一种精雕机用工作台的制作方法
本实用新型涉及一种精雕机用工作台。
背景技术:
精雕机为数控机床的一种,又称精密成形机或异形切割机等,其主要用于各种产品的精细加工和异形切割。在切割过程中会不断产生细屑,而一台精雕机又不止加工一种尺寸的板材,那么在加工过程中,没有被覆盖的吸气孔长期工作后会被堵塞,无论是采用吹气还是冲洗的方式,均无法避免细屑进入吸气腔体。吸入的细屑也会随着吸气管道进入真空泵,从而影响真空泵的使用寿命。为了保证吸气效果,现有的工作台一般都是锁死或者无法开合的,这样若有细屑进入吸气腔体内,清理起来也非常不便。
技术实现要素:
为了解决板材加工过程中产生的细屑容易进入吸气腔体的问题,本申请提供了一种精雕机用工作台,具体实现方式如下:
一种精雕机用工作台,包括上盖板、下盖板、真空泵、覆盖板,所述上盖板和下盖板组成中空的吸气腔体,所述上盖板上均匀布设有若干与所述吸气腔体连通的吸气孔,所述真空泵通过吸气管道与所述吸气腔体连通;所述覆盖板设有若干覆盖板单元,所述覆盖板单元的侧壁设有用于与另一个覆盖板单元的侧壁相拼接的凹部和/或凸部,所述覆盖板单元拼接后其中心对准所述吸气孔。
于本实用新型的一个或多个实施例中,每个所述覆盖板单元底部设有磁铁或黏胶层。
于本实用新型的一个或多个实施例中,所述下盖板顶端设有向上延伸的插接部,所述插接部紧贴所述上盖板内壁,所述插接部外部设有密封胶圈。
于本实用新型的一个或多个实施例中,所述吸气管道上设有控制阀门。
本实用新型带来的有益实施效果是:通过覆盖板单元的拼接,将未被待加工板材覆盖的吸气孔堵上,能够有效防止加工过程中细屑掉入吸气孔以及吸气腔体,进一步降低吸气孔的堵塞概率以及真空泵的损坏概率。覆盖板通过拼接的方式,能够适应各种尺寸的板材,适用性强,通过拼接方式进行组合,简单、方便。将上、下盖板设计成方便开合的方式,可以方便的清理不小心掉入吸气腔体内的细屑,方便了生产,提高了生产效率。
附图说明
图1是本实用新型精雕机用工作台结构图;
图2是本实用新型精雕机用工作台爆炸图;
图3是本实用新型覆盖板结构图;
图4是本实用新型覆盖板单元结构图。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述的实施例示例在附图1-4中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
附图所显示的方位不能理解为限制本实用新型的具体保护范围,仅供较佳实施例的参考理解,可以图中所示的产品部件进行位置的变化或数量增加或结构简化。
说明书中所述的“连接”及附图中所示出的部件相互“连接”关系,可以理解为固定地连接或可拆卸连接或形成一体的连接;可以是直接相连或通过中间媒介相连,本领域普通技术人员可以根据具体情况理解连接关系而可以得出螺接或铆接或焊接或卡接或嵌接等方式以适宜的方式进行不同实施方式替用。
说明书中所述的上、下、左、右、顶、底等方位词及附图中所示出方位,各部件可直接接触或通过它们之间的另外特征接触;如在上方可以为正上方和斜上方,或它仅表示高于其他物;其他方位也可作类推理解。
说明书及附图中所表示出的具有实体形状部件的制作材料,可以采用金属材料或非金属材料或其他合成材料;凡涉及具有实体形状的部件所采用的机械加工工艺可以是冲压、锻压、铸造、线切割、激光切割、铸造、注塑、数铣、三维打印、机加工等等;本领域普通技术人员可以根据不同的加工条件、成本、精度进行适应性地选用或组合选用,但不限于上述材料和制作工艺。
一种精雕机用工作台,包括上盖板1、下盖板2、真空泵、覆盖板3,所述上盖板1和下盖板2组成中空的吸气腔体10,所述上盖板1上均匀布设有若干与所述吸气腔体10连通的吸气孔11,所述真空泵通过吸气管道4与所述吸气腔体10连通;所述覆盖板3设有若干覆盖板单元31,所述覆盖板单元31的侧壁设有用于与另一个覆盖板单元31的侧壁相拼接的凹部311和凸部312,所述覆盖板单元31拼接后其中心对准所述吸气孔11。特别地,每个所述覆盖板单元31底部设有磁铁313。所述下盖板2顶端设有向上延伸的插接部21,所述插接部21紧贴所述上盖板1内壁,所述插接部21外部设有密封胶圈211。所述吸气管道4上设有控制阀门41。
根据板材的形状选择合适数量的覆盖板单元31,通过凹部311和凸部312的配合,拼接成指定形状用以覆盖未被板材覆盖的吸气孔11,这样,精雕机无论是加工大的板材还是小的板材,通过覆盖板3将不使用的吸气孔11覆盖上,有效地防止了加工过程中细屑掉落至吸气腔体10中,降低吸气孔11堵塞的可能性以及真空泵的损坏概率。在清理过程中有可能还有部分细屑掉入吸气腔体10中,将上盖板1打开即可完成清理非常方便。为了提高吸气效果,在插接部21外部设有密封胶圈211,密封胶圈211使盖合在一起的上盖板1、下盖板2处于密封状态,防止吸气过程中漏气影响吸气效果。
上述优选实施方式应视为本申请方案实施方式的举例说明,凡与本申请方案雷同、近似或以此为基础作出的技术推演、替换、改进等,均应视为本专利的保护范围。
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