PVA刷子的清洗方法及清洗装置与流程

本发明涉及pva刷子的清洗方法及清洗装置，更详细而言，涉及去除在使用前的状态下pva刷子内的杂质的pva刷子的清洗方法及清洗装置。
背景技术：
：化学机械平坦化(chemicalmechanicalplanarization，cmp)后，需要进行cmp后清洗(postcmpcleaning)步骤以去除基板上的颗粒(particle)或有机物(organic)的残留物(residue)，因此，通常使用圆筒状结构的聚乙烯醇缩醛(pva，polyvinylacetal)刷子(brush)。以往，就pva刷子而言，为了增加残留物的去除效率，在圆筒状pva刷子的表面突出有圆柱状的结节(nodule)结构物，结节结构物因为旋转运动而接触基板，以去除残留物。另外，为了增加清洗效率，也可配合清洗溶液(cleaningsolution)而使用。以往，就pva刷子而言，为了在用于将pva交联(crosslinking)的树脂(resin)混合物中混合用于形成气孔(pore)的气孔形成剂(pore-formingagent)后、在表面上形成结节结构物，通过注塑成型(injectionmolding)步骤对树脂混合物进行成型制造。注塑成型后，通过使用溶液等去除pva刷子内部的气孔形成剂，可在pva刷子中形成气孔。由于在制造步骤中所产生的颗粒或有机性的杂质(impurity)存在于pva刷子内部，从而产生下述问题：在清洗步骤中，刷子内部的杂质转移至基板上，阻碍成品率(yield)，因此必需具有在使用前去除刷子内部杂质的前处理步骤(break-inprocess)。制造步骤后，因为用于形成气孔的气孔形成剂的去除不完全，或因为不完全的交联等所形成的粘接力低的pva碎屑(debris)、注塑成型后用于从模具(mold)将pva刷子产品分离的脱模剂(moldreleaseagent)的混合物等，可能作为杂质而存在于pva刷子的内部。以往，pva刷子的前处理步骤中，在安装于cmp装置后，可使用超纯水流通法(diwflow-through)或擦洗(scrubbing)方法，所述超纯水流通法为使超纯水(diw，de-ionizedwater)经由位于刷子内侧的核心(core)、通过pva刷子的气孔而向外排出，所述擦洗方法为摩擦未使用的基板的表面。然而，超纯水流通法去除pva刷子内部杂质的效率低，而擦洗方法去除内部杂质的效率也低，需花费15小时以上的时间，从而存在阻碍cmp装置的产量(throughput)的问题。以往，在pva刷子的前处理步骤中，因为内部杂质的去除效率低，因此无法解决在cmp后清洗步骤中杂质转移至基板上而阻碍产率的问题，因为仅使用超纯水，而无法去除不溶于超纯水的杂质。因此，实际上必须开发能够以高效率去除内部杂质的前处理步骤的技术。需要说明的是，就以往使用超纯水流通法的pva刷子的前处理步骤而言，因为超纯水内所含的pva刷子的残留物浓度低，从而具有难以进行残留物分析这样的问题。因此，要求开发将pva刷子的残留物以高浓度捕集及分析的技术。由此，针对用于去除pva刷子内杂质的方法及装置进行了大量研究。例如，韩国专利公开第10-2008-0073586号(申请号：第10-2007-0012361号，申请人：海力士半导体股份有限公司)中公开pva刷子的清洁方法，其包括：准备多晶硅晶圆的阶段；在上述多晶硅晶圆表面喷射酸性化学溶液的阶段；及使被污染的pva刷子接触喷射有上述酸性化学溶液的多晶硅晶圆表面的阶段。此外，也开发了与激光结晶化方法相关的多种技术。现有技术文献专利文献专利文献1：韩国专利公开第10-2008-0073586号技术实现要素：发明所要解决的课题本发明要解决的一个技术课题为提供易于去除颗粒状杂质的pva刷子的清洗方法及清洗装置。本发明要解决的另一技术课题为提供易于去除包含有机物的杂质的pva刷子的清洗方法及清洗装置。本发明要解决的另一技术课题为提供清洗效率提升了的pva刷子的清洗方法及清洗装置。本发明要解决的技术课题不限于上文。用于解决课题的手段为了解决上述技术课题，本发明提供pva刷子的清洗方法。根据一个实施方式，上述pva刷子的清洗方法包括：准备pva刷子的阶段；用含有机物的清洗溶液去除上述pva刷子内的硅氧烷(siloxane)化合物的阶段；及对上述pva刷子施加振动以去除上述pva刷子内的杂质的阶段。根据一个实施方式，上述清洗溶液也可包含浓度在10wt％以上且小于50wt％的上述有机物。根据一个实施方式，其中，在对上述pva刷子施加振动以去除上述pva刷子内的上述杂质的阶段，在对于上述pva刷子施加10分钟振动的情况下，从上述pva刷子去除的上述杂质的量具有最大值。根据一个实施方式，其包括将上述pva刷子内的上述硅氧烷化合物及上述杂质同时去除的步骤。根据一个实施方式，其中，对于上述pva刷子内的上述硅氧烷化合物及上述杂质而言，在去除上述硅氧烷化合物后再去除上述杂质、或者在去除上述杂质后再去除上述硅氧烷化合物。根据一个实施方式，其中，上述有机物为thf或tmah。根据一个实施方式，其中，上述硅氧烷化合物为pdms。根据一个实施方式，其中，在上述pva刷子的清洗方法中，将去除上述pva刷子内的硅氧烷(siloxane)化合物的阶段及对上述pva刷子施加振动以去除上述pva刷子内的上述杂质的阶段定义为单元工序(unitprocess)，并且还包含测定去除了上述硅氧烷化合物及上述杂质的上述pva刷子的摩擦特性及弹性特性的阶段，在所测定的上述pva刷子的摩擦特性及弹性特性在标准范围以下的情况下，重复进行上述单元工序。根据一个实施方式，对上述pva刷子施加振动以去除上述pva刷子内的上述杂质的阶段也可包括下述过程：使用颗粒测定仪测定上述施加振动后的pva刷子中的颗粒状杂质。根据一个实施方式，上述颗粒测定仪也可包含单颗粒光学传感技术(spos，singleparticleopticalsizing)、激光衍射法(laserdiffraction)、动态光散射法(dynamiclightscattering)及声衰减光谱法(acousticattenuationspectroscopy)中的至少任1者。根据一个实施方式，对上述pva刷子施加振动以去除上述pva刷子内的上述杂质的阶段也可包括下述过程：使用有机物测定仪对施加上述振动后的pva刷子中的有机性杂质进行测定。根据一个实施方式，上述有机物测定仪也可包含紫外线检测器(ultraviloletdetector)、电导率检测器(conductivityanalyzer)、电流电荷检测器(currentchargedetector)、ndir检测器(nondispersiveinfraredgasanalyzer)及总有机碳分析仪(totalorganiccarbonanalyzer)中至少任1者。根据一个实施方式，上述清洗溶液也可包含具有与上述pva刷子的red为小于1的范围的上述有机物。为了解决上述技术课题，本发明提供pva刷子清洗装置。根据一个实施方式，上述pva刷子清洗装置也可包括：清洗容器，配置有含有机物的清洗溶液，用于去除pva刷子内的硅氧烷化合物；振动装置，配置于上述清洗容器内，将去除上述pva刷子内的杂质的振动提供至上述pva刷子；摩擦测定装置，对去除了上述硅氧烷化合物及上述杂质的上述pva刷子的摩擦特性进行测定；及弹性测定装置，对去除了上述硅氧烷化合物及上述杂质的上述pva刷子的弹性特性进行测定。根据一个实施方式，上述有机物为thf或tmah，上述清洗溶液也可包含浓度在10wt％以上且小于50wt％的上述有机物。根据一个实施方式，其中，上述pva刷子清洗装置中，在上述振动装置对上述pva刷子施加10分钟振动的情况下，从上述pva刷子去除的上述杂质的量具有最大值。根据一个实施方式，其中，上述硅氧烷化合物为pdms。发明的效果根据本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法也可包括：准备pva刷子的阶段；用包含有机物的清洗溶液去除上述pva刷子内的硅氧烷(siloxane)化合物的阶段；及对上述pva刷子施加振动以去除上述pva刷子内的杂质的阶段。由此，可易于去除上述pva刷子内的硅这样的有机性物质、及颗粒状的杂质等。结果可提供pva刷子的清洗方法，所述清洗方法可提高由化学机械平坦化步骤、半导体步骤及显示步骤等所得的产物的收率。附图说明图1为说明本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法的流程图。图2为示出本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法的图。图3为示出本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗装置的图。图4为示出本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗装置所具备的摩擦特性测定装置的图。图5为示出本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗装置所具备的弹性特性测定装置的图。图6为示出进行本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法之前测定pva刷子特性的方法的图及测定装置的照片。图7为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法清洗后的pva刷子特性进行测定的方法的图及测定装置的照片。图8为示出本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法中、随着振动时间而被去除的杂质的量的图。图9为示出对于用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所去除的物质进行lc-ms测定的图。图10为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所去除的物质拍摄而得的电子显微镜照片。图11为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所去除的物质拍摄而得的电子显微镜照片。图12为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所去除的物质进行tof-sims测定的图。图13为示出对本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法中清洗溶液的效率进行比较的照片。图14为示出对本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法中清洗溶液的效率进行比较的照片。图15为示出用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所清洗的pva刷子的特性的图。具体实施方式以下，参照附图详细说明本发明优选的实施方式。然而，本发明的技术构思不限于在此说明的实施方式，也可具体化为其他方式。在此叙述的实施方式是为了使本发明的公开内容彻底、完整，并充分传达给本领域技术人员而提供的。本说明书中，提到某构成要件位于其他构成要件上的情况下，可指直接形成于其他构成要件上，或者也可指在它们之间介在有第三构成要件。另外，为了有效说明技术内容，而在图中扩大示出膜及区域的厚度。另外，本说明书的多种实施方式中，第一、第二、第三等用语可用于记述多种构成要件，但这些构成要件并不限于这样的用语。这样的用语，仅用于将某构成要件与其他构成要件区别。因此，即使在某一实施方式中称为第一构成要件，在其他实施方式中也可被称为第二构成要件。在此所说明、例示的各实施方式也包含与其相辅的实施方式。另外，本说明书中，“及/或”是指包含列于其前后的构成要件中的至少一个。在说明书中，只要没有特别声明，单数的表达在语意中也包含多个的表达。另外，“包含”或“具有”等用语仅用于指定记载于说明书中的特征、数字、阶段、构成要件或它们的组合存在，应理解为其排除了一个以上的其他特征、数字、阶段、构成要件或这些组合的存在或附加的可能性。另外，本说明书中，“连接”作为包含了将多个构成要件间接相连及直接相连的所有意思而使用。此外，以下说明本发明时，具体说明相关的已知功能或构成，但在判断有可能使本发明的主旨非必要而模糊不清的情况下，则省略其详细说明。pva刷子用于下述用途：在化学机械平坦化(cmp)步骤、半导体步骤及显示器步骤等中去除基板上的残留物。就这样的pva刷子而言，由于制造步骤上的缺陷，而会在上述pva刷子内包含气孔形成剂、脱模剂、pva碎屑等杂质。这样的杂质在去除基板上的残留物时会转移至基板，从而产生由化学机械平坦化步骤、半导体步骤及显示器步骤等所得到的成品率(yield)降低的问题。以下，参照图1及图2说明去除pva刷子内的杂质的方法。图1为说明本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法的流程图，图2为示出本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法的图。参照图1及图2，准备pva刷子100(s110)。根据一个实施方式，上述pva刷子100为使用前的状态。即，上述pva刷子100处于在化学机械平坦化(chemicalmechanicalplanarization，cmp)步骤、半导体步骤及显示器步骤等中去除基板上的残留物(residue)前的状态。上述pva刷子100的制造步骤中可使用硅氧烷化合物，在所制造的上述pva刷子100的内残留硅氧烷化合物及杂质等。具体而言，通过注塑成型等制造上述pva刷子100的情况下，在制造步骤中可使用硅氧烷化合物，从而硅氧烷化合物可能残留于上述pva刷子100的表面及内部。以下，具体说明去除上述pva刷子100内的硅氧烷化合物及杂质的方法。可将上述pva刷子100内的硅氧烷(siloxane)化合物110a除去(s120)。上述硅氧烷化合物110a可通过清洗溶液200去除。根据一个实施方式，将上述pva刷子100浸渍于装满上述清洗溶液200的容器内，通过该方法可去除上述硅氧烷化合物110a。即，使上述清洗溶液200与上述硅氧烷化合物110a反应的情况下，上述硅氧烷化合物110a溶解于上述清洗溶液200内，而可将其从上述pva刷子100去除。根据一个实施方式，上述清洗溶液200也可包含有机物。例如，上述有机物可为四氢呋喃(thf，tetrahydrofuran)或四甲基氢氧化铵(tmah，tetramethylammoniumhydroxide)。根据一个实施方式，上述硅氧烷化合物110a也可为聚二甲基硅氧烷(pdms，polydimethylsiloxane)。上述清洗溶液200内的上述有机物的浓度越高，则将上述硅氧烷化合物110a去除的量越多。然而，上述清洗溶液200内的上述有机物的浓度若高于一定范围以上，则有损于上述pva刷子100。由此，根据一个实施方式，上述清洗溶液200可包含浓度在10wt％以上且小于50wt％的上述有机物。根据其他实施方式，上述清洗溶液200也可包含有机溶剂、碱性溶液及酸性溶液。例如，上述有机溶剂可包含甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)、苯(benzene)、溶剂石脑油(solventnaphtha)、煤油(kerosene)、环己烷(cyclohexane)、正己烷(n-hexane)、正庚烷(n-heptane)、二异丙醚(diisopropylether)、己醚(hexylether)、乙酸乙酯(ethylacetate)、乙酸丁酯(butylacetate)、月桂酸异丙酯(isopropyllaurate)、棕榈酸异丙酯(isopropylpalmitate)、四氢呋喃(tetrahydrofuran)、肉豆蔻酸异丙酯(isopropylmyristate)、二甲基亚砜(dimethylsulfoxide)、甲乙酮(methylethylketone)、甲基异丁基酮(methylisobutylketone)、甲基异丁基酮(methylisobutylketone)及月桂醇(laurylalcohol)中的至少任1者。例如，上述碱性溶液也可包含koh、naoh、ceoh、rboh、nh4oh、氢氧化四甲基铵(tetramethylammoniumhydroxide)、氢氧化四乙基铵(tetraethylammoniumhydroxide)、氢氧化四丁基铵(tetrabutylammoniumhydroxide)、氢氧化四丙基铵(tetrapropylammoniumhydroxide)、乙二胺(ethylenediamine)、邻苯二酚(pyrocatechol)及吡嗪(pyrazine)中的至少任1者。例如，上述酸性溶液也可包含hcl、h2so4、hf及hno3中的至少任1者。另外，可将上述pva刷子100内的杂质110b去除(s130)。上述杂质可通过对上述pva刷子100施加振动而去除。因此也可在去除上述pva刷子100内的杂质110b的容器内准备振动装置300。即，在将由上述振动装置300所产生的振动施加于上述pva刷子100的情况下，上述pva刷子100内的杂质110b脱落，而可将其从上述pva刷子100去除。根据一个实施方式，上述杂质110b可为气孔形成剂、及因不完全交联等而形成的粘接力低的pva碎屑等。例如，上述气孔形成剂可为马铃薯淀粉或玉米淀粉等。根据一个实施方式，上述振动装置300也可为超声波(ultrasonic)发生装置。根据一个实施方式，对上述pva刷子100施加10分钟振动的情况下，从上述pva刷子100所去除的上述杂质110b的量可具有最大值。由此，从对上述pva刷子100施加振动后10分钟内可将上述pva刷子100内的杂质110b几乎去除。另外，根据一个实施方式，对上述pva刷子100所施加的振动的振动频率低的情况下，有时相较于对上述pva刷子100所施加的振动的振动频率高的情况，上述pva刷子100内的上述杂质110b的量可能变少。即，对上述pva刷子100施加振动去除上述杂质110b的情况下，相较于通过施加具有高振动频率的振动，具有低振动频率的振动对上述pva刷子100内的上述杂质110b的去除效率高。参照图1及图2，说明了在去除上述pva刷子100内的上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b的情况下，先去除上述硅氧烷化合物110a、再去除上述杂质110b，但也可在去除上述杂质110b后、再去除上述硅氧烷化合物110a。即，可先对上述pva刷子100施加振动以去除上述杂质110b，之后再将上述pva刷子100浸渍于上述清洗溶液200内，以去除上述硅氧烷化合物110a。此外，根据一个实施方式，也可同时去除上述pva刷子100内的上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b。即，将上述振动装置300配置于装有清洗溶液200的容器内，在将上述pva刷子100浸渍于其中的期间施加振动，可同时去除上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b。根据一个实施方式，去除了上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b的上述pva刷子100也可进行冲洗(rinsing)。即，可用冲洗溶液将上述pva刷子100的表面及内部所残存的上述清洗溶液200去除。例如，上述冲洗溶液也可为超纯水(去离子水)。根据一个实施方式，上述pva刷子100的清洗方法也可进一步包含测定阶段，所述测定阶段中对去除了上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b的上述pva刷子100的摩擦特性及弹性特性进行测定。例如，去除了硅氧烷化合物110a及上述杂质110b的上述pva刷子100中，可依照上述pva刷子100与摩擦构件间的摩擦特性的变化，测定旋转马达的旋转力的变化，由此测定摩擦特性。例如，去除了硅氧烷化合物110a及上述杂质110b的上述pva刷子100中，依照上述pva刷子100与摩擦构件间的弹性特性的变化，测定弹性特性装置的压力变化，由此可测定弹性特性。可将去除上述pva刷子100内的上述硅氧烷化合物110a的阶段以及去除上述pva刷子100内的上述杂质110b的阶段定义为单元工序(unitprocess)。在去除了上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b的上述pva刷子100的摩擦特性及弹性特性在标准范围以下的情况下，可重复进行上述单元工序。上述单元工序可重复进行至上述摩擦特性及上述弹性特性在上述标准范围内为止。换言之，上述pva刷子100经过去除上述pva刷子100内的上述硅氧烷化合物110a的阶段及去除上述pva刷子100内的上述杂质110b的阶段，可将上述pva刷子100内的上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b去除。对去除了上述硅氧烷化合物110a及上述杂质110b的上述pva刷子100，测定摩擦特性及弹性特性，所测定的摩擦特性及弹性特性在标准范围以下情况下，也可重复进行将上述pva刷子100内的上述硅氧烷化合物110a去除的阶段以及将上述pva刷子100内的上述杂质110b去除的阶段，直到摩擦特性及弹性特性在上述标准范围内为止。由此，可容易地控制经清洗的上述pva刷子100的摩擦特性及弹性特性。与前述本发明的一个实施方式的pva刷子100的清洗方法不同，使超纯水(去离子水)通过pva刷子内的pva刷子的清洗方法无法去除硅这样的有机物。另外，就使超纯水流体通过的pva刷子的清洗方法而言，因杂质的去除效率低，从而存在前处理时间长，阻碍cmp装置的产量(throughput)的问题，在cmp后清洗步骤中，存在杂质转移至基板上而阻碍收率的问题。与此不同，本发明的一个实施方式的pva刷子100的清洗方法包括：准备上述pva刷子100的阶段；用包含上述有机物的上述清洗溶液200将上述pva刷子100内的上述硅氧烷(siloxane)化合物110a去除的阶段；以及对上述pva刷子100施加振动而将上述pva刷子100内的杂质110b去除的阶段。由此，可容易地将上述pva刷子100内的硅这样的有机性物质及颗粒状的杂质等去除。结果可提供pva刷子的清洗方法，所述清洗方法能够提高由化学机械平坦化步骤、半导体步骤及显示器步骤等所得到的成品率(yield)。以下，参照图3至图5说明用于将上述pva刷子100内的上述硅化合物110a及上述杂质110b去除的pva刷子清洗装置。图3为示出本发明的一个实施方式的pva刷子清洗装置的图，图4为示出本发明的一个实施方式的pva刷子清洗装置所具备的摩擦特性测定装置的图，图5为示出本发明的一个实施方式的pva刷子清洗装置所具备的弹性特性测定装置的图。参照图3，本发明的一个实施方式的pva刷子清洗装置10可包括清洗容器40、清洗溶液供给装置50、颗粒测定装置60a、有机物测定仪60b、摩擦特性测定装置70以及弹性特性测定装置80。上述清洗容器40中，可配置pva刷子20、清洗溶液25、振动装置30以及振动产生器31。就上述pva刷子20及上述清洗溶液25而言，与参照图1及图2所说明的、在上述pva刷子的清洗方法中说明的pva刷子及上述清洗溶液相同。根据一个实施方式，上述pva刷子可由芯部21及突起22构成。上述pva刷子20因制造步骤上的缺陷而可包含硅氧烷化合物23a及杂质23b等。上述pva刷子20内的上述硅氧烷化合物23a可由包含有机物的上述清洗溶液25去除。根据一个实施方式，通过将上述pva刷子20浸渍于上述清洗溶液25中的方法，可去除上述pva刷子20内的上述硅氧烷化合物23a。上述清洗溶液25内的上述有机物的浓度越高，则将上述硅氧烷化合物23a去除的量越多。然而，上述清洗溶液25内的上述有机物的浓度若高于一定范围以上，则会有损于上述pva刷子20。由此，根据一个实施方式，上述清洗溶液25可包含浓度在10wt％以上且小于50wt％的上述有机物。根据一个实施方式，上述有机物为thf或tmah。根据一个实施方式，上述硅氧烷化合物为pdms。通过对上述刷子20提供振动，可去除上述刷子20内的上述杂质23b。因此，上述振动产生器31产生振动，上述振动装置30将所产生的振动提供至上述刷子20。就上述杂质23b及振动而言，可与参照图1及图2说明的、在上述pva刷子的清洗方法中说明的杂质及振动相同。根据一个实施方式，上述振动装置30对上述pva刷子20提供10分钟振动的情况下，从上述pva刷子20所去除的上述杂质23b的量具有最大值。由此，从上述pva刷子20施加振动后10分钟以下的时间内，可将上述pva刷子20内的杂质23b几乎去除。根据一个实施方式，上述振动产生器31可与使上述振动产生器31产生振荡的振荡器32、频率控制装置33及功率控制装置34连接。根据一个实施方式，上述振动装置30也可包含石英、氧化铝、陶瓷及金属中的至少任1者。上述清洗溶液供给装置50可包含喷嘴51、储槽52、泵53、过滤器54、压力计55、流量计56及泵调节装置57。具体而言，就上述清洗溶液供给装置50而言，通过经由喷嘴51直接对上述pva刷子20上的上述芯部21供给上述清洗溶液25，或者也可将上述清洗溶液25供给至上述清洗容器40。上述储槽52可储存上述清洗溶液25。上述泵53可调整上述储槽52与上述清洗容器40之间的压力。例如，上述泵53可为隔膜泵(diaphragmpump)、波纹管计量泵(bellowsmeteringpump)、蠕动泵(peristalticpump)、注射泵(syringepump)、电磁隔膜泵(solenoiddiaphragmpump)、磁性叶轮泵(magneticdriveimpellerpump)及磁悬浮泵(magneticallylevitatedcentrifugalpump)等。上述过滤器54可去除从上述泵53提供至上述清洗容器40内的上述清洗溶液25中的杂质。根据一个实施方式，上述过滤器54也可具有尺寸为10nm～200nm的气孔。根据一个实施方式，上述过滤器54也可包含阀(未图示)。例如，上述阀可为通气阀或排出阀。根据一个实施方式，上述过滤器54可包含聚醚砜(pes，polyethersulfone)、聚四氟乙稀(ptfe，polytetrafluorethylene)、无表面活性剂的醋酸纤维素(sfca，sufactant-freecelluloseacetate)、聚偏二氟乙烯(pvdf，polyvinylidenefluoride)、纤维素、尼龙、醋酸纤维素(celluloseacetate)、硝化纤维素(cellulosenitrate)、玻璃微纤维(glassmicrofiber)及聚丙烯(polypropylene)中至少任1者。上述压力计55可确认上述清洗溶液25的供给压力。上述流量计56可确认上述清洗溶液25的供给流量。上述泵调节装置57可调节上述清洗溶液25的供给压力及供给流量的条件。上述颗粒测定装置60a可测定所清洗的上述pva刷子20内的上述杂质23b的尺寸及个数。例如，上述颗粒测定装置60a可测定所清洗的上述pva刷子20内所残留的气孔形成剂及因不完全交联等而形成的粘接力低的pva碎屑。例如，上述颗粒测定装置60a可为消光检测器(extinctiondetector)、单颗粒光学传感技术(spos，singleparticleopticalsizing)装置、激光衍射法(laserdiffraction)装置、动态光散射法(dynamiclightscattering)装置、及声衰减光谱法(acousticattenuationspectroscopy)装置等。上述有机物测定仪60b可测定所清洗的上述pva刷子20内的硅氧烷化合物23a的量。例如，上述有机物测定仪60b可测定所清洗的上述pva刷子20内的pdms的量。例如，上述有机物测定仪60b可为紫外线检测器(ultravioletdetector)、电导率检测器(conductivityanalyzer)、电流电荷检测器(currentchargedetector)、ndir检测器(nondispersiveinfraredgasanalyzer)及总有机碳分析仪(totalorganiccarbonanalyzer)等。去除了上述硅氧烷化合物23a及上述杂质23b的上述pva刷子20可向上述摩擦特性测定装置70及上述弹性特性测定装置80移动，能够测定摩擦特性及弹性特性。以下参照图4及图5，具体说明上述摩擦特性测定装置70及上述弹性特性测定装置80。首先说明摩擦特性测定装置70，之后说明弹性特性测定装置80，但上述pva刷子20的摩擦特性的测定及弹性特性的测定顺序不限于此。参照图4，上述摩擦特性测定装置70可由旋转马达70a、摩擦测定器70b及第一摩擦构件70c构成。上述pva刷子20中，上述芯部21的一端与上述旋转马达70a连接，上述突起22的一端与上述第一摩擦构件70c接触。由此，测定上述pva刷子20与上述第一摩擦构件70c之间的摩擦特性的变化，以及测定上述旋转马达70a的旋转力变化，从而可测定上述pva刷子20的摩擦特性。例如，上述摩擦测定器70b可为表面声波(saw，surfaceacousticwave)扭矩(torque)传感器、嵌入式磁场(emd，embeddedmagneticdomain)扭矩传感器、光电(opticalelectronics)扭矩传感器、遥测(telemetry)扭矩传感器、线材(wire)扭矩传感器、正弦固定式(stationary)扭矩传感器、接触旋转式(slipringrotational)扭矩传感器及非接触旋转式(contactlessrotational)扭矩传感器中任一者。参照图5，上述弹性特性测定装置80可由移动马达80a、弹性测定器80b及第二摩擦构件80c构成。上述pva刷子20中，上述芯部21的一端与上述旋转马达80a连接，上述突起22的一端与上述第二摩擦构件80c接触。另外，配置在与上述第二摩擦构件80c接触的上述突起22的相反侧的上述突起22的另一端与上述弹性测定装置80接触。由此，测定上述pva刷子20与上述第二摩擦构件80c之间的弹性特性变化及上述弹性测定器80b的压力变化，从而可测定上述pva刷子20的弹性特性。例如，上述弹性测定器80b可为应变式称重传感器(straingaugeloadcell)、梁式称重传感器(beamloadcell)及柱式称重传感器(columnloadcell)中的至少一者。本发明的一个实施方式的pva刷子清洗装置10可包括：上述清洗容器40，配置有包含上述有机物的上述清洗溶液25，以去除上述pva刷子20内的上述硅氧烷化合物23a；上述振动装置30，配置于上述清洗容器40内，将用于去除上述pva刷子20内的上述杂质23b的振动提供至上述pva刷子20；上述摩擦特性测定装置70，对去除了上述硅氧烷化合物23a及上述杂质23b的上述pva刷子20的摩擦特性进行测定；弹性特性测定装置80，测定上述pva刷子20的弹性特性。由此，可容易地去除上述pva刷子20内的硅这样的有机性物质及颗粒状的杂质等。结果可提供能够提高由化学机械平坦化步骤、半导体步骤及显示器步骤等所得到的成品率(yield)的pva刷子的清洗装置。以下，说明基于上述实施方式的pva刷子的清洗方法的具体实验例及特性评估。图6为示出在进行本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法前测定pva刷子的特性的方法的图及测定装置的照片。参照图6，将pva刷子的一部分在h3po4溶液内进行微波灰化(microwaveashing)后，使用agilent(usa)公司的7900icp-ms，测定pva刷子内的物质的特性。测定的结果归纳示于以下的表1。[表1]从图6及表1可知，在h3po4溶液内进行了微波灰化的pva刷子内，包含约88.65wt％浓度的si、约10.85wt％浓度的ti等。即，可知在实施基于上述实施方式的pva刷子的清洗方法之前的pva刷子内包含大量的硅氧烷及杂质。图7为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法进行清洗的pva刷子的特性进行测定的方法的图及测定装置的照片，图8为示出本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法中、随着振动时间而被去除的杂质的量的图。参照图7，将pva刷子浸渍于混合有20wt％浓度的thf及80wt％浓度的去离子水的溶液内，使用频率为40khz及功率为600w的超声波，去除pva刷子内的杂质，测定经去除的杂质的量。使用pss(usa)公司的accusizer780ad测定经去除的杂质。参照图8，利用图7中的前述方法，提供0～40分钟超声波来清洗pva刷子后，测定从pva刷子去除的杂质的量。由图8可知，可确认提供10分钟超声波的情况下，从pva刷子去除的杂质的量显著多。即，可知实施基于上述实施方式的pva刷子的清洗方法的情况下，在提供10分钟内超声波的期间几乎去除了所有杂质。另外，对pva刷子提供超声波的情况下，可以以高浓度捕集杂质，因此可容易地分析pva刷子的杂质。图9为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所去除的物质进行lc-ms测定的图。参照图9，利用lc-ms(liquidchromatography-massspectrometry(液相色谱法-质谱联用))测定在图7中用前述方法去除的物质。由图9a可知，可确认实施基于上述实施方式的pva刷子的清洗方法、从pva刷子去除的物质中包含pdms。图10及图11为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所去除的物质拍摄而得的电子显微镜照片。参照图10，将用图7中的前述方法所去除的物质干燥后，以0.5k的倍率进行fe-sem(fieldemission-scanningelectronmicroscope，场发射扫描电子显微镜)拍摄。由图10可知，用上述实施方式的方法所去除的物质中各自分布有杂质的颗粒(particle)。参照图11，放大图10的b部分，以5k的倍率进行fe-sem拍摄。由图11可知，可确认用上述实施方式的方法所去除的物质中，各自不仅分布有杂质的颗粒(particle)，也分布有pdms(organiccontainment)。图12为示出对用本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所去除的物质进行tof-sims测定的图。参照图12，将用图7中的前述方法所去除的物质干燥后，进行飞行时间二次离子质谱(tof-sims，timeofflight-secondarymassspectrometry)测定。由图12的c及d可知，用上述实施方式的方法所去除的物质中包含硅氧烷。通过图8至图12可知，在用基于本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法清洗pva刷子的情况下，可容易地从pva刷子去除pdms及杂质。图13及图14为示出将本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法中的清洗溶液的效率进行比较的照片。参照图13(a)及图13(b)，用图7中叙述的方法清洗pva刷子，但用无thf而仅含去离子水的清洗溶液清洗pva刷子，以1k及5k的倍率对经清洗的pva刷子的表面进行fe-sem拍摄。由图13(a)及图13(b)可知，在用无thf而仅含去离子水的清洗溶液清洗pva刷子的情况下，可确认pva刷子表面残留大量pdms。参照图14(a)及图14(b)，用图7中叙述的方法清洗pva刷子，以1k及5k的倍率对清洗后的pva刷子表面进行fe-sem拍摄。由图14(a)及图14(b)可知，用基于上述实施方式的pva刷子的清洗方法清洗pva刷子的情况下，可确认pva刷子表面实质上不残留pdms。即，由从图13及图14可知，清洗pva刷子的情况下，通过thf可容易地去除pdms。然而，随着thf的浓度变高，可能有损于pva刷子，因此必须调整为适当的thf浓度。研究不损伤pva刷子而能够去除pdms的thf的浓度，其实验结果归纳于表2至表4。[表2]thf浓度(wt％)去除率(wt％)0(diw)0.5551021.01452030.37383046.39644067.90125077.7778100100(去除率＝(被去除的pdms的重量/所有pdms的重量)×100％)[表3](δd：分散力，δp：极性力，δh：氢键力，r0：溶解球半径)[表4](δd：分散力，δp：极性力，δh：氢键力，r0：溶解球半径，red：相对能量差)表4的red由以下的公式1及公式2计算。<公式1>ra2＝4(δd1-δd2)2+(δp1-δp2)2+(δh1-δh2)2(ra：分子间距离，1：溶剂，2：溶液)<公式2>red＝ra/r0(ra：分子间距离，r0：溶解球半径)通过前述的表2～表4可知，随着thf的浓度增高，pdms的去除率也提高，但thf的浓度为50％以上时，可能对pva刷子造成损伤。另外，前述表4中的red的值小于1的情况下，也对pva刷子造成损伤。因此，上述实施方式的pva刷子的清洗方法中所使用的清洗溶液包含浓度在10wt％以上且小于50wt％的thf时，不会有损于pva刷子，可知为能够有效去除pdms的thf浓度范围。图15为示出基于本发明的一个实施方式的pva刷子的清洗方法所清洗的pva刷子的特性的图。参照图15，用图7中叙述的方法清洗pva刷子，但将清洗溶液所含的thf的浓度变更为0wt％～50wt％，并测定thf的浓度所造成的孔隙率(porosity)(％)。由图15可知，就用上述实施方式的pva刷子的清洗方法所清洗的pva刷子而言，在清洗溶液中包含的thf浓度超过40％的情况下，可确认逐渐减少。经清洗的pva刷子的孔隙率(％)由以下的公式3计算。<公式3>孔隙率(porosity)(％)＝wb-wa/(wb-wa)-(wa/dpva)(wa：经干燥的刷子的重量，wb：用水润湿的刷子的重量，dpva：pva刷子的密度(1.3g/cm3))以上，用优选的实施方式详细地说明了本发明，但本发明的范围不限于特定的实施方式，应以所附的权利要求书来解释。另外，可知若为具有本
技术领域：
常规知识的人，则可在不脱离本发明范围内进行多种修改和变形。附图标记说明10pva清洗装置20pva刷子21芯部22突起23a硅氧烷化合物23b杂质25清洗溶液30振动装置31振动产生器32振荡器33频率控制装置34功率控制装置50清洗溶液供给装置51喷嘴52储槽53泵54过滤器55压力计56流量计57泵调节装置60a颗粒测定装置60b有机物测定仪70压力特性测定装置80弹性特性测定装置100pva刷子110a硅氧烷化合物110b杂质200清洗溶液300振动装置当前第1页1 2 3 

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