一种膜片的制作方法

2021-01-26 18:01:43|

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本实用新型涉及膜片表面处理技术领域，尤其涉及一种膜片。

背景技术：

目前，越来越多的电子产品通过在背盖上设计出各种各样的纹理图案，进而来提升电子产品的时尚感，这已经形成一种潮流与趋势，但是，现有的背盖上的图案显示效果单一，缺乏层次感。当前应用较为普遍的两种结构是单层pet膜片和双层pet膜片，单层pet膜片是指在单层pet膜片上做单层纹理，但它的缺点是纹理比较单一；双层pet膜片是指两张单层pet膜片贴合在一起，从而达到双层纹理效果，它的双层纹理更有层次感，景深感，立体感，光影效果更加丰富，但是需要两层pet膜片，整体厚度变厚，且膜片与盖板贴合困难，手机整体结构相应变厚。因此设计一种具有层次感、厚度薄的膜片已经成为迫在眉睫的问题，但这对于相关设计人员来说是一大挑战。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种膜片，以满足未来市场对具有层次感、厚度薄的膜片持续增长的需求。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案提供了一种膜片，包括基材膜层，所述基材膜层上表面依次设置有第一uv转印纹理层、电镀增亮膜层、第二uv转印纹理层、电镀反射层和油墨层。

进一步地，所述基材膜层下表面设置有oca胶层。

进一步地，所述oca胶层厚度为10～100微米。

进一步地，所述基材膜层包括pet，所述基材膜层厚度为10～100微米。

进一步地，所述电镀增亮膜层为多层镀膜，所述电镀增亮膜层的总厚度为100～500纳米。

进一步地，所述电镀增亮膜层的最外层为sio2层,所述电镀增亮膜层的次外层为tiox层。

在该技术方案中，所述第一uv转印纹理层的厚度为20微米以内，所述第二uv转印纹理层的厚度为20微米以内。

进一步地，所述第一uv转印纹理层为聚氨酯丙烯酸酯经固化而形成的纹理层，所述第二uv转印纹理层为聚氨酯丙烯酸酯经固化而形成的纹理层。

在该技术方案中，所述电镀反射层为多层镀膜，所述电镀反射层从内层到外层依次为sio2层、in层、sio2层，所述电镀反射层总厚度为50～200纳米。

在该技术方案中，所述油墨层的厚度为40微米以内。

综上所述，运用本实用新型的技术方案，具有如下的有益效果：本实用新型的结构设计合理，通过设置第一uv转印纹理层、第二uv转印纹理层，使膜片具有层次感、景深感、立体感，光影效果更加丰富，在复合光源下，可使膜片颜色更加靓丽，更具质感，在单光源下，还可呈现光影条纹，并随着观察角度的移动，光影亮纹随之移动，从而具有较好的装饰效果；通过设置单层基材膜层，使得膜片的厚度变薄；通过在第一uv转印纹理层和第二uv转印纹理层之间设置电镀增亮膜层，使uv转印纹理层光影效果更明显；通过基材膜层自带oca胶，使得膜片有利于与盖板贴合。

附图说明

图1是本实用新型提供一种膜片的实施例1贴合于盖板的结构示意图；

图2是本实用新型提供一种膜片的实施例2贴合于盖板的结构示意图；

附图标记说明：1、盖板，2、oca胶层，3、基材膜层，4、第一uv转印纹理层，5、电镀增亮膜层，6、第二uv转印纹理层，7、电镀反射层，8、油墨层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，但并不构成对本实用新型保护范围的限制。

实施例1：参见图1，本实施例提供一种膜片，包括基材膜层3，基材膜层3上表面依次设置有第一uv转印纹理层4、电镀增亮膜层5、第二uv转印纹理层6、电镀反射层7和油墨层8。

具体地，基材膜层3包括pet，当然，基材膜层3也可以用pc等具有同等功能的膜层来替换pet，这也能实现相同的功能，基材膜层3厚度为10～100微米，优先选用50微米，电镀增亮膜层5为多层镀膜，电镀增亮膜层5的总厚度为100～500纳米，所述电镀增亮膜层5的最外层为sio2层,所述电镀增亮膜层5的次外层为tiox层，第一uv转印纹理层4的厚度为20微米以内，第二uv转印纹理层6的厚度为20微米以内，所述第一uv转印纹理层4为聚氨酯丙烯酸酯经固化而形成的纹理层，所述第二uv转印纹理层6为聚氨酯丙烯酸酯经固化而形成的纹理层，所述电镀反射层7为多层镀膜，所述电镀反射层7从内层到外层依次为sio2层、in层、sio2层，所述电镀反射层7总厚度为50～200纳米，电镀反射层7总厚度为50～200纳米，油墨层8的厚度为40微米以内。

实际操作时：提供一种包括基材膜层3的膜片，在基材膜层3表面制备第一uv转印纹理层4，在第一uv转印纹理层4表面沉积电镀增亮膜层5，在电镀增亮膜层5表面制备第二uv转印纹理层6，在第二uv转印纹理层6表面电镀反射层7，在电镀反射层7表面丝印油墨层8，将制备好的的膜片贴合于盖板1表面,盖板1包含玻璃盖板、pc复合材料盖板、pmma盖板等其中的一种或多种。

实施例2：参见图2，本实施例提供一种膜片，包括基材膜层3，基材膜层3上表面依次设置有第一uv转印纹理层4、电镀增亮膜层5、第二uv转印纹理层6、电镀反射层7和油墨层8，基材膜层3下表面设置有oca胶层2，oca胶层2厚度为10～100微米，优选选用25微米。

实际操作时：步骤1，pet膜片依次包括离型膜层、oca胶层2、基材膜层3和保护膜层，基材膜层3厚度为50微米，oca胶层2厚度为25微米。步骤2，撕掉pet膜片的保护膜层，使用uv转印机在基材膜层3上均匀涂覆一层uv固化胶，固化胶成分主要是聚氨酯丙烯酸酯，在固定能量的汞灯和卤素灯的作用下使其聚合固化，形成所需要形貌的第一uv转印纹理层4，转印纹理层的厚度为20微米以内。第一uv转印纹理层4的纹理结构可以根据需要来设计，纹理结构能产生光学效果，使膜片具有良好的外观效果。步骤3，采用真空蒸发镀膜或者溅射镀膜的方式在第一uv转印纹理层4沉积电镀增亮膜层5，电镀增亮膜层5为多层镀膜，最外层材料为sio2，次外层为tiox,电镀增亮膜层5的总厚度为100～500纳米。步骤4制备第二uv转印纹理层6的技术方案同步骤2，步骤5,采用真空蒸发镀膜或者溅射镀膜的方式，在第二uv转印纹理层6沉积电镀反射膜层，电镀反射层7为多层镀膜，从内层到外层依次为sio2/in/sio2，电镀反射层7总厚度为50～200纳米,电镀反射层7主要是加强纹理的3d光影效果。步骤6，通过丝网印刷工艺，将pet膜的电镀层所在面丝印预定色彩的油墨,油墨层8厚度为40微米以内。步骤7将步骤s6制备的pet纹理膜片切割成所需要的外形，然后撕掉pet膜片oca胶面的离型膜，并与盖板1贴合，盖板1包含玻璃盖板、pc复合材料盖板、pmma盖板等其中的一种或多种。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

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