显示面板及其制备方法、显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示面板的制备方法、包括该显示面板的显示装置。

背景技术：

随着显示技术的发展，在显示屏下设置摄像头成为了一种新型的显示技术，该显示技术可以实现全面屏显示，提高屏占比。

但是，目前显示屏的摄像头区域的透光度较低，而且像素密度较低、能够设置的摄像头的尺寸较小。

因此，有必要研究一种新的显示面板及显示面板的制备方法、包括该显示面板的显示装置。

所述背景技术部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现要素：

本发明的目的在于克服上述现有技术的像素密度较低的不足，提供一种像素密度较高的显示面板及显示面板的制备方法、包括该显示面板的显示装置。

本发明的额外方面和优点将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地将从描述中变得显然，或者可以通过本发明的实践而习得。

根据本公开的一个方面，提供一种显示面板，具有屏下摄像显示区以及围绕所述屏下摄像显示区的正常显示区，在所述正常显示区设置有多个开关组件，在所述屏下摄像显示区设置有多个子像素，所述显示面板包括：

绝缘层组，其上设置有多个凹槽，所述凹槽从所述子像素延伸至所述开关组件；

多个连接走线，至少部分所述连接走线设于所述凹槽内以减小相邻两个所述连接走线之间的垂直间隔距离，所述连接走线连接于所述开关组件与所述子像素之间。

在本公开的一种示例性实施例中，相邻两个所述连接走线之间具有高度差。

在本公开的一种示例性实施例中，相邻两个所述连接走线中其中一个所述连接走线设于所述凹槽内，另一个所述连接走线设于所述绝缘层组的一侧。

在本公开的一种示例性实施例中，所述凹槽的槽壁设有台阶使得在所述绝缘层组上形成多个台阶面，所述台阶的延伸方向与所述凹槽的延伸方向一致。

在本公开的一种示例性实施例中，相邻两个所述连接走线设于不同的所述台阶面上。

在本公开的一种示例性实施例中，绝缘层组包括：第一绝缘层，所述凹槽设于所述第一绝缘层上。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一绝缘层的材质为负性光刻胶，所述凹槽设置为开口宽度小于槽底宽度的梯形。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一绝缘层为平坦化层或钝化层，所述凹槽设置为开口宽度大于槽底宽度的倒梯形。

在本公开的一种示例性实施例中，多个所述连接走线均设置在所述凹槽内。

根据本公开的一个方面，提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板具有屏下摄像显示区以及围绕所述屏下摄像显示区的正常显示区，所述制备方法包括：

在所述正常显示区形成多个开关组件；

在多个所述开关组件的一侧形成绝缘层组，在所述绝缘层组上形成多个凹槽，所述凹槽从所述屏下摄像显示区延伸至所述正常显示区；

形成多个连接走线，至少部分所述连接走线形成于所述凹槽内以减小相邻两个所述连接走线之间的垂直间隔距离；

在所述绝缘层组的远离所述开关组件的一侧形成多个子像素，所述子像素通过所述连接走线连接于所述开关组件。

根据本公开的一个方面，提供一种显示装置，包括：上述任意一项所述的显示面板。

由上述技术方案可知，本发明具备以下优点和积极效果中的至少之一：

本发明的显示面板，在绝缘层组上设置有多个凹槽，凹槽从子像素延伸至开关组件；至少部分连接走线设于凹槽内以减小相邻两个连接走线之间的垂直间隔距离，使得在相同的尺寸范围内可以设置较多的连接走线，从而可以在屏下摄像显示区设置较多的子像素，通过连接走线该子像素都可以连接至设置在正常显示区的开关组件，通过开关组件实现对子像素的控制，从而实现提高屏下摄像显示区的像素密度；另外，也可以选择设置尺寸较大的摄像头。

附图说明

通过参照附图详细描述其示例实施方式，本发明的上述和其它特征及优点将变得更加明显。

图1是相关技术中显示面板的俯视示意图；

图2是相关技术中显示面板的一示例实施方式的结构示意图；

图3是相关技术中显示面板的另一示例实施方式的结构示意图；

图4是本发明显示面板第一示例实施方式的结构示意图；

图5是本发明显示面板第二示例实施方式的结构示意图；

图6是本发明显示面板第三示例实施方式的结构示意图；

图7是本发明显示面板第四示例实施方式的结构示意图；

图8是本发明显示面板第五示例实施方式的结构示意图；

图9是本发明显示面板的制备方法一示例实施方式的流程示意框图；

图10-图13是通过本发明显示面板的制备方法制备第三示例实施方式的显示面板各个步骤的结构示意图。

图中主要元件附图标记说明如下：

1、衬底基板；2、缓冲层；

3、开关组件；31、有源层；32、第一栅绝缘层；33、栅极；34、第二栅绝缘层；35、层间介电层；36、源极；37、漏极；

41、电容第一电极；42、电容第二电极；

51、第一平坦化层；52、第二平坦化层；53、第三平坦化层；

6、凹槽；61、台阶面；

7、连接走线；8、像素介定层；9、第一电极；10、发光层；

11、第四过孔；12、正常显示区；13、屏下摄像显示区；14、光刻胶；15、负性光刻胶；16、钝化层；17、走线材料层；18、子像素。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

参照图1和图2所示的相关技术中显示面板的一示例实施方式的结构示意图。该显示面板具有屏下摄像显示区13以及围绕屏下摄像显示区13的正常显示区12，为了提高屏下摄像显示区13的透光度，提高摄像头的摄像效果，在屏下摄像显示区13不设置开关组件3，只设置子像素18。但是设置在屏下摄像显示区13的子像素18也是需要通过开关组件3控制的，因此，需要将子像素18与开关组件3通过连接走线7连接起来。但是，如果在屏下摄像显示区13设置的像素密度较大，导致子像素18之间的空间较小，将无法容纳较多的连接走线7通过，因此无法设置较多的子像素18以提高像素密度。另外，多个连接走线7将设置在屏下摄像显示区13的子像素18连接至开关组件3，多个连接走线7设置在同一层平坦化层之上，连接走线7的制备工艺为湿法刻蚀，受湿法刻蚀工艺条件的限制，相邻两个连接走线7之间的间隙不能太小，因此，导致在一定面积内无法设置较多的连接走线7，从而无法设置较多的像素，无法提高屏下摄像显示区13的像素密度。

参照图3所示的相关技术中显示面板的另一示例实施方式的结构示意图。在该示例实施方式中，将相邻两个连接走线7设置在不同层，增大了同层相邻两个连接走线7之间的间隙，但是，需要增加一层第三平坦化层53还需要增加两次刻蚀工艺，因此，大大增加了成本。

本示例实施方式首先提供了一种显示面板，参照图4至图8所示的本发明显示面板的结构示意图，该显示面板具有屏下摄像显示区13以及围绕所述屏下摄像显示区13的正常显示区12，在所述正常显示区12设置有多个开关组件3，在所述屏下摄像显示区13设置有多个子像素18，所述显示面板可以包括绝缘层组以及多个连接走线7；绝缘层组上设置有多个凹槽6，所述凹槽6从所述子像素18延伸至所述开关组件3；多个连接走线7中至少部分连接走线7设于所述凹槽6内以减小相邻两个连接走线7之间的垂直间隔距离，所述连接走线7连接于所述开关组件与子像素18之间。

参照图4所示，该显示面板可以包括衬底基板1，衬底基板1可以为聚酰亚胺树脂，当然，在本发明的其他示例实施方式中，衬底基板1可以是玻璃基板。在衬底基板1之上设置有缓冲层2。

在正常显示区12设置有多个开关组件3，开关组件3可以为顶栅型tft(thinfilmtransistor，薄膜晶体管)。开关组件3的具体结构为：在缓冲层2的远离衬底基板1的一侧设置有有源层31，在有源层31的远离衬底基板1的一侧设置有第一栅绝缘层32，在第一栅绝缘层32上设置有第一过孔，第一过孔使有源层31裸露；在第一栅绝缘层32的远离衬底基板1的一侧设置有栅极33和电容第一电极41，在栅极33的远离衬底基板1的一侧设置有第二栅绝缘层34，在第二栅绝缘层34上设置有与第一过孔连通的第二过孔；在第二栅绝缘层34的远离衬底基板1的一侧设置有电容第二电极42，电容第二电极42与电容第一电极41正对设置，在电容第二电极42的远离衬底基板1的一侧设置有层间介电层35，在层间介电层35上设置有与第一过孔连通的第三过孔；在层间介电层35的远离衬底基板1的一侧设置有源极36和漏极37，源极36和漏极37通过第三过孔、第二过孔以及第一过孔连接至有源层31。当然，在本发明的其他示例实施方式中，开关组件3还可以是底栅型tft或双栅型tft等等，在此不一一进行说明。

在源极36和漏极37的远离衬底基板1的一侧设置有第一平坦化层51，在第一平坦化层51上设置有第四过孔11；在第一平坦化层51的远离衬底基板1的一侧设置有第二平坦化层52。

第一栅绝缘层32、第二栅绝缘层34、层间介电层35、第一平坦化层51以及第二平坦化层52均延伸至屏下摄像显示区13。

在第一平坦化层51上设置有多个凹槽6，凹槽6从屏下摄像显示区13延伸至正常显示区12。相邻两个连接走线7中的其中一个连接走线7设置在凹槽6内，另一个连接走线7设置在第一平坦化层51的远离衬底基板1的一侧。连接走线7也从屏下摄像显示区13延伸至正常显示区12。连接走线7的材质为氧化铟锡(ito，或者掺锡氧化铟)，当然，连接走线7的材质还可以是其他透明导电材料。

从图4中可以得到目前相邻两个连接走线7之间的距离为l，相邻两个连接走线7之间的垂直间隔距离为a，相邻两个连接走线7之间具有高度差为h，该高度差也就是凹槽6的深度，l＝(a²+h²)^1/2，l＞a。由于相邻两个连接走线7之间具有高度差h，在保证相同像素密度的情况下，使相邻两个连接走线7之间的距离l增加，有利于提高工艺能力；同理，在保证达到工艺能力的距离l下，相邻两个连接走线7之间的垂直间隔距离a可以减小，这样可以使像素之间的间隔距离减小，从而提高像素密度，或增大摄像头的尺寸。而且，l与h成正比，凹槽6的深度越深可以使相邻两个连接走线7之间的距离l越大，在保证l不变的情况下，h越大，a可以越小，因此，在工艺设计允许的情况下，将凹槽6的深度设计的越大越有利于提高像素密度。

第二平坦化层52覆盖在连接走线7的远离衬底基板1的一侧，在第二平坦化层52上设置有第五过孔。在第二平坦化层52的远离衬底基板1的一侧设置有第一电极9。在正常显示区12，第一电极9通过第五过孔和第四过孔11连接至源极36或漏极37。在屏下摄像显示区13，第一电极9通过第五过孔连接至连接走线7，从而将子像素18连接至连接走线7；连接走线7再连接至设置在正常显示区12的开关组件3，从而使开关组件3与子像素18通过连接走线7连接，通过设置在正常显示区12的开关组件3可以控制设置在屏下摄像显示区13的子像素18。

在第一电极9之上设置有像素介定层8，在像素介定层8上设置有第六过孔使第一电极9裸露，在第六过孔内设置有发光层10，发光层10与第一电极9连接。在发光层10的远离衬底基板1的一侧设置有第二电极(图中未示出)。

在本示例实施方式中，第一电极9为阳极，第二电极为阴极。

参照图5所示的本发明显示面板的第二示例实施方式的结构示意图，该示例实施方式中正常显示区12的结构与第一示例实施方式中正常显示区12的结构相同，因此，在此不再赘述；该示例实施方式与第一示例实施方式的主要区别在于：凹槽6的槽壁设置为台阶状。

在本示例实施方式中，凹槽6设置在第一平坦化层51上，凹槽6向下贯穿第一平坦化层51至层间介电层35，凹槽6的两个槽壁均设置有一个台阶，且台阶的延伸方向与凹槽6的延伸方向一致，使凹槽6的一侧形成三个台阶面61，即槽底、槽壁上的台阶面61和第一平坦化层51的远离衬底基板1的一面总共三个台阶面，槽底共用，凹槽6的两侧槽壁就形成五个台阶面61。五个连接走线7中，位于最中间的连接走线7设置在凹槽6的槽底，即位于最中间的连接走线7设置在层间介电层35的远离衬底基板1的一侧；位于最两边的连接走线7设置在第一平坦化层51的远离衬底基板1的一面，其余的两个连接走线7分别设置在台阶的台阶面61上。槽壁上的台阶面可以通过半透明的掩模板掩模然后刻蚀形成。

当然，在本发明的其他示例实施方式中，在凹槽6不贯穿第一平坦化层51的情况下，也可以将凹槽6的侧壁设置为台阶状，并在台阶面61上设置连接走线7。而且台阶的个数也可以根据需要以及第一平坦化层51允许的厚度进行设置。还有，凹槽6也不一定设置在第一平坦化层51上，还可以设置在钝化层16、层间介电层35上。

通过该示例实施方式也可以增加提高屏下摄像显示区13的像素密度；或可以选择设置尺寸较大的摄像头，其原理与第一示例实施方式中所述的原理相同，在此不再赘述。

参照图6所示的本发明显示面板的第三示例实施方式的结构示意图，该示例实施方式中正常显示区12的结构与第一示例实施方式中正常显示区12的结构相同，因此，在此不再赘述；该示例实施方式与第一示例实施方式的主要区别在于：连接走线7都设置在凹槽6内。

在本示例实施方式中，在第一平坦化层51上设置有多个凹槽6，多个凹槽6均向下贯穿第一平坦化层51至层间介电层35。第一平坦化层51的材质可以是树脂，刻蚀形成的凹槽6为开口宽度k大于槽底宽度d的倒梯形，凹槽的长度与凹槽的延伸方向一致，其宽度与长度方向基本垂直。连接走线7都设置在凹槽6内，使连接走线7位于层间介电层35的远离衬底基板1的一侧。相邻两个凹槽6之间的第一平坦化层51形成连接走线7的隔离部。

参照图7所示的本发明显示面板的第四示例实施方式的结构示意图，该示例实施方式中正常显示区12的结构与第一示例实施方式中正常显示区12的结构相同，因此，在此不再赘述；该示例实施方式与第三示例实施方式的主要区别在于：第一平坦化层51的材质为负性光刻胶15，刻蚀形成的凹槽6为开口宽度k小于槽底宽度d的梯形，凹槽的长度与凹槽的延伸方向一致，其宽度与长度方向基本垂直。

参照图8所示的本发明显示面板的第五示例实施方式的结构示意图，该示例实施方式中正常显示区12的结构与第一示例实施方式中正常显示区12的结构相同，因此，在此不再赘述；该示例实施方式与第三示例实施方式的主要区别在于：设置在源漏极37的远离衬底基板1的一侧的是钝化层16，在钝化层16上设置有第四过孔11；在钝化层16的远离衬底基板1的一侧设置有第二平坦化层52，即用钝化层16代替第三示例实施方式中的第一平坦化层51。钝化层16的材质可以是氧化硅、氮化硅或氮氧化硅，还可以是氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的两种或三种形成的层叠结构。在钝化层16上设置有多个凹槽6，连接走线7均设置在凹槽6内。

进一步的，本发明还提供了一种显示面板的制备方法，所述显示面板具有屏下摄像显示区13以及围绕所述屏下摄像显示区13的正常显示区12，参照图9所示的本发明显示面板的制备方法的流程示意框图。该显示面板的制备方法可以包括以下步骤：

步骤s10，在所述正常显示区12形成多个开关组件3。

步骤s20，在多个所述开关组件3的一侧形成绝缘层组，在所述绝缘层组上形成多个凹槽6，所述凹槽6从所述屏下摄像显示区13延伸至所述正常显示区12。

步骤s30，形成多个连接走线7，至少部分所述连接走线7形成于所述凹槽6内以减小相邻两个所述连接走线7之间的垂直间隔距离。

步骤s40，在所述绝缘层组的远离所述开关组件3的一侧形成多个子像素18，所述子像素18通过所述连接走线7连接于所述开关组件3。

在本示例实施方式中，参照图10所示，在正常显示区12形成多个开关组件3后，在源漏极37的远离衬底基板1的一侧形成第一平坦化层51，并在第一平坦化层51上形成凹槽6和第四过孔11，凹槽6从屏下摄像显示区13延伸至正常显示区12，第四过孔11使源极36裸露。

参照图11所示，在第一平坦化层51的远离衬底基板1的一侧形成走线材料层17，走线材料层17覆盖在第一平坦化层51上、凹槽6内和第四过孔11内。

参照图12所示，在走线材料层17的远离衬底基板1的一侧形成光刻胶14，并对光刻胶14进行曝光以去除第一平坦化层51上和第四过孔11内的光刻胶14，保留凹槽6内的光刻胶14。

参照图13所示，以光刻胶14为掩模对走线材料层17进行刻蚀，保留凹槽6内的走线材料层17形成连接走线7。

图1相关技术中的形成连接走线7的刻蚀过程，由于走线材料层17形成在第一平坦化层51的上平面上，在走线材料层17上形成光刻胶14并曝光后光刻胶14之间会形成一个槽子，对未被光刻胶14覆盖的槽子底部的走线材料层17进行刻蚀，导致置换不完全，需要加大连接走线7之间的垂直间隔距离才能保证完全刻蚀。而本示例实施方式中，需要刻蚀的走线材料层17设置在第一平坦化层51的上平面上，相对于光刻胶14是突出的，因此，不会产生置换不完全的结果，当然就不需要加大连接走线7之间的垂直间隔距离a。使连接走线7之间的垂直间隔距离a取决于曝光工艺，在曝光工艺允许的情况下，连接走线7之间的垂直间隔距离a越小越好，垂直间隔距离a越小使在一定尺寸范围内能够设置的连接走线7数量就越多，从而能够设置更多的子像素以增加像素密度或设置更大的摄像头。而且凹槽6槽壁的走线材料层17可以全部保留，由于有第一平坦化层51作为隔离部不会产生短路等问题，从而使连接走线7的宽度增加，使连接走线7的电阻减小，有利于降低功耗。

进一步的，本发明还提供了一种显示装置，该显示装置可以包括上述任意一项所述的显示面板，显示面板的具体结构上述已经进行了详细说明，因此，此处不再赘述。

而该显示装置的具体类型不受特别的限制，本领域常用的显示装置类型均可，具体例如手机等移动装置、手表等可穿戴设备、vr装置等等，本领域技术人员可根据该显示设备的具体用途进行相应地选择，在此不再赘述。

需要说明的是，该显示装置除了显示面板以外，还包括其他必要的部件和组成，以显示器为例，具体例如外壳、电路板、电源线，等等，本领域技术人员可根据该显示装置的具体使用要求进行相应地补充，在此不再赘述。

与现有技术相比，本发明示例实施方式提供的显示装置的有益效果与上述示例实施方式提供的显示面板的有益效果相同，在此不做赘述。

上述所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中，如有可能，各实施例中所讨论的特征是可互换的。在上面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本发明的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组件、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明的各方面。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语，例如“高”“低”“顶”“底”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

本说明书中，用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包含”、“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”和“第三”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

应可理解的是，本发明不将其应用限制到本说明书提出的部件的详细结构和布置方式。本发明能够具有其他实施方式，并且能够以多种方式实现并且执行。前述变形形式和修改形式落在本发明的范围内。应可理解的是，本说明书公开和限定的本发明延伸到文中和/或附图中提到或明显的两个或两个以上单独特征的所有可替代组合。所有这些不同的组合构成本发明的多个可替代方面。本说明书所述的实施方式说明了已知用于实现本发明的最佳方式，并且将使本领域技术人员能够利用本发明。

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