一种易清洁颜料盒的制作方法

本实用新型是美术用具技术领域，具体为一种易清洁颜料盒。

背景技术：

颜料盒是美术用品中非常常见的一种物品，现有的颜料盒采用硬塑料制作的多，不论采用什么材料制作，基本都是采用硬质材料制作。颜料在使用后，基本都会残留不少颜料，及时每天清洗都会在颜料盒的角落里还会残留。

当颜料干枯时，附着在颜料盒上的干枯颜料非常难以清洗。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型的目的在于提出一种易清洁颜料盒，实现快速方便地清洁干枯颜料的目的。

基于上述目的本实用新型提供的一种易清洁颜料盒,该易清洁颜料盒包括骨架、设置在骨架上的由弹性材料制作的膜槽和设置在膜槽上的压条；所述骨架包括外部的矩形框架、若干设置在矩形框架内的横向挡板和若干设置在矩形框架内的纵向挡板，横向挡板和纵向挡板相互垂直，横向挡板和纵向挡板将矩形框架内部划分为若干个相互独立的小空格；所述膜槽部分凹陷在小空格内，未凹陷的部分架设在横向挡板和纵向挡板上；所述压条压在横向挡板和纵向挡板上方的膜槽上。

可选的，所述横向挡板相互平行，并且相邻横向挡板之间的距离相等。

可选的，所述纵向挡板相互平行，并且相邻纵向挡板之间的距离相等。

可选的，所述膜槽采用硅胶制作。

可选的，所述压条包括设置在横向挡板上方的横向压线和设置在纵向挡板上方的纵向压线，横向压线和纵向压线在同一水平线上，横向压线的两端分别和矩形框架的侧壁固定连接，纵向压线的两端分别和矩形框架的侧壁固定连接。

可选的，每个横向挡板上方都设有一个横向压线，每个纵向挡板上方都是有一个纵向压线。

可选的，所述易清洁颜料盒还包括底盖，所述底盖设置在骨架的下方。

可选的，所述易清洁颜料盒还包括顶盖，所述顶盖设置在骨架的上方。

可选的，所述矩形框架的外侧设有凸条。

本实用新型的有益效果为：通过反向推动膜槽，使得附着在膜槽上干枯的颜料掉落，实现快速方便地清洗干枯颜料的目的。

附图说明

图1为本实用新型具体实施方式中易清洁颜料盒的结构示意图；

图2为本实用新型具体实施方式中易清洁颜料盒取下底盖和顶盖后的结构示意图；

图3为本实用新型具体实施方式中易清洁颜料盒的局部放图；

图4为本实用新型具体实施方式中压条的结构示意图；

图5为本实用新型具体实施方式中骨架的结构示意图；

图6为本实用新型具体实施方式中易清洁颜料盒的膜槽被挤压后的效果图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。

需要说明的是，本实用新型实施例中所有使用“第一”和“第二”的表述均是为了区分两个相同名称非相同的实体或者非相同的参量，可见“第一”“第二”仅为了表述的方便，不应理解为对本实用新型实施例的限定，后续实施例对此不再一一说明。

如图1所示，一种易清洁颜料盒,该易清洁颜料盒包括骨架1、设置在骨架1上的由弹性材料制作的膜槽和设置在膜槽上的压条3；所述骨架1包括外部的矩形框架11、若干设置在矩形框架11内的横向挡板12和若干设置在矩形框架11内的纵向挡板13，横向挡板12和纵向挡板13相互垂直，横向挡板12和纵向挡板13将矩形框架11内部划分为若干个相互独立的小空格；所述膜槽部分凹陷在小空格内，未凹陷的部分架设在横向挡板12和纵向挡板13上；所述压条3压在横向挡板12和纵向挡板13上方的膜槽上，压条3用于防止膜槽脱离小空格。凹陷在小空格内的膜槽就是用于容纳颜料的，当颜料在膜槽内干枯后，直接从小空格的反向将凹陷的膜槽顶出，使得膜槽变形，进而促进膜槽上的颜料掉落，达到清洁膜槽的目的。

为了使得每个小空格大小相等，便于膜槽的制作，所述横向挡板12相互平行，并且相邻横向挡板12之间的距离相等。所述纵向挡板13相互平行，并且相邻纵向挡板13之间的距离相等。

为了便于定形和保持弹性，所述膜槽采用硅胶制作。

为了增强压条与矩形框架11连接的强度，所述压条3包括设置在横向挡板12上方的横向压线31和设置在纵向挡板13上方的纵向压线32，横向压线31和纵向压线32在同一水平线上，横向压线31的两端分别和骨架1的侧壁固定连接，纵向压线32的两端分别和骨架1的侧壁固定连接。每个横向挡板12上方都设有一个横向压线31，每个纵向挡板13上方都是有一个纵向压线32。

为了防止在托住易清洁颜料盒时，误碰膜槽，导致膜槽内的颜料掉落，所述易清洁颜料盒还包括底盖2，所述底盖2设置在骨架1的下方。

在不使用易清洁颜料盒时，为了保持易清洁颜料盒的清洁度，所述易清洁颜料盒还包括顶盖4，所述顶盖4设置在骨架1的上方。

为了促进底盖2、顶盖4与矩形框架11连接的强度，所述矩形框架11的外侧设有凸条，底盖2、顶盖4盖在矩形框架11上时，底盖2和顶盖4都与凸条接触。凸条上还设有卡合结构，用于固定底盖2和顶盖4。

本实用新型的实施例旨在涵盖落入所附权利要求的宽泛范围之内的所有这样的替换、修改和变型。因此，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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