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一种陶瓷件生产用陶瓷胚体的干燥设备的制作方法

2021-03-11 06:03:50|308|起点商标网
一种陶瓷件生产用陶瓷胚体的干燥设备的制作方法

[0001]
本发明涉及陶瓷胚体加工技术领域,具体为一种陶瓷件生产用陶瓷胚体的干燥设备。


背景技术:

[0002]
陶瓷是用陶土和瓷土这两种不同性质的粘土为原料,经过配料、成型、干燥、焙烧等工艺流程制成的器物,陶瓷在加工的过程中需要进行练泥、拉坯、印坯、利坯、晒坯、刻花、施釉、烧窑和彩绘等加工步骤,在陶瓷在拉坯完成后,需要对潮湿的瓷胚均匀的进行烘干,而瓷胚的底部烘干难度较大,使陶瓷加工的成品率较低,目前,对陶瓷胚体在干燥过程中,对气流的流速、方向控制等方面,不够精确,易导致胚体产生开裂,降低生产质量。
[0003]
因此,本领域技术人员提供了一种陶瓷件生产用陶瓷胚体的干燥设备,以解决上述背景技术中提出的问题。


技术实现要素:

[0004]
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种陶瓷件生产用陶瓷胚体的干燥设备,其包括箱体外壳、变速电机、加热组件、除湿组件、烘干组件以及引流组件,其中,所述加热组件安装在箱体外壳的四角端处,所述烘干组件竖直设置在箱体外壳中心处,所述引流组件安装在烘干组件的左、右侧,并由所述变速电机驱动转动;
[0005]
且,多组所述烘干组件外侧均安装有进气口,所述除湿组价设置在箱体外壳左上角,并与所述加热组件中的加热室相连通。
[0006]
作为本发明的一种优选技术方案,所述烘干组件包括支撑柱、圆环隔离板、内烘干组件、吸湿夹持组件以及外烘干组件,所述内烘干组件设置在箱体内部上端,所述外烘干组件设置在内烘干组件正下方,且,内、外烘干组件相靠近的一侧均安装有吸湿夹持组件;
[0007]
其中,内、外烘干组件上、下方的外侧壁面与支撑柱滑动连接,所述支撑柱底端连接固定在箱体内壁上,且,内、外烘干组件左、右侧设置有圆环隔离板。
[0008]
作为本发明的一种优选技术方案,所述内烘干组件包括调节底座、换气管、加热管一、支撑底座一以及可移动箱一,所述调节底座上端左、右侧连接固定有圆环轨道,所述支撑底座一安装在圆环轨道内侧,所述可移动箱一安装在支撑底座一;
[0009]
其中,所述调节底座中心开设有通气口,所述换气管右端伸入通气口,其左端依次贯穿左侧可移动箱一、支撑底座一、圆环轨道,且所述加热管一与换气管均反向设置。
[0010]
作为本发明的一种优选技术方案,所述调节底座中开设有滑槽一和滑槽二,其中,所述滑槽二位于滑槽一上方,且所述滑槽二的右侧还开设只有圆柱槽,所述圆柱槽内部安装有通风口调节组件。
[0011]
作为本发明的一种优选技术方案,所述吸湿夹持组件包括伸缩杆一、伸缩杆二、摆动箱以及转接盘,所述伸缩杆一、伸缩杆二上端分别铰接连接在滑槽二、滑槽一内部,其下端均与所述转接盘铰接连接,所述转接盘下方还铰接连接有摆动箱,所述摆动箱下端转动
连接有夹持件。
[0012]
作为本发明的一种优选技术方案,所述外烘干组件包括支撑底座二、可移动箱二、加热管二以及加热管三,所述支撑底座二与调节底座下端固定连接,所述可移动箱二设置在支撑底座二内部靠上方处,其上端与调节底座贯穿连接,其中,所述支撑底座二内还安装有旋转电机,所述可移动箱二内部中心安装有转轴,且所述可移动箱二左、右和上侧壁均开设有通风口;
[0013]
且,所述加热管二、加热管三分别与换气管、加热管一安装方式相同。
[0014]
作为本发明的一种优选技术方案,所述可移动箱二包括调节柱、调节箱、调节板、支撑杆以及底端吸湿组件,所述调节柱连接固定在转轴上端,所述调节箱设置在可移动箱二上端,呈圆周排列安装12组,所述支撑杆底端与调节箱上端左侧铰接连接,所述底端吸湿组件铰接连接在支撑杆上端;
[0015]
其中,所述支撑杆中心与调节板上端铰接连接,所述调节板底端与调节箱内部螺纹杆上啮合连接的螺纹套筒的上端固定连接;
[0016]
且,位于同一圆直径上的所述支撑杆的中心铰接连接有伸缩引流组件。
[0017]
作为本发明的一种优选技术方案,所述调节柱端还连接固定有分隔板,所述分隔板上端部分与所述引流组件的中心滑动连接,并将通风口上方的空间分为两部分。
[0018]
作为本发明的一种优选技术方案,所述底端吸湿组件内部安装有横向滚柱和微型电机,且所述底端吸湿组件上方露出的高度为滚柱横截面的四分之一,所述滚柱下方设置有储水槽。
[0019]
作为本发明的一种优选技术方案,所述引流组件包括旋转座、弧面三角锥、勺形引流板以及控温组件,所述旋转座右侧壁与变速电机输出端固定连接,其左侧壁连接固定有弧面三角锥,所述弧面三角锥上方倾斜设置有控温组件,其中,所述控温组件上端与调节底座右端固定连接,其下端与连接固定在旋转座中的伸缩电机固定连接;
[0020]
所述弧面三角锥端头平面处与调节底座底面之间竖直设置有勺形引流板。
[0021]
与现有技术相比,本发明提供了一种陶瓷件生产用陶瓷胚体的干燥设备,具备以下有益效果:
[0022]
1、本发明中位于四角端加热组件和圆环隔离板的结构设计,降低了设备内部温度波动大的问题,通过换气管对烘干组件内部的蒸发的热空气进行抽取进入除湿组件中去除水分,再次进入加热组件,对余热进行回收利用,节约大量资源,通过引流组件中的勺形引流板和弧面三角锥的结构设计,使得陶瓷胚体表面的受热均匀,减少局部受热不均产生破裂。
[0023]
2、本发明中通过变速电机可对干燥至含有30%到50%的陶瓷胚体进行整体反转,对后期易破裂的瓷胚,进行均匀干燥,其中,前期干燥过程,瓷胚体表面出现的水珠状态,通过吸湿夹持组件和底端吸湿组件进行吸湿处理,避免表面出现凹凸态,且通过内、外烘干组件的结构设计,有利于使得瓷胚内部和外部的空气热度处于平衡状态,尤其提高了瓷胚底端较难干燥的部分,且加热管可正、反向通气,进一步提高对瓷胚底端和表面温度的调控精度。
附图说明
[0024]
图1为本发明的干燥设备结构示意图;
[0025]
图2为本发明的烘干组件结构放大示意图;
[0026]
图3为本发明的b处结构放大示意图;
[0027]
图4为本发明的c处结构放大示意图;
[0028]
图5为本发明的可移动箱二结构放大示意图;
[0029]
图6为本发明的a处结构放大示意图;
[0030]
图中:1、箱体机壳;2、变速电机;3、加热组件;4、除湿组件;5、烘干组件;6、引流组件;601、旋转座;602、弧面三角锥;603、勺形引流板;604、控温组件;605、伸缩电机;7、内烘干组件;701、调节底座;702、换气管;703、加热管一;704、支撑底座一;705、可移动箱一;706、圆环轨道;8、外烘干组件;801、支撑底座二;802、可移动箱二;803、加热管二;804、加热管三;805、旋转电机;806、转轴;807、调节柱;808、调节箱;809、底端吸湿组件;810、支承杆;811、调节板;812、伸缩引流组件;9、吸湿夹持组件;901、伸缩杆一;902、伸缩杆二;903、摆动箱;904、夹持架;905、转接盘;10、支撑柱;11、圆环隔离板。
具体实施方式
[0031]
参照图1,本发明提供一种技术方案:一种陶瓷件生产用陶瓷胚体的干燥设备,其包括箱体外壳1、变速电机2、加热组件3、除湿组件4、烘干组件5以及引流组件6,其中,所述加热组件3安装在箱体外壳1的四角端处,所述烘干组件5竖直设置在箱体外壳1中心处,所述引流组件6安装在烘干组件5的左、右侧,并由所述变速电机2驱动转动;
[0032]
且,多组所述烘干组件5外侧均安装有进气口,所述除湿组价4设置在箱体外壳1左上角,并与所述加热组件3中的加热室相连通;
[0033]
作为最佳实施例,所述除湿组件4与烘干组件5相连通,且共同转动,由除湿组件4对烘干组件5中的湿热空气进行抽取和层层过滤,并再次加热组件3中进行循环。
[0034]
参照图2,本实施例中,所述烘干组件5包括支撑柱10、圆环隔离板11、内烘干组件7、吸湿夹持组件9以及外烘干组件8,所述内烘干组件7设置在箱体内部上端,所述外烘干组件8设置在内烘干组件7正下方,且,内、外烘干组件相靠近的一侧均安装有吸湿夹持组件9;
[0035]
其中,内、外烘干组件上、下方的外侧壁面与支撑柱10滑动连接,所述支撑柱10底端连接固定在箱体内壁上,且,内、外烘干组件左、右侧设置有圆环隔离板11,便于维持烘干组件5内部的温度稳定,使得瓷胚体内、外温度保持一致。
[0036]
参照图3,本实施例中,所述内烘干组件7包括调节底座701、换气管702、加热管一703、支撑底座一704以及可移动箱一705,所述调节底座701上端左、右侧连接固定有圆环轨道706,所述支撑底座一704安装在圆环轨道706内侧,所述可移动箱一705安装在支撑底座一704;
[0037]
其中,所述调节底座701中心开设有通气口,所述换气管702右端伸入通气口,其左端依次贯穿左侧可移动箱一705、支撑底座一704、圆环轨道706,且所述加热管一703与换气管702均反向设置;
[0038]
作为最佳实施例,所述换气管702和加热管内部均安装有引流扇,对气流进行精确调节,需要注意的是,换气管702和加热管一703伸入瓷胚体内部的管件能够自行收缩,换气
管702初始状态位于瓷胚体内部端口处,加热管一703位于瓷胚体内部低端处。
[0039]
本实施例中,所述调节底座701中开设有滑槽一和滑槽二,其中,所述滑槽二位于滑槽一上方,且所述滑槽二的右侧还开设只有圆柱槽,所述圆柱槽内部安装有通风口调节组件。
[0040]
本实施例中,所述吸湿夹持组件9包括伸缩杆一901、伸缩杆二902、摆动箱903以及转接盘905,所述伸缩杆一901、伸缩杆二905上端分别铰接连接在滑槽二、滑槽一内部,其下端均与所述转接盘905铰接连接,所述转接盘905下方还铰接连接有摆动箱903,所述摆动箱903下端转动连接有夹持件904;
[0041]
其中,所述转接盘905外部套有柔性保护套,所述摆动箱903内部安装有微电机,用于对夹持件904的转动,其转动幅度为306
°
自由转动,作为最佳实施例,可对吸附瓷胚体侧面存在的水珠的夹持件904转动108
°
,进行干燥蒸发,且夹持件904中的夹持端为三棱锥型,其后端还安装有缓冲架,促使夹持件904紧密贴合瓷胚表面,便于适应多种曲面结构的瓷胚体。
[0042]
参照图4,本实施例中,所述外烘干组件8包括支撑底座二801、可移动箱二802、加热管二803以及加热管三804,所述支撑底座二801与调节底座下端固定连接,所述可移动箱二802设置在支撑底座二801内部靠上方处,其上端与调节底座贯穿连接,其中,所述支撑底座二801内还安装有旋转电机805,所述可移动箱二802内部中心安装有转轴,且所述可移动箱二802左、右和上侧壁均开设有通风口;
[0043]
且,所述加热管二803、加热管三804分别与换气管702、加热管一804安装方式相同,其中,加热管中的引流扇可对其改变引流方向,进行适量的调节流向瓷胚的流量,且均独立工作,可独自调整。
[0044]
参照图5,本实施例中,所述可移动箱二802包括调节柱807、调节箱808、调节板811、支撑杆810以及底端吸湿组件809,所述调节柱807连接固定在转轴806上端,所述调节箱808设置在可移动箱二802上端,呈圆周排列安装12组,所述支撑杆810底端与调节箱808上端左侧铰接连接,所述底端吸湿组件809铰接连接在支撑杆801上端;
[0045]
其中,所述支撑杆810中心与调节板811上端铰接连接,所述调节板11底端与调节箱808内部螺纹杆上啮合连接的螺纹套筒的上端固定连接;
[0046]
且,位于同一圆直径上的所述支撑杆810的中心铰接连接有伸缩引流组件812;由调节箱808内的微电机调节伸缩引流组件812所围成的支撑面积。
[0047]
本实施例中,所述调节柱807端还连接固定有分隔板,所述分隔板上端部分与所述引流组件812的中心滑动连接,并将通风口上方的空间分为两部分,其中,所述调节柱807上半部分外侧圆周开设有滑道,用于调节通风管的管口大小,所述引流组件812之间设置有多组竖直引流板,引流板之间通过连接杆进行铰接连接,从而直接通过瓷胚体底端大小改变引流板之间的空隙,进而改变流向瓷胚体底端的流速。
[0048]
本实施例中,所述底端吸湿组件809内部安装有横向滚柱和微型电机,且所述底端吸湿组件809上方露出的高度为滚柱横截面的四分之一,所述滚柱下方设置有储水槽,通过微型电机驱动滚柱滚动,对底端凝结的水珠进行吸附。
[0049]
参照图6,本实施例中,所述引流组件6包括旋转座601、弧面三角锥602、勺形引流板603以及控温组件604,所述旋转座601右侧壁与变速电机2输出端固定连接,其左侧壁连
接固定有弧面三角锥602,所述弧面三角锥602上方倾斜设置有控温组件604,其中,所述控温组件604上端与调节底座701右端固定连接,其下端与连接固定在旋转座601中的伸缩电机605固定连接;
[0050]
所述弧面三角锥602端头平面处与调节底座701底面之间竖直设置有勺形引流板603,其中,作为最佳实施例,所述控温组件604中的引流板设置6组,伸缩电机605并排设置两组,一组伸缩电机605铰接连接的奇数引流板,并与偶数引流板滑动连接,另一组伸缩电机605反向连接设置,从而改变引流板开口的大小。
[0051]
在具体实施时,根据陶瓷胚体调节可移动箱二809上端之间的通风口的大小,将陶瓷胚体放入可移动箱二802中的底端吸湿组件809上方,再调节可移动箱一705底端通风口的大小,将换气管702伸入瓷胚口处,将加热管一703伸入瓷胚口底部处,由旋转电机805缓慢驱动可移动箱二802进行缓慢转动,由加热组件3对进风口进入的空气进行加热,通过控温组件604改变加热室内的空气流量,经勺形引流板603引流热空气流向瓷胚外部侧片,由加热管二803和加热管三804对瓷胚底端进行干燥,通过伸缩引流组件812对底端空气流量进行调控,若底端蒸发后的蒸汽略微粘在瓷胚表面和瓷胚底端表面,则通过驱动底端吸湿组件809和吸湿夹持组件9对瓷胚底端表面和瓷胚表面进行吸湿,待瓷胚整体所含水分蒸发剩余含量为30%至50%时,换气管702和加热管一703伸入瓷胚内部的管道进行收缩,至瓷胚口外部,由变速电机2驱动旋转座601进行转动,使得瓷胚整体进行转动,直至陶瓷胚体完成干燥,其中,由换气管702对烘干组件5中的气流进行抽取进入除湿组件4中除去水分后再次流入加热组件3中循环流动。
[0052]
以上所述,仅为发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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