一种新型磨砂效果包装材料的制备方法与流程

本发明属于包装印刷材料、装饰材料技术领域，具体涉及一种新型磨砂效果包装材料的制备方法。

背景技术：

磨砂效果以其高贵美观的亮晶砂感、稳定可靠的防伪性在各种高档包装上面得到广泛使用。现有材料的磨砂效果主要通过不同处理方式在基材表面形成凹凸不平结构，光线照射到表面后形成漫反射，呈现出雾状哑光视觉效果，常用的处理方式主要有印刷、转移、压纹、涂布等。

1)印刷方式是将磨砂油墨用丝网、凹版等方式印刷在承印物上，油墨固化过程中由于填料表面能变化吸附成膜物产生局部聚集，就像经过喷砂处理一样形成磨砂效果。

2)转移方式是将带有磨砂或哑光类信息的载体通过涂布或模压方式转移到基材。如专利cn109397911a一种膜压磨砂工艺的印刷方法，其特征在于，通过制版—制膜—涂布—膜压—干燥处理后将版面图文转移到承印产品。

3)压纹方式是将辊筒上的磨砂或哑光效果在压力作用下转印到基材上。如专利cn107672282a磨砂卡纸的生产方法，其特征在于，首先采用转移镀铝工艺制备转移卡纸，然后用磨砂网辊压纹后得到磨砂卡纸，所述磨砂网辊为磨砂辊面钢辊。

4)涂布方式是将涂料直接涂布到基材上制得。如专利201010298807.x、201010298836.6公布了一种真空镀铝磨砂卡纸及其生产方法，通过在涂料中添加磨砂粒子制备磨砂涂料，涂布成膜后磨砂粒子均匀分布在涂层中，通过粒子的漫反射作用实现哑光磨砂效果。

上述发明所得到的磨砂或哑光效果层虽然表观效果丰富多样，但由于磨砂或哑光效果层表面凹凸不平，均存在着视觉上暗淡无光、金属质感弱，视觉冲击效果不强，亮度和光泽度低等问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种新型磨砂效果包装材料的制备方法，解决背景技术中现有的磨砂材料磨砂或哑光效果层表面凹凸不平，视觉上暗淡无光、金属质感弱、视觉冲击效果不强、亮度和光泽度低等问题。

具体技术方案如下：

一种新型磨砂效果包装材料的制备方法，包括以下工艺流程：设计磨砂效果图案，根据效果图案选定光学效果，对光学效果进行量化处理，对光学效果进行模拟确定磨砂效果及图像单元，再将图像单元拼组后光刻制版，制备母版，最后将母版上的磨砂信息复制到基材上得到含有新型磨砂效果的包装材料。

优选的，具体工艺步骤如下：

磨砂效果设计：设计所需的磨砂效果；

光学效果选定：根据设计的磨砂效果，选择相应的光学效果表现形式；

光学效果量化：根据磨砂效果，量化光学效果的参数；

光学效果模拟：将量化后的光学效果进行模拟磨砂效果，根据磨砂效果调整量化参数，最终确定图像单元；

光刻：采用光刻设备将整个图像光刻完成；

拼版：采用拼版技术将光刻版拼组放大制备母版；

转移：通过转移技术将母版上的磨砂信息复制到基材上得到含有新型磨砂效果的包装材料。

优选的，所述磨砂效果设计过程中，磨砂效果为满版单一效果或局部磨砂组合效果。

优选的，所述光学效果选定过程中，所述的光学效果包括透镜、光栅、沙银、浮雕、全息、真彩、防伪文字、点源在线、结构色、动态，选择的光学效果包括透镜、光栅、沙银中的一种或几种，选择的光学效果为一种或两种及以上的组合；其中，所述两种及以上组合的光学效果的布局为规则排布或随机排布。

优选的，所述光学效果量化过程中，所述参数为灰度、角度、深度。

优选的，所述的灰度值参数范围45—200，所述的角度值参数范围0-180度，所述的深度值参数范围0.2-5.0μm。

优选的，所述光刻过程中，所采用的光点结构为圆形结构，光点尺寸0.25-0.9μm，步进间距200-400nm，光刻速度200-400mm/s。

有益效果：

1.与现有技术相比，本发明采用数字技术、光刻技术、拼版技术及转移技术相结合制备了系列新型磨砂效果包装材料，各个环节紧密联系，相互配合，使得制备得到的材料具有较强的金属质感，立体感较强，视觉冲击力大，防伪性能高。

2.本发明的磨砂效果具有种类丰富，随机多变，调整便捷的优点，再结合先进设计理念，可实现美观、独特的包装效果。

3.本发明的制备方法不仅使产品具有磨砂、砂砾的视觉观感，还可以赋予产品其他光学效果，光学效果丰富，可选择性高。

4.本发明的制备方法可使产品表面平滑度高，表面修饰性能好，解决了现有磨砂类产品由于表面凹凸不平造成的再修饰性能差的技术难题。

附图说明：

图1为实施例1彩虹磨砂效果图；

图2为实施例1光栅结构图；

图3为实施例2高亮磨砂效果图；

图4为实施例2光栅结构图。

具体实施方式：

下面结合附图及实施例对本发明进行详细描述。

本发明提供了一种新型磨砂效果包装材料的制备方法，包括以下工艺流程：设计磨砂效果图案，根据效果图案选定光学效果，对光学效果进行量化处理，对光学效果进行模拟确定磨砂效果及图像单元，再将图像单元拼组后光刻制版，制备母版，最后将母版上的磨砂信息复制到基材上得到含有新型磨砂效果的包装材料。

具体工艺步骤如下：磨砂效果设计：采用图文处理软件设计所需的磨砂效果；光学效果选定：根据设计的磨砂效果，选择相应的光学效果表现形式；光学效果量化：根据磨砂效果，量化光学效果的灰度、角度、深度等参数；光学效果模拟：将量化后的光学效果采用相应软件进行模拟磨砂效果，根据磨砂效果调整量化参数，最终确定图像单元；光刻：采用光刻设备将整个图像光刻完成；拼版：采用拼版技术将光刻版拼组放大制备母版；转移：通过转移技术将母版上的磨砂信息复制到基材上得到含有新型磨砂效果的包装材料。

更进一步的，可以优化工艺，具体工艺步骤如下：

采用图文处理软件设计所需的磨砂效果，磨砂效果可以是满版单一效果，也可以是局部磨砂组合效果。

根据设计的磨砂效果，选择相应的光学效果表现形式。所述的光学效果包括透镜、光栅、沙银、浮雕、全息、真彩、防伪文字、点源在线、结构色、动态等，选择的光学效果至少包括透镜、光栅、沙银中的一种或几种，选择的光学效果可以单独一种，也可以是两种及以上组合，两种及以上光学效果的布局可以是规则排布，也可以随机排布。

根据磨砂效果，量化光学效果的灰度、角度、深度等参数。所述的灰度值参数范围45—200，所述的角度值参数范围0-180度，所述的深度值参数范围0.2-5.0μm。

将量化后的光学效果采用相应软件进行模拟磨砂效果，根据磨砂效果调整量化参数，最终确定图像单元。

采用光刻设备将整个图像光刻完成。所述的光刻工艺对本领域技术人员是熟知的，优选的光刻参数有：光点结构为圆形结构，光点尺寸0.25-0.9μm，步进间距200-400nm，光刻速度200-400mm/s。

采用拼版技术将光刻版拼组放大制备母版。所述的拼版工艺对本领域技术人员是熟知的，优选的拼版参数有：定位精度0.01mm，版缝精度0.05mm，最大拼版单元300*400mm，拼版尺寸1000*1200mm。

通过转移技术将母版上的磨砂信息复制到基材上得到含有新型磨砂效果的包装材料。所述的转移技术对本领域技术人员是熟知的，优选的转移技术包括采用电铸技术将母版的磨砂效果转移至镍板，采用模压技术将镍板上的磨砂效果转移至薄膜，采用复合技术将薄膜上的磨砂效果转移至基材，最终得到含有新型磨砂效果的包装材料。

实施例1

步骤一：设计

采用图文处理软件设计一种彩虹磨砂效果，如图1所示，磨砂效果是满版效果，局部有银白亮点，在无特别明亮的光线条件下，在视觉效果上感观到立体的小颗粒，同时可以看到随机的银白点。当在明亮的光线条件下，除了可以看到银白磨砂效果还可以观测到彩虹光的随机闪烁点。具有彩虹磨砂效果。

步骤二：光学效果选定

根据设计的磨砂效果，选择透镜和光栅两种光学效果。

步骤三：光学效果量化

根据磨砂效果，量化透镜和光栅两种光学效果，透镜为非圆形结构菲涅尔结构，光栅为铂金光柱，透镜及光栅参数：灰度值范围45-200，角度值范围0-180度，深度值范围0.2-5.0μm。

步骤四：光学效果模拟

将量化后的光学效果采用相应软件进行模拟磨砂效果(见表1)，根据磨砂效果调整量化参数，最终确定图像单元。

表1光学效果模拟过程

步骤五：光刻

采用光刻设备将整个图像光刻完成，光栅结构图见图2，光刻参数为：光点尺寸0.259μm，步进间距200nm，光刻速度400mm/s。每个像素单位内刻蚀80线。

从图中可以看出，a铂金光柱光栅占比为70％，b菲涅尔结构光栅占比为30％。

步骤六：拼版

采用拼版技术将光刻版拼组放大制备母版。拼版单元50*60mm，拼版尺寸800*960mm。

步骤七：转移

通过转移技术将母版上的磨砂信息复制到基材上得到含有新型磨砂效果的包装材料。采用电铸技术将母版的磨砂效果转移至镍板，采用模压技术将镍板上的磨砂效果转移至薄膜，采用复合技术将薄膜上的磨砂效果转移至基材，最终得到含有新型磨砂效果的包装材料。

实施例2：

步骤一：设计

采用图文处理软件设计一种高亮磨砂效果，如图3所示，磨砂效果是满版效果，在无特别明亮的光线条件下，在视觉效果上感观到立体的小颗粒，当在明亮的光线条件下，除了可以看到立体磨砂效果还可以观测到颗粒晶莹的效果。

步骤二：光学效果选定

根据设计的磨砂效果，选择透镜、光栅和沙银三种种光学效果。

步骤三：光学效果量化

根据磨砂效果，量化透镜、光栅和沙银三种光学效果，透镜为非圆形结构菲涅尔结构，光栅为动态光栅，沙银为动态沙银，透镜、光栅和沙银参数：灰度值范围45-200，角度值范围0-180度，深度值范围0.2-5.0μm。

步骤四：光学效果模拟

将量化后的光学效果采用相应软件进行模拟磨砂效果(见表2)，根据磨砂效果调整量化参数，最终确定图像单元。

表2光学效果模拟过程

步骤五：光刻

采用光刻设备将整个图像光刻完成，光栅结构图见图4，光刻参数为：光点尺寸0.259μm，步进间距200nm，光刻速度400mm/s。菲涅尔结构刻蚀30％，动态光栅结构刻蚀40％，沙银结构刻蚀30％，每个像素单位内刻蚀80线。

步骤六：拼版

采用拼版技术将光刻版拼组放大制备母版。拼版单元50*60mm，拼版尺寸800*960mm。

步骤七：转移

通过转移技术将母版上的磨砂信息复制到基材上得到含有新型磨砂效果的包装材料。采用电铸技术将母版的磨砂效果转移至镍板，采用模压技术将镍板上的磨砂效果转移至薄膜，采用复合技术将薄膜上的磨砂效果转移至基材，最终得到含有新型磨砂效果的包装材料。

本发明的保护范围并不局限于以上实施例，凡是与发明技术方案相同或等同的新型磨砂效果包装材料的制备方法，均属于本发明的保护范围。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

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