量为两个，且两个电动伸缩杆之间经传动带板与传动连板相连，所述传动连板与底调节板的相对面之间间距安装。
[0009]
本发明的技术效果和优点：
[0010]
通过使底调节板、托盘和坩埚的尺寸可根据镀膜过程中挥发面尺寸的需要进行适应性的调节，防止因坩埚中镀膜材料的挥发面尺寸一定、坩埚内镀膜材料距离电子枪距离、角度相异，导致雾化挥发程度相异，镀膜均匀度差。
附图说明
[0011]
图1为本发明的整体左视结构示意图；
[0012]
图2为本发明的整体右视结构示意图；
[0013]
图3为本发明的整体翻转结构示意图；
[0014]
图4为本发明中图3的侧视结构示意图；
[0015]
图5为本发明中图3的背视结构示意图；
[0016]
图6为本发明中坩埚的局部剖视结构示意图。
[0017]
附图标记说明：1机箱密封门、2托盘、21集流板、22坩埚、23底调节板、31电动伸缩杆、32端板、41传动连板、42驱动设备、43从动板。
具体实施方式
[0018]
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。本发明的实施例是为了示例和描述起见而给出的，而并不是无遗漏的或者将本发明限于所公开的形式。很多修改和变化对于本领域的普通技术人员而言是显而易见的。选择和描述实施例是为了更好说明本发明的原理和实际应用，并且使本领域的普通技术人员能够理解本发明从而设计适于特定用途的带有各种修改的各种实施例。
[0019]
如图1-6所示的一种可提高镀膜均匀度的镀膜装置，包括机箱密封门1、托盘2和带动托盘2在机箱密封门1内垂直移动的电动伸缩杆31，电动伸缩杆31的输出端与端板32相连，端板32连接在托盘2的端头且位于托盘2的内腔，托盘2上间距安装有坩埚22，且托盘2的底部安装有使坩埚22的尺寸可调节的底调节板23，底调节板23经传动连板41与电动伸缩杆31相连，且传动连板41上安装有驱动设备42，驱动设备42的输出端连接有从动板43，从动板43与底调节板23相连；工作的驱动设备42带动从动板43对底调节板23的侧边拉动，使从动板43带动托盘2的侧边向内挤压，在被动挤压的过程中对坩埚22内腔的尺寸进行适应性的调节，适应镀膜过程中所需的挥发面尺寸，防止因坩埚中镀膜材料的挥发面尺寸一定，镀膜材料距离电子枪距离、角度相异，导致雾化挥发程度相异，镀膜均匀度差。
[0020]
驱动设备42的数量为两个，且两个驱动设备42的输出端分别位于底调节板23的左右两侧，两个驱动设备42分别带动两个从动板43对底调节板23的两侧同步拉动或挤压，从而使坩埚22两侧同步向内或向外调节，在提高调节效率的同时，使调节过程更稳定。
[0021]
坩埚22的左右两端均为倾斜状，两个坩埚22的底端分别向托盘2的中部倾斜，在坩埚22的腔底成斜坡状；每两个相邻的坩埚22之间均安装有一个集流板21，集流板21的左右两侧分别向着两侧的坩埚22成倾斜状；倾斜状的坩埚22两侧的坡面给予镀膜材料向内的流动力，从而使整个镀膜过程中镀膜材料始终向内集中，坩埚22内镀膜材料的厚度和分布更均匀，镀膜均匀度同样得到了有效的提高，集流板21与坩埚22自身两端的倾斜状设计，在坩埚22的外部形成使镀膜材料向内集流的外围包围圈，进一步提高集流效果的同时，使镀膜更加均匀。
[0022]
电动伸缩杆31的数量为两个，且两个电动伸缩杆31之间经传动带板与传动连板41相连，传动连板41与底调节板23的相对面之间间距安装，在对底调节板23、托盘2和坩埚22的尺寸调节，从而适应不同尺寸的挥发面的同时，通过传动带板与传动连板41的承接作用，使电动伸缩杆31带动托盘2相对机箱密封门1位移的同时，底调节板23、托盘2和坩埚22的尺
寸可同步调节，整个装置稳定性更强。
[0023]
显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域及相关领域的普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本发明保护的范围。本发明中未具体描述和解释说明的结构、装置以及操作方法，如无特别说明和限定，均按照本领域的常规手段进行实施。

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