一种光致增强型量子点膜的制作方法与流程

本发明涉及一种光致量子点膜的制作方法。

背景技术：

具有量子限域特性的半导体纳米晶，又称量子点，由于其量子尺寸效应而具有独特的光学和电学性能，如连续可调的发射波长、较宽的激发光谱、较窄的发射光谱、高荧光量子产率和光化学稳定性以及抗荧光漂白，使其广泛应用于发光二极管（led）、生物检测、激光器和太阳能电池敏化剂等方面，且在近年来取得了重大研究进展。

量子点显示器是使用量子点膜作为面板架构的一部分来产生单色光以提供可调原色并提高屏幕效率和性能的装置。可以通过两种基本方式实现：光致发光和电致发光。

目前采用量子点膜技术的光致发光技术是目前量子点显示中较为成熟可靠的技术。

但是如何提高光致发光技术中量子点膜的光致发光效率仍是热点研究问题。

除此之外，量子点材料非常容易受到外界环境中氧气、水汽以及其他因素的影响导致其稳定性较差，从而无法满足显示和照明领域对量子点膜稳定性的要求。

因此，目前急需一种在能提高量子点膜光致发光效率的基础上，又具有优异隔绝水氧功能的量子点膜。

技术实现要素：

为了克服现有光致发光量子点膜光致发光效率较低、隔绝功能较差的不足，本发明提供一种光致增强型量子点膜的制作方法，所制备出的量子点膜光致发光效率高、隔绝功能好。

本发明解决其技术问题的技术方案是：一种光致增强型量子点膜的制作方法，该制作方法包括如此下步骤：

s1:提供量子点基膜，该量子点基膜为含有量子点的丙烯酸树脂膜；

s2:在所述量子点基膜上涂敷微米级二氧化硅粒子层；

s3:在所述量子点基膜上涂布丙烯酸酯胶水；

s4：对所述量子点基膜进行电子束处理。

优选的，步骤s4中电子束处理的时间为0.5~5秒。

优选的，所述二氧化硅粒子的直径为0.1~2μm。

本发明的有益效果在于：1.量子点基膜表面的二氧化硅微球，使光线可以有效的发生全内反射，从而提高量子点膜的光致发光效率。同时二氧化硅的表面覆盖也使得量子点膜表面的耐磨性能有了显著提高。2.通过电子束对量子点膜进行处理，能够瞬间破坏量子点基膜表面，使得表面中的双键碳链断开，断开的双键碳链又重新聚合组合成致密的交联组织，该交联组织与二氧化硅微球在量子点基膜表面形成阻隔层。此番处理不仅能够很好的增加二氧化硅微球的粘附性，提高其稳定性，还能很好的阻隔水汽和氧气，并且该阻隔层还能够对该量子点基膜提供很好的抗老化性能和力学特性。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细说明。

一种光致增强型量子点膜的制作方法，包括如此下步骤：

s1:提供量子点基膜，该量子点基膜为含有量子点的丙烯酸树脂膜。

s2:在所述量子点基膜上涂敷微米级二氧化硅粒子层，推荐的二氧化硅粒子的直径为0.1~2μm。

s3:在所述量子点基膜上涂布丙烯酸酯胶水。

s4：对所述量子点基膜进行电子束处理，推荐的处理时间为0.5~5秒。

本发明的量子点基膜表面的二氧化硅微球，使光线可以有效的发生全内反射，从而提高量子点膜的光致发光效率。同时二氧化硅的表面覆盖也使得量子点膜表面的耐磨性能有了显著提高。

本发明通过电子束对量子点膜进行处理，能够瞬间破坏量子点基膜表面，使得表面中的双键碳链断开，断开的双键碳链又重新聚合组合成致密的交联组织，该交联组织与二氧化硅微球在量子点基膜表面形成阻隔层。此番处理不仅能够很好的增加二氧化硅微球的粘附性，提高其稳定性，还能很好的阻隔水汽和氧气，并且该阻隔层还能够对该量子点基膜提供很好的抗老化性能和力学特性。

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