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一种溢流染色机导布辊检修装置的制作方法

2021-02-19 03:02:22|278|起点商标网
一种溢流染色机导布辊检修装置的制作方法

[0001]
本申请涉及染色机的技术领域,尤其是涉及一种溢流染色机导布辊检修装置。


背景技术:

[0002]
溢流染色机,主要用于各类纯棉、纯涤、涤棉、氨纶等针织坯布的前后处理及染色,特别对高附加值的新合纤及超细纤维染色尤为适宜,同时也可作为织物的煮炼、漂白、预缩、碱减量等加工。
[0003]
目前,公告号为cn205954297u的专利公开了一种高温高压溢流染色机,包括机体、延伸出机体的固定架以及设置在固定架上出布辊,所述固定架上沿布料的输出方向设有平行于出布辊用于阻挡水滴的挡板,所述挡板设置在出布辊远离机体的一侧,所述挡板下方设有用于收集水滴的集水槽。
[0004]
溢流染色机导布辊所处高度一般较高,工作人员往往需要借助工作台进行导布辊的检修工作。
[0005]
公开号为cn209082943u的专利公开了一种可拆卸式溢流染色机导布辊检修装置,包括相互连接的检修架和登高架;所述检修架包括检修平台,检修平台下方的两端设有支撑架,检修平台后侧的下方设有爬梯,检修平台前侧设有弧形凹面;所述支撑架上端设有固定座,固定座上方设有定位凸台,定位凸台侧面设有位于固定座上的螺纹孔;所述检修平台下方设有分别与定位凸台和螺纹孔相配合的定位凹槽和安装孔。
[0006]
针对上述中的相关技术,发明人认为存在有以下缺陷:该检修装置用于溢流染色机导布辊检修时,由于溢流染色机的高度并不统一,但是检修平台和登高架的高度是一定的,因此该检修装置只能针对统一高度的溢流染色机进行检修工作,在使用上具有一定的局限性。


技术实现要素:

[0007]
为了适应不同高度的溢流染色机的导布辊检修工作,本申请提供一种溢流染色机导布辊检修装置。
[0008]
本申请提供的一种溢流染色机导布辊检修装置,采用如下的技术方案:
[0009]
一种溢流染色机导布辊检修装置,包括检修平台,所述检修平台的底面设置有支撑架,所述支撑架沿所述检修平台宽度方向设置有两组,且每组支撑架包括两根支撑杆,且两所述支撑杆沿所述检修平台长度方向间隔设置,所述支撑杆包括内杆和外杆,所述外杆设置于所述检修平台的底面,且所述外杆内设置有滑移腔,所述内杆一端滑移设置于所述滑移腔内,且所述检修平台上设置有用于调节所述内杆滑移长度的调节装置,所述检修平台一侧设置有伸缩梯。
[0010]
通过采用上述技术方案,利用调节装置调节内杆滑出的长度,以调节支撑杆的长度,从而调节检修平台的高度,同时伸缩梯相对应的进行长度调节,从而便于工作人员对不同高度的溢流染色机进行导布辊的检查工作,提高了适用性。
[0011]
优选的,所述外杆顶端设置有滑座,所述滑座水平滑移设置于所述检修平台底面,所述调节装置包括:
[0012]
伸缩杆,所述伸缩杆设置于所述内杆伸出滑移腔的一端上,且所述伸缩杆的两端分别固定于同一组的两根内杆上;
[0013]
连杆,同一组支撑杆上设置有两根连杆,所述连杆一端铰接在所述滑座上,另一端铰接在所述伸缩杆上;以及
[0014]
驱动组件,所述驱动组件设置于所述检修平台,且用于带动同一组的两个滑座朝相反方向滑移。
[0015]
通过采用上述技术方案,驱动组件带动同一组滑座朝相反的方向运动,从而带动连杆发生转动,同时伸缩杆会同步发生伸缩,连杆带动伸缩杆竖向运动,从而拉动内杆竖向运动,从而调节内杆的滑动长度,从而调整支撑杆的高度,从而调节了检修平台的高度。
[0016]
优选的,两所述连杆呈“x”形分布,且两所述连杆的交叉点穿设有转动轴,所述连杆与所述转动轴转动连接。
[0017]
通过采用上述技术方案,连杆交叉设置能提高检修平台的稳固性,提高检修平台的承载力。
[0018]
优选的,所述驱动组件包括:
[0019]
双向螺杆,所述双向螺杆转动设置于所述检修平台,所述双向螺杆上设置有两个方向相反的螺纹段,所述双向螺杆穿过两所述滑座,所述双向螺杆与所述滑座螺纹连接,且两所述滑座分别位于两个螺纹段上;以及
[0020]
驱动电机,所述驱动电机设置于所述检修平台上,且所述驱动电机的输出轴与所述双向螺杆的一端键连接。
[0021]
通过采用上述技术方案,启动驱动电机,带动双向螺杆转动,从而带动两个滑块朝相反的方向运动,具有结构简单,操作方便的优点。
[0022]
优选的,每一根内杆底端均设置有底座,所述底座内开设有限位滑槽,且所述内杆底端滑移设置于所述限位滑槽内。
[0023]
通过采用上述技术方案,底座提高了整个检修架的稳固性,且限位滑槽能限制支撑杆水平滑移。
[0024]
优选的,所述底座的底面设置有防滑垫。
[0025]
通过采用上述技术方案,防滑垫可以增加底座与地面的摩擦力,起到防滑的作用。
[0026]
优选的,所述伸缩梯呈竖直设置,且所述伸缩梯包括:
[0027]
外梯,所述外梯顶端设置于所述检修平台上,且所述外梯内设置有滑移槽;以及
[0028]
内梯,所述内梯滑移设置于所述滑移槽内,且所述内梯的底端与地面抵接。
[0029]
通过采用上述技术方案,检修平台高度调节的同时会带动内梯在外梯内竖向滑动,从而改变伸缩梯的高度,从而便于工作人员爬上检修平台。
[0030]
综上所述,本申请包括以下至少一种有益技术效果:
[0031]
1.利用调节装置调节内杆滑出的长度,以调节支撑杆的长度,从而调节检修平台的高度,同时伸缩梯相对应的进行长度调节,从而便于工作人员对不同高度的溢流染色机进行导布辊的检查工作,提高了适用性;
[0032]
2.检修平台高度调节的同时会带动内梯在外梯内竖向滑动,从而改变伸缩梯的高
度,从而便于工作人员爬上检修平台。
附图说明
[0033]
图1是本申请的整体结构示意图;
[0034]
图2是本申请的支撑架的结构示意图。
[0035]
附图标记:1、检修平台;12、滑轨;21、支撑杆;211、内杆;212、外杆;3、滑座;41、伸缩杆;411、第一连接杆;412、第二连接杆;413、第三连接杆;42、连杆;421、转动轴;431、双向螺杆;432、驱动电机;5、底座;51、限位滑槽;52、防滑垫;6、伸缩梯;61、外梯;611、滑移槽;62、内梯。
具体实施方式
[0036]
以下结合附图对1-2对本申请作进一步详细说明。
[0037]
本申请实施例公开一种溢流染色机导布辊检修装置,参照图1,包括检修平台1,检修平台1底面设置有支撑架,支撑架沿检修平台1宽度方向设置有两组,且每组支撑架包括两根支撑杆21。支撑杆21均呈竖直设置,且两根支撑杆21沿检修平台1长度方向间隔设置。
[0038]
支撑杆21包括内杆211和外杆212,外杆212顶端固定有滑座3,且外杆212通过滑座3水平滑移设置在检修平台1的底面。检修平台1底面固定有滑轨12,且滑轨12长度方向与检修平台1的长度方向平行,滑座3滑移设置于滑轨12中。外杆212内开设有呈竖直的滑移腔,内杆211一端竖向滑移设置于滑移腔内,并且内杆211的另一端伸出滑移腔。
[0039]
参照图1和图2,检修平台1底面还设置有用于调节内杆211滑移长度的调节装置,调节装置包括伸缩杆41、连杆42以及驱动组件。其中,伸缩杆41设置在内杆211伸出滑移腔的一端,伸缩杆41包括第一连接杆411、第二连接杆412以及第三连接杆413。第二连接杆412内开设有长度方向与检修平台1长度方向一致的滑槽,第一连接杆411和第三连接杆413分别滑移设置于滑槽的两端,并且第一连接杆411和第三连接杆413远离第二连接杆412的一端分别与同一组的两根内杆211固定连接。
[0040]
同一组支撑杆21上设置有两根连杆42,两根连杆42呈“x”形分布,且两根连杆42的交叉点穿设有转动轴421,并且连杆42与转动轴421转动连接。
[0041]
驱动组件设置于检修平台1的底面且用于带动同一组的两个滑槽朝相反方向与运动,并且驱动组件包括双向螺杆431以及驱动电机432。其中,双向螺杆431转动设置于滑轨12内,且双向螺杆431的长度方向与滑轨12的长度方向平行,并且双向螺杆431一端穿出滑轨12。双向螺杆431上具有两个方向相反的螺纹段,且双向螺纹杆沿其长度方向依次穿过两个滑座3,双向螺杆431与滑座3螺纹连接,并且两个滑座3分别位于两个螺纹段上。驱动电机432固定在检修平台1地面,且驱动电机432的输出轴与双向螺杆431穿出滑轨12的一端键连接。
[0042]
每一根内杆211的底端均设置有底座5,底座5顶端开设有限位滑槽51,且限位滑槽51的长度方向与检修平台1长度方向一致。内杆211底端滑移设置于限位滑槽51内,因此在两滑座3朝相反的方向运动时,内杆211也会在限位滑槽51内水平滑移,保证了检修平台1的稳固性。此外,底座5的底面固定有防滑垫52。
[0043]
检修平台1远离染色机本体的一侧设置有伸缩梯6,伸缩梯6呈竖直设置,且包括外
梯61以及内梯62。其中,外梯61顶端与检修平台1固定连接,且外梯61内部开设有呈竖向的滑移槽611。内梯62则竖向滑移设置于滑移槽611内,且内梯62的底端与地面相抵接。随着检修平台1的高度变化,伸缩梯6的高度也会随之变化,从而便于工作人员从伸缩梯6上攀爬至检修平台1上。
[0044]
本申请实施例的工作原理为:
[0045]
根据油罐的高度,启动驱动电机432,带动双向螺杆431转动,从而带动两个滑座3朝相反的方向运动,连杆42带动伸缩杆41竖向运动,从而拉动内杆211竖向运动,从而调整支撑杆21的长度,从而调节检修平台1的高度。检修平台1高度调节的同时又会带动内梯62在外梯61内竖向滑动,从而改变伸缩梯6的高度,从而便于工作人员爬上检修平台1。
[0046]
以上均为本申请的较佳实施例,并非依此限制本申请的保护范围,故:凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化,均应涵盖于本申请的保护范围之内。

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