一种旋转动力传输装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及机械装置技术领域，特别是涉及一种旋转动力传输装置。


背景技术：

[0002]
以砷化镓(gaas)为代表的ⅲ－
ⅴ
族化合物半导体材料由于其独特的电学性能，在卫星通讯、微波器件、激光器及发光二极管领域有着十分广泛的应用。异质结双极晶体管、高电子迁移率晶体管、led等器件的制作需要在高质量的衬底表面用分子束外延或者有机金属化合物气相外延技术生长外延结构。
[0003]
目前，对于像gaas、inp或gap的化合物半导体单晶的衬底进行用氯类抛光剂镜面抛光该衬底的一个主面，随后用酸或者碱进行清洗，然后用超纯水冲洗，其过程就是要把晶片表面处理干净，不能有金属离子、表面颗粒等残留，最后进行甩干；甩干过程就是把晶片的表面的水处理干净，同时不能引入新的杂质或颗粒污染处理干净的表面。
[0004]
在实际操作中，甩干时由于需要使用到驱动装置，通常驱动装置均使用传动轴和传动轴承配合来实现旋转驱动，但是由于传动轴承和传动轴的加工精度影响，还有随着传动轴和传动轴承使用时间的变长，传动轴会产生一些形变，在高速旋转过程中，传动轴会与传动轴承将会产生摩擦，从而产生颗粒粉尘，同时旋转过程中传动轴和传动轴承之间会产生气流，颗粒便随着气流带出，向四周扩散影响周围环境，如果颗粒落到晶片上，将影响晶片的清洗效果，从而影响产品质量。所以，急需一种能够降低因传动轴的摩擦旋转产生的颗粒对晶片清洁度影响的传动装置。


技术实现要素：

[0005]
本实用新型的目的是：提供一种旋转动力传输装置，该旋转动力传输装置结构简单，能够及时将传动轴与传动轴承运转过程中产生的颗粒及时运送出去，由此避免摩擦产生的颗粒对晶片的清洁造成影响，能够适用于对洁净度有要求的场合。
[0006]
为了实现上述目的，本实用新型提供了一种旋转动力传输装置，包括传动轴套，所述传动轴套为筒状，所述传动轴套的内部设有传动轴，所述传动轴的一端设有用于固定晶片的甩干头，所述传动轴的另一端连接有驱动装置，所述传动轴套的侧壁设有一连接孔，所述连接孔贯穿所述传动轴套的侧壁且与所述传动轴套的内部供传动轴通过的通孔相连通，所述连接孔通过连接管与抽吸装置相连。
[0007]
优选的，所述传动轴上设有安装部，所述甩干头通过安装部与所述传动轴相连，所述安装部的直径大于所述传动轴的直径。
[0008]
优选的，所述传动轴的两端均套设有传动轴承。
[0009]
优选的，所述传动轴套内供传动轴通过的通孔的两端均设有用于安装传动轴承的台阶，所述台阶与所述传动轴套的侧壁围合形成同于安装传动轴承的安装位。
[0010]
优选的，所述连接孔设置在两个所述安装位之间。
[0011]
优选的，所述连接孔邻近远离所述甩干头一侧的安装位设置。
[0012]
优选的，所述连接孔的外圆与远离所述甩干头一侧的安装位的台阶的距离为1－5mm。
[0013]
优选的，所述连接孔的直径范围为8mm－12mm。
[0014]
优选的，抽吸装置为真空泵。
[0015]
优选的，所述传动轴套的两端均设有用于对传动轴承限位的限位装置。
[0016]
本实用新型实施例一种旋转动力传输装置，与现有技术相比，其有益效果在于：
[0017]
本实用新型实施例的旋转动力传输装置，通过在传动轴套上设置连接孔，连接孔通过连接管与抽吸装置相连，在晶片使用旋转装置旋转甩干的时候，抽吸装置启动，将传动轴套内形成负压环境，此时，传动轴承与传动轴摩擦所产生的颗粒不会扩散，通过抽吸装置可以将摩擦产生的颗粒及空气沿连接管吸走，从而达到降低环境影响和尘埃数量的效果，提高晶片的表面洁净；本实施例的旋转动力传输装置可以适用于对清洁度有更高要求的场合，增大旋转动力传输装置的适用范围，进一步地，可以减小相对密闭空间旋转装置内所产生的颗粒对外界环境的影响，从而进一步地提高晶片清洗甩干后表面洁净度。从而本实施例的旋转动力传输装置可以应用于洁净度要求高的设备和场合，如半导体晶片清洗装置，且可以安装在无尘室等对清洁度有要求的场合，适用范围广。
附图说明
[0018]
图1是本实用新型实施例旋转动力传输装置的爆炸图；
[0019]
图2是本实用新型实施例传动轴套的结构示意图；
[0020]
图3是本实用新型实施例旋转动力传输装置的工作原理图；
[0021]
图中，1、传动轴套，2、传动轴，3、传动轴承，4、连接孔，5、安装部，6、台阶，7、晶片。
具体实施方式
[0022]
下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0023]
应当理解的是，本实用新型中采用术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语，这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本实用新型范围的情况下，“第一”信息也可以被称为“第二”信息，类似的，“第二”信息也可以被称为“第一”信息。
[0024]
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
[0025]
如图1至图3所示，本实用新型优选实施例的一种旋转动力传输装置，包括传动轴套1，传动轴套1为筒状，传动轴套1的内部设有传动轴2，传动轴2的一端设有用于固定晶片7
的甩干头，传动轴2的另一端连接有驱动装置，传动轴套1的侧壁设有一连接孔4，连接孔4贯穿传动轴套1的侧壁且与传动轴套1的内部供传动轴2通过的通孔相连通，连接孔4通过连接管(图中未示出)与抽吸装置(图中未示出)相连。
[0026]
基于以上技术方案，通过在传动轴套1上设置连接孔4，连接孔4通过连接管与抽吸装置相连，在晶片7使用旋转装置旋转甩干的时候，抽吸装置启动，将传动轴套1内形成负压环境，此时，传动轴承3与传动轴2摩擦所产生的颗粒不会扩散，通过抽吸装置可以将摩擦产生的颗粒及空气沿连接管吸走，从而达到降低环境影响和尘埃数量的效果，提高晶片7的表面洁净；本实施例的旋转动力传输装置可以适用于对清洁度有更高要求的场合，增大旋转动力传输装置的适用范围，进一步地，可以减小相对密闭空间旋转装置内所产生的颗粒对外界环境的影响，从而进一步地提高晶片7清洗甩干后表面洁净度。从而本实施例的旋转动力传输装置可以应用于洁净度要求高的设备和场合，如半导体晶片清洗装置，且可以安装在无尘室等对清洁度有要求的场合，适用范围广。
[0027]
进一步地，传动轴2上设有安装部5，甩干头通过安装部5与传动轴2相连，由此便于对甩干头的拆卸和安装，优选的，安装部5的直径大于传动轴2的直径，由此便于甩干头的安装，同时增加了甩干头与传动轴2的接触面积，减小了晶片7以及甩干头对传动轴2的压力。
[0028]
优选的，传动轴2的两端均套设有传动轴承3。由此，便于传动轴2的旋转运动，进一步地。使得旋转动力传输装置的运行平稳，使得传动轴承3和传动轴2的相对运动平稳，减少传动轴承3和传动轴2之间的摩擦，避免传动轴2因运行不平稳产生变形，从而避免传动轴2和传动轴套1之间摩擦产生颗粒影响晶片7的清洁度。
[0029]
进一步地，传动轴套1内供传动轴通过的通孔的两端均设有用于安装传动轴承3的台阶6，台阶6与传动轴套1的侧壁围合形成同于安装传动轴承3的安装位，由此便于传动轴承3的安装和定位，进一步地使得轴和传动轴2的相对运动平稳，减少摩擦，避免传动轴2因运行不平稳产生变形，从而避免传动轴2和传动轴套1之间摩擦产生颗粒影响晶片7的清洁度。
[0030]
优选的，连接孔4设置在两个安装位之间，由此可以通过一个连接孔4同时将两个传动轴承3与轴之间摩擦所产生的颗粒吸出，简化装置结构，避免过多设置连接管影响整个装置的布置，同时可以使用一个抽吸装置即可完成对两个传动轴承3与传动轴之间摩擦所产生的颗粒吸出，节约能源。
[0031]
在本实施例中，连接孔4邻近远离甩干头一侧的安装位设置，由此能够将邻近甩干头一侧的传动轴承3和传动轴2之间摩擦产生的颗粒引导到远离甩干头的一侧再经由连接管吸出，由此，进一步地确保了晶片7的清洁度。
[0032]
优选的，连接孔4的外圆与远离甩干头一侧的安装位的台阶的距离为1－5mm，由此在确保连接孔4离甩干头一侧的距离足够的同时，不会破坏传动轴套1的强度。
[0033]
进一步地，连接孔4的直径范围为8mm－12mm，由此确保抽吸装置的风量足以将传动轴2与传动轴承3摩擦产生的颗粒吸出，进一步确保晶片7的清洁度。
[0034]
具体的，抽吸装置为真空泵，由此便于对旋转动力传输装置的布置，且真空泵容易获取，同时真空泵能够提供的动力充足，可以确保将传动轴2与传动轴承3摩擦产生的颗粒吸出，进一步确保晶片7的清洁度。
[0035]
优选的，传动轴套1的两端均设有用于对传动轴承3限位的限位装置，由此便于对
传动轴承3的定位，避免在传动轴2旋转时传动轴承3发生脱落现象。
[0036]
在本实施例中，传动轴套1与传动轴2为间隙配合，传动轴套1的通孔的内壁与传动轴2的外壁之间设有间隙，由此避免传动轴套1与传动轴2发生摩擦，同时便于含有颗粒的气体的输送。
[0037]
本实用新型的工作过程为：如图3所示，图中箭头方向为颗粒运动方向，传动轴套1的侧面通过连接管与真空泵相连，真空泵工作使得传动轴套1内部产生负压，当传动轴2旋转运动，传动轴2与传动轴承3之间因摩擦产生颗粒时，由于传动轴套1内部形成负压状态，携带颗粒的气流向传动轴套1远离甩干头的一侧流动，由此颗粒随气流向传动轴套1内部移动，最后从连接管内排出，颗粒不会向外扩散，从而保证外部环境不受影响，进一步地不会影响晶片7的清洁度。
[0038]
综上，本实用新型实施例提供一种旋转动力传输装置，其旋转动力传输装置通过在传动轴套1上设置连接孔4，连接孔4通过连接管与抽吸装置相连，在晶片7使用旋转装置旋转甩干的时候，抽吸装置启动，将传动轴套1内形成负压环境，此时，传动轴承3与传动轴2摩擦所产生的颗粒不会扩散，通过抽吸装置可以将摩擦产生的颗粒及空气沿连接管吸走，从而达到降低环境影响和尘埃数量的效果，提高晶片7的表面洁净；本实施例的旋转动力传输装置可以适用于对清洁度有更高要求的场合，增大旋转动力传输装置的适用范围，进一步地，可以减小相对密闭空间旋转装置内所产生的颗粒对外界环境的影响，从而进一步地提高晶片7清洗甩干后表面洁净度。从而本实施例的旋转动力传输装置可以应用于洁净度要求高的设备和场合，如半导体晶片清洗装置，且可以安装在无尘室等对清洁度有要求的场合，适用范围广。
[0039]
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
[0040]
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本实用新型的保护范围。

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