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3-氟-4-硝基苯甲醛的合成路线及制备方法与流程

2021-02-02 07:02:48|322|起点商标网

[0001]
本发明属于药物中间体合成技术领域,具体涉及一种3-氟-4-硝基苯甲醛的新的合成路线及制备方法。


背景技术:

[0002]
3-氟-4-硝基苯甲醛作为药物中间体模块,制备极其不易,且价位较高,使得基于3-氟-4-硝基苯甲醛生产的新药筛项目成本较高!现有的报道制备方法是以易得的3-氟-4-硝基苯甲酸为起始原料,先制备二甲酰胺中间体[methyl]-n-[methoxy] 3-fluoro-4-nitrobenzamide,再以高活性还原剂二异丁基氢化铝(dibal)为还原剂在较苛刻的超低温无水反应条件下还原成甲基醇中间体,该反应试剂活性太高选择性差,难以控制,尤其反应要求-78℃超低温且要求反应试剂和体系无水,这将使生产中存在极大的安全隐患,反应条件要求太高不适用于工业大生产。


技术实现要素:

[0003]
本发明的目的在于提供一种新的3-氟-4-硝基苯甲醛合成路线及其相应制备方法。
[0004]
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:3-氟-4-硝基苯甲醛的合成路线如下:上述3-氟-4-硝基苯甲醛合成路线的具体制备方法,包括以下步骤:(1)将3-氟-4-硝基苯甲酸和催化剂ⅰ(1-5%,催化剂)加入到有机溶剂甲醇中,均匀搅拌下于60℃搅拌5-12h,然后升停止搅拌经后处理得固体中间产物2;所述3-氟-4-硝基苯甲酸、催化剂ⅰ和甲醇的摩尔比为1∶(0.01-0.05)∶(5-10);(2)向有机溶剂ⅱ中加入中间产物2,0℃均匀搅拌下加入硼氢化钠,0℃下搅拌0.5-1h,然后慢慢20-60℃搅拌2-6h,后停止,经后处理得中间产物3;其中,中间产物2和硼氢化钠的摩尔比为1∶(2.5-6);(3)中间产物3和氧化剂ⅲ加入有机溶剂ⅳ中,加热回流3-10h,反应结束后冷却至20-30℃,反应液经后处理得产品4。
[0005]
上述方法中,所述催化剂ⅰ为浓硫酸、对甲苯磺酸、磷酸、硝酸、盐酸中的一种或几种;上述方法中,所述有机溶剂ⅱ为四氢呋喃、甲醇、乙醇、异丙醇中的一种或几种;上述方法中,所述氧化剂ⅲ为2-碘酰基苯甲酸、高锰酸钾、过氧乙酸、过硫酸氢钾、二氧化锰、氯铬酸吡啶盐中的一种或几种;上述方法中,所述有机溶剂ⅳ为乙酸乙酯、四氢呋喃、甲基呋喃、二氧六环、甲苯、二氯
cho)。
[0016]
实施例2(1)2l三口烧瓶中依次加入200g 3-氟-4-硝基苯甲酸、10g 对甲苯磺酸和1l无水甲醇,良好搅拌下于80℃回流搅拌8h,tlc跟踪基本反应完全,经蒸馏浓缩去除溶剂,加入200ml水,经3
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300ml乙酸乙酯萃取、10%碳酸钠水溶液洗涤、饱和食盐水洗涤、无水硫酸镁干燥,脱溶得大量白色固体产物200g(收率93%)。
[0017]
所得白色固体产物的核磁氢谱数据如下所示: 1h nmr (cdcl3): δ 4.0 (s, 3h), 7.97 (m, 2h), 8.11 (d, 1h)。
[0018]
(2)于2l三口烧瓶中加入172g 3-氟-4-硝基苯甲酸,完全溶解于500毫升甲醇和500毫升四氢呋喃的混合溶剂中。在冰浴下缓慢分批加入130.7克硼氢化钠,60℃搅拌过夜。把反应液拉干,加入1l乙酸乙酯搅拌10分钟,然后加入400毫升浓盐酸和500毫升水。静止分层,取水层,用乙酸乙酯洗涤两次。将水层调成强碱性,再用乙酸乙酯萃取三次,合并有机层,无水硫酸钠干燥,拉干后简单柱层析得到124.2克黄色油状物产品(收率84%)。
[0019]
所得黄色油状物产品的核磁氢谱数据如下所示:1h nmr (400 mhz, cdc13): δ 8.01 (t, 1h, j= 7.8 hz), 7.29 (d, 1h, j= 1 1.8 hz), 7.22 (d, 1h, j= 8.4 hz), 4.77 (s, 2h), 2.00 (s,
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oh)。
[0020]
(3)于2l三口烧瓶中依次加入120g 3-氟-4-硝基苯甲醇、235.6g 二氧化锰溶于800ml二氯甲烷,50℃反应12h,点板检测反应原料消失后,迅速冷却至室温,抽滤,反应液依次用300ml二氯甲烷于分液漏斗中萃取三次,有机相10%naoh溶液洗涤两次,饱和食盐水洗,脱溶得粗品,柱层析得到产品白色固体81.7g(收率69%)。
[0021]
所得白色固体的核磁氢谱数据如下所示:1h nmr (400 mhz,cdcl3) δ: 7.79-7.85 (m, 2h), 8.18 (m, ih), 10.08 (s, ih, cho)。
[0022]
根据实施例1和实施例2中各产物的核磁氢谱数据可以看出,本申请所记载的3-氟-4-硝基苯甲醛合成路线和制备方法能够合成目标产物。
[0023]
最后需要表明的是,上述实施例仅仅是对本发明作进一步说明,而非限制,对本领域技术人员来说,可以在不脱离本发明实质内容的情况下做进一步改变,而所有这些改变都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

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