一种具有精细模具纹理瓷片的制造方法与流程
本发明属于陶瓷建筑装饰材料领域,具体涉及一种具有精细模具纹理瓷片的制造方法。
背景技术:
瓷片是瓷砖中的一种陶质砖,有内墙砖、釉面砖等多种叫法。瓷片属于陶质砖,吸水率在10%~20%间,目前市面上吸水率普遍在16%左右,主要使用场所是室内。
随着人们生活水平的提高,在现代装饰中,人们对瓷砖的适用性、表面花式纹理、精细凹凸纹理的逼真立体效果和真实触感有了更高的要求,瓷砖如何制作精细凹凸模具纹理的釉面效果是做瓷砖的研究方向之一。
现阶段制作精细凹凸模具纹理,有以下技术手段。
1、通过带有凹凸纹理的雕刻模具来压制成型,使陶瓷砖坯表面产生由模具形成的凹凸纹理,再经淋底釉、淋面釉、喷印图案、烧成,最终得到具有立体凹凸纹理图案的制品。该方法要淋底釉与面釉,淋釉釉料有流动性会摊平模具效果,特别对于一些比较精细的模具(如细布纹)就很难达到想要的模具效果。施釉方式也可以用喷釉,喷釉相对淋釉对保持坯的精细模具效果更好,喷釉釉量可以控制相对薄一些,这相对保持模具的纹理效果有好处;釉量施薄这对瓷质砖来说问题不大,但对于瓷片就不合适,因为瓷片吸水率大(大于10%),其坯体存在透水性,当施釉量薄时,水份会透过底面釉层影响釉面效果。
2、采用印刷下陷釉来制成模具效果,下陷釉是一种通过低温熔化腐蚀釉面而下陷的釉料,因为腐蚀釉面而成所以容易吸污,另外会腐蚀图案纹理,腐蚀会存在一定的扩散,形成的模具效果不是很理想。
3、在釉面层印刷凸釉,凸釉可以形成一定的仿模具效果,目前较成功的方式是丝网印刷,丝网印刷容易塞网,效果不稳定,模具纹理不能随图案纹理的变化而变化,工人劳动强度也大,另外凸釉会盖住纹理发色;喷墨印刷凸釉是比较好的方式,但对凸釉与喷头的要求比较高,目前还没有大范围使用。
技术实现要素:
本发明的目的在于提供一种具有精细模具纹理瓷片的制造方法,该制造方法包括素坯经淋底釉→淋无光面釉→喷墨印花与喷印深刻墨水→淋亚光透明釉→烧成→成品,通过调整无光釉层、亚光透明釉层的配方与施釉量可以很好的解决瓷片易变形与易透水的问题,喷印深刻墨水的纹理是通过电脑制作而成,电脑处理纹理样式可以多样化,线条可以做得很精细。
为实现上述目的,本发明提供的技术方案如下:
一种具有精细模具纹理瓷片的制造方法,包括如下步骤:
s1.素坯淋底釉;
s2.淋无光面釉;所述无光面釉由以下质量份数计的组分组成:熔块74~87份、硅酸锆7~12份、煅烧高岭土3~7份、气刀土3~7份;
s3.喷墨印花与喷印深刻墨水,然后淋亚光透明釉;所述喷墨印花的印花图案纹理和喷印深刻墨水的深刻墨水纹理在同一电脑中设计处理;所述亚光透明釉由以下质量份数计的组分组成:熔块80~93份、煅烧氧化锌3~11份、气刀土4~8份;
s4.烧成,烧成温度1050~1200℃、烧成周期40~60分钟;
s5.磨边,制成成品。
本发明利用深刻墨水排开亚光透明釉形成凹陷模具纹理,喷印深刻墨水的纹理是通过电脑制作而成,电脑处理纹理样式可以多样化,线条可以做得很精细;本发明的图案纹理处于亚光透明釉釉层的下面,亚光透明釉釉层可以保护图案纹理不受磨损。本发明制作的精细模具纹理,对砖坯模纹要求不大,直接用平面即可,可以降低开模费用,节约开模时间;因凹陷纹下陷深度只有0.1~0.5毫米,对精细布纹、皮纹、墙纸肌理纹可以达到很好的效果。图案纹理与深刻墨水纹理在同一设计中电脑处理,图案纹理与深刻墨水纹理可以很好的搭配处理使最终的呈现效果更加优化。
本发明采用喷墨印花后喷印深刻墨水,利用深刻墨水排开亚光透明釉层形成凹陷模具纹理,其下陷深度在0.1~0.5毫米。这里第三层釉不仅限于亚光透明釉也可以是有光透明釉、半有光透明釉。
在本发明中,优选地,所述无光面釉化学成分组成含量为:sio2为47~54%、al2o3为15.5~18%、mgo为0.4~1.8%、cao为4.4~8.2%、na2o为1.3~2.2%、k2o为2.6~3.5%、bao为4.7~6.4%、zno为5.4~6.7%,zro2为4.5~7.7%、sro为1.2~3.6%、fe2o3+tio2量小于0.5%、灼减为0.5~1.0%。上述无光面釉的组分及含量,烧制温度范围宽,烧制后使釉料发色效果均匀,表面无针眼细孔。
在本发明中,优选地,所述亚光透明釉化学成分组成含量为:sio2为48~53%、al2o3为13.5~15%、mgo为0.8~1.5%、cao为7.3~11.7%、na2o为1.0~2.4%、k2o为2.9~3.5%、sro2为0.8~2.4%、bao为7.7~11.6%、zno为3~11%,灼减为0.9~1.5%,fe2o3+tio2小于0.5%。亚光透明釉组成成分去除了zro2含量,降低al2o3含量,其熔融温度与硬度都低于无光釉层,使深刻墨水易于剥开亚光透明釉层,同时透现印花层。
本发明采用三次淋釉的方式,通过调整底釉、无光釉层、亚光透明釉层的配方与施釉量可以很好的解决瓷片易变形与易透水的问题;通过对无光釉层与亚光透明釉层配方的调整,无光釉层提高了al2o3与zro2含量,其熔融温度与硬度大于亚光透明釉层,对印花层与亚光透明釉层起承载固定作用;亚光透明釉组成成分去除了zro2含量,降低al2o3含量,其熔融温度与硬度都低于无光釉层,使深刻墨水易于剥开亚光透明釉层,同时透现印花层。
在本发明中,s2所述的熔块的原料按重量份数计如下:钾长石25~30份、高岭土23~29份、石英砂10~14份、方解石8~11份、碳酸钡7~10份、氧化锌5~8份、碳酸锶2.0~6.0份、白云石1.0~4.0份、纯碱0~3份和硼钙石0~3份、;上述原料经混合后,加入熔块炉经1450~1600℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成熔块粒。所述熔块的化学成分组成含量为:sio2为46~56%、al2o3为14~17%、mgo为0.5~2.1%、cao为5.4~9.4%、na2o为1.8~2.8%、k2o为3.3~4.0%、bao为5.9~8.6%、zno为6.7~9.1%、b2o3为0~1.4%、sro为1.5~4.8%,另有fe2o3+tio2量小于0.4%为杂质。
在本发明中,s3所述的熔块的原料按重量份数计为:方解石13~17份、碳酸钡10~14份、碳酸锶1~3份、钾长石20~26份、高岭土23~27份、纯碱1.5~4份、石英砂15~19份、白云石2~5份;上述原料经混合后,加入熔块炉经1450~1600℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成熔块粒。熔块的化学成分组成含量为:sio2为51~58%、al2o3为13~15.5%、mgo为0.9~1.7%、cao为8.5~13%、na2o为1.1~2.8%、k2o为3~4%、sro2为1~2.6%、bao为9~13%、灼减为0~0.3%,fe2o3+tio2小于0.5%。
熔块的原料选择和制作,会使得原料中能分解的物质及某些挥发物预先排出,在釉烧时不再出现这些过程,减少了针孔缺陷。同时,经熔制后的釉料,釉烧时,烧失量很小,几乎不收缩,能更好地与坯体相适应,减少滚釉、缩釉等缺陷。
在本发明中,所述无光面釉和亚光透明釉的制备方法为:配方原料混合均匀,加入水球磨10~12小时,得到釉浆,釉浆过筛球磨得釉料,釉料过80~120目筛,然后陈腐24~48小时备用。具体地,所述水的加入量为原料干料重量的38~40%。所述釉浆过筛球磨的工艺为:釉浆先过100~120目筛,再用350~400目筛过筛,筛余控制在0.1~0.4%,视最终筛余情况进一步球磨。在制备釉料的过程中,釉料的细度对最终釉层的性能影响大。釉料粉碎过细,则釉浆粘力过大,含水量过多,在干燥的坯体施釉后,釉面容易发生龟裂,釉层翘起与坯体脱离等现象。如果施釉较厚,这种缺陷更明显。但如釉料的粉碎不足,则釉浆粘附力过小,釉中的组分容易沉降。而且釉层与坯体的附着不牢固。
在本发明中,优选地,淋无光面釉和亚光透明釉采用钟罩式淋釉工艺,淋无光面釉时釉比重1.7~2.0g/m3,流速25~45秒,釉量300~600g/m2;淋亚光透明面釉时釉比重1.7~2.0g/m3,流速25~45秒,釉量300~600g/m2。在上釉时要适当选择釉浆的浓度。釉浆的浓度过低,则在坯体上容易形成过薄的釉层,造成烧成制品釉面上的痕迹粗糙,而且烧后的釉面光泽不良。但如釉浆的浓度太大,不但施釉操作不易掌握,且坯体内部有棱角的地方覆盖不到,施釉后釉面较易开裂,烧制后产生堆釉等现象。上述淋釉的规格,使釉料可以均匀延展开,均匀分布厚薄一致,烧制后釉面平整光滑。淋釉量对最终烧制后的表面状态有影响,会影响到瓷砖最终的耐磨强度和釉面透感,量少则耐磨强度达不到,量多则影响到耐磨釉面的发色和透感。
本发明的有益效果:
1、本发明采用三次淋釉的方式,通过调整无光釉层、亚光透明釉层的配方与施釉量可以很好的解决瓷片易变形与易透水的问题。
2、本发明利用深刻墨水排开亚光透明釉形成凹陷模具纹理,喷印深刻墨水的纹理是通过电脑制作而成,电脑处理纹理样式可以多样化,线条可以做得很精细。
3、本发明的图案纹理处于亚光透明釉釉层的下面,亚光透明釉釉层可以保护图案纹理不受磨损。
4、本发明制作的精细模具纹理,对砖坯模纹要求不大,直接用平面即可,可以降低开模费用,节约开模时间;因凹陷纹下陷深度只有0.1~0.5毫米,对精细布纹、皮纹、墙纸肌理纹可以达到很好的效果。图案纹理与深刻墨水纹理在同一设计中电脑处理,图案纹理与深刻墨水纹理可以很好的搭配处理使最终的呈现效果更加优化。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,对本发明进一步详细说明,但本发明要求的保护范围并不局限于实施例。
下述实施例所采用的原料如无特殊说明,均为市售。
实施例1:
具有精细模具纹理瓷片的制造,步骤如下:
a、按常规方法制备素坯与底釉。
b、精细模具纹理的设计制作,目前常用设计软件采用photoshop软件,通过图片、扫描实物纹理、描绘等方式获取纹理通道,用photoshop软件把获取的纹理处理到合适的效果,面釉凹陷位设计成灰度区,纹理灰度设置为80,再把纹理通道拖入合并到图案设计图中。
c、按照无光面釉熔块原料:钾长石27.3kg、高岭土26kg、石英砂11.7kg、方解石9.6kg、碳酸钡8.6kg、氧化锌6.7kg、碳酸锶4.1kg、白云石2.8kg、纯碱1.6kg和硼钙石1.5kg,称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1500℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成无光面釉熔块粒备用。熔块的化学成分组成含量为:sio2为50.4%、al2o3为15.7%、mgo为1.4%、cao为7.6%、na2o为1.9%、k2o为3.6%、bao为7.4%、zno为7.6%、b2o3为0.7%、sro为3.3%,另有fe2o3+tio2为0.22%、灼减为0.18%。
d、按照无光面釉原料称取无光面釉熔块81kg、硅酸锆10kg、煅烧高岭土4kg、气刀土5kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.12kg、三聚磷酸钠0.35kg,球磨10小时,得到釉浆,釉浆过80目筛后325目筛测筛余为0.4%,釉料出球过80目筛陈腐24小时备用。
e、按照亚光透明釉熔块原料:石英砂17.1kg、高岭土25.3kg、白云石3.5kg、方解石15.2kg、纯碱2.5kg、钾长石23.2kg、碳酸钡11.9kg、碳酸锶1.2kg称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1500℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成亚光透明釉熔块粒备用。熔块的化学成分组成含量为:sio2为55.8%、al2o3为14.5%、mgo为1.4%、cao为11%、na2o为1.8%、k2o为3.5%、sro2为1%、bao为10.7%、灼减为0.2%,fe2o3+tio2为0.1%。
f、按照亚光透明釉原料称取亚光透明釉熔块81kg、煅烧氧化锌11kg、气刀土8kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.12kg、三聚磷酸钠0.35kg,球磨10小时,得到釉浆,釉浆过100目筛后用350目筛测筛余为0.3%,釉料过120目筛,陈腐24小时备用。
g、a步骤制作好的素坯经釉线输送到釉柜淋底釉,所述底釉采用本领域常规使用的底釉,底釉比重1.78g/m3,流速35秒,釉量560g/m2。
h、砖坯淋底釉后经釉线输送过来淋无光面釉,将釉均匀施到底釉上,淋釉时釉比重1.84g/m3,流速35秒,釉量390g/m2。
i、砖坯淋无光面釉后,进入喷墨印花与喷印深刻墨水。
j、喷印深刻墨水后需放置4分钟待深刻墨水收水干后,淋亚光透明釉,淋釉时釉比重1.82g/m3,流速35秒,釉量440g/m2。
k、施有亚光透明釉的砖坯经洗边、干燥到烧成,烧成温度1125℃、烧成周期50分钟。
l、最后经磨边得到精细模具纹理瓷片。
所述无光面釉化学成分组成含量为:sio2为48.9%、al2o3为16%、mgo为1.1%、cao为6.2%、na2o为1.5%、k2o为3%、bao为6.1%、zno为6.2%,zro2为6.5%、b2o3为0.6%、sro为2.7%、fe2o3+tio2为0.3%、灼减为0.9%。所述亚光透明釉化学成分组成含量为:sio2为49.1%、al2o3为14.6%、mgo为1.1%、cao为8.9%、na2o为1.5%、k2o为3.0%、sro2为0.8%、bao为8.7%、zno为10.9%,灼减为1.2%,fe2o3+tio2为0.2%。
此方法获得的精细模具纹理瓷片,烧成后釉面光泽度为15~20°,釉面细腻,具有精细纹理。
实施例2:
a、按常规方法制备素坯与底釉。
b、精细模具纹理的设计制作,目前常用设计软件采用photoshop软件,通过图片、扫描实物纹理、描绘等方式获取纹理通道,用photoshop软件把获取的纹理处理到合适的效果,面釉凹陷位设计成灰度区,纹理灰度设置为80,再把纹理通道拖入合并到图案设计图中。
c、按照无光面釉熔块原料:钾长石30kg、高岭土29kg、石英砂14kg、方解石8kg、碳酸钡7kg、氧化锌6kg、碳酸锶2kg、白云石1kg、纯碱3kg,称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1600℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成柔光面釉熔块粒备用。熔块的化学成分组成含量为:sio2为56%、al2o3为17%、mgo为0.5%、cao为5.4%、na2o为2.8%、k2o为4%、bao为5.9%、zno为6.6%、sro为1.5%,另有fe2o3+tio2为0.17%、灼减为0.13%。
d、按照无光面釉原料称取无光面釉熔块80kg、硅酸锆8kg、煅烧高岭土7kg、气刀土5kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.12kg、三聚磷酸钠0.35kg,球磨10小时,得到釉浆,釉浆过80目筛后325目筛测筛余为0.3%,釉料出球过100目筛陈腐24小时备用。所述无光面釉化学成分组成含量为:sio2为53.7%、al2o3为18.5%、mgo为0.4%、cao为4.4%、na2o为2.2%、k2o为3.3%、bao为4.7%、zno为5.4%,zro2为5.2%、sro为1.2%、fe2o3+tio2为0.26%、灼减为0.74%。
e、按照亚光透明釉熔块原料如下:石英砂15kg、高岭土23kg、白云石3.5kg、方解石17kg、纯碱2.5kg、钾长石23.2kg、碳酸钡12.8kg、碳酸锶3kg,称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1600℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成炫光釉熔块粒备用。亚光透明釉熔块化学成分组成含量为sio2为53%、al2o3为13.5%、mgo为1.4%、cao为12.2%、na2o为1.8%、k2o为3.5%、sro2为2.6%、bao为11.5%、灼减为0.3%,fe2o3+tio2为0.2%。
f、按照亚光透明釉原料称取炫光釉熔块93kg、煅烧氧化锌3kg、气刀土4kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.12kg、三聚磷酸钠0.35kg,球磨10小时,得到釉浆,釉浆过100目筛后用350目筛测筛余为0.2%,进一步球磨,釉料出球过100目筛陈腐24小时备用陈腐48小时备用。所述亚光透明釉化学组成为:sio2为50.7%、al2o3为14%、mgo为1.3%、cao为11.3%、na2o为1.7%、k2o为3.4%、sro2为2.4%、bao为10.7%、zno为3%,灼减为1.4%,fe2o3+tio2为0.1%。
g、a步骤制作好的素坯经釉线输送到釉柜淋底釉,所述底釉采用本领域常规使用的底釉,底釉比重1.78g/m3,流速35秒,釉量560g/m2。
h、砖坯淋底釉后经釉线输送过来淋无光面釉,将釉均匀施到底釉上,淋釉时釉比重1.84g/m3,流速35秒,釉量390g/m2。
i、砖坯淋无光面釉后,进入喷墨印花与喷印深刻墨水。
j、喷印深刻墨水后需放置4分钟待深刻墨水收水干后,淋炫光釉,淋釉时釉比重1.82g/m3,流速35秒,釉量390g/m2。
k、施有亚光透明釉的砖坯经洗边、干燥到烧成,烧成温度1125℃、烧成周期50分钟。
l、最后经磨边得到精细模具纹理瓷片。
此方法第三次淋釉为有光面釉,其获得的精细模具纹理瓷片,釉面光泽度40~60°,表面在精细凹凸模纹的反光下呈现炫光质感,具有精细纹理。
实施例3:
具有精细模具纹理瓷片的制造,步骤如下:
a、按常规方法制备素坯与底釉。
b、精细模具纹理的设计制作,目前常用设计软件采用photoshop软件,通过图片、扫描实物纹理、描绘等方式获取纹理通道,用photoshop软件把获取的纹理处理到合适的效果,面釉凹陷位设计成灰度区,纹理灰度设置为80,再把纹理通道拖入合并到图案设计图中。
c、按照无光面釉熔块原料:钾长石25kg、高岭土23kg、石英砂10kg、方解石11kg、碳酸钡10kg、氧化锌8kg、碳酸锶6kg、白云石2.4kg、纯碱1.6kg和硼钙石3kg,称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1450℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成柔光面釉熔块粒备用。熔块的化学成分组成含量为:sio2为46%、al2o3为14%、mgo为1.7%、cao为8.8%、na2o为1.8%、k2o为3.3%、bao为8.6%、zno为9.1%、sro为4.8%、b2o3为1.4%,另有fe2o3+tio2为0.26%、灼减为0.24%。
d、按照无光面釉原料称取无光面釉熔块74kg、硅酸锆12kg、煅烧高岭土7kg、气刀土7kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.12kg、三聚磷酸钠0.35kg,球磨10小时,得到釉浆,釉浆过80目筛后325目筛测筛余为0.3%,釉料出球过80目筛陈腐24小时备用。
e、按照亚光透明釉熔块原料:石英砂19kg、高岭土25.3kg、白云石5kg、方解石15.2kg、纯碱2.5kg、钾长石20kg、碳酸钡12kg、碳酸锶1kg称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1450℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成亚光透明釉熔块粒备用。熔块的化学成分组成含量为:sio2为55%、al2o3为13.1%、mgo为1.7%、cao为12.6%、na2o为1.7%、k2o为3.2%、sro2为0.9%、bao为11%、灼减为0.4%,fe2o3+tio2为0.4%。
f、按照亚光透明釉原料称取亚光透明釉熔块85kg、煅烧氧化锌7kg、气刀土8kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.12kg、三聚磷酸钠0.35kg,球磨12小时,得到釉浆,釉浆过100目筛后用350目筛测筛余为0.2%,进一步球磨,最终所得釉料的细度为100~150目。陈腐36小时备用。
g、a步骤制作好的素坯经釉线输送到釉柜淋底釉,底釉比重1.78g/m3,流速35秒,釉量560g/m2。
h、砖坯淋底釉后经釉线输送过来淋无光面釉,将釉均匀施到底釉上,淋釉时釉比重1.80g/m3,流速35秒,釉量410g/m2。
i、砖坯淋无光面釉后,进入喷墨印花与喷印深刻墨水。
j、喷印深刻墨水后需放置4分钟待深刻墨水收水干后,淋亚光透明釉,淋釉时釉比重1.86g/m3,流速35秒,釉量430g/m2。
k、施有亚光透明釉的砖坯经洗边、干燥到烧成,烧成温度1050℃、烧成周期60分钟。
l、最后经磨边得到精细模具纹理瓷片。
所述无光面釉化学成分组成含量为:sio2为45.2%、al2o3为16%、mgo为1.3%、cao为6.6%、na2o为1.3%、k2o为2.6%、bao为6.4%、zno为6.7%,zro2为7.7%、sro为3.6%、b2o3为1%、fe2o3+tio2为0.34%、灼减为1.26%。所述亚光透明釉化学成分组成含量为:sio2为50.6%、al2o3为14%、mgo为1.5%、cao为10.7%、na2o为1.5%、k2o为2.9%、sro2为0.8%、bao为9.3%、zno为6.9%,灼减为1.3%,fe2o3+tio2为0.5%。
此方法获得的精细模具纹理瓷片,烧成釉面光泽度为10~15°,釉面细腻,具有精细纹理。
实施例4:
具有精细模具纹理瓷片的制造,步骤如下:
a、按常规方法制备素坯与底釉。
b、精细模具纹理的设计制作,目前常用设计软件采用photoshop软件,通过图片、扫描实物纹理、描绘等方式获取纹理通道,用photoshop软件把获取的纹理处理到合适的效果,面釉凹陷位设计成灰度区,纹理灰度设置为80,再把纹理通道拖入合并到图案设计图中。
c、按照无光面釉熔块原料:钾长石30kg、高岭土23kg、石英砂10kg、方解石11kg、碳酸钡8.6kg、氧化锌6.3kg、碳酸锶4.1kg、白云石4kg、硼钙石3kg,称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1500℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成柔光面釉熔块粒备用。熔块的化学成分组成含量为:sio2为47.8%、al2o3为15.12%、mgo为2.1%、cao为9.4%、na2o为2%、k2o为3.9%、bao为7.4%、zno为7.2%、b2o3为1.4%、sro为3.3%、另有fe2o3+tio2为0.25%、灼减为0.13%。
d、按照无光面釉原料称取无光面釉熔块87kg、硅酸锆7kg、煅烧高岭土3kg、气刀土3kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.15kg、三聚磷酸钠0.30kg,球磨10小时,得到釉浆,釉浆过100目筛后325目筛测筛余为0.4%,釉料出球过100目筛陈腐24小时备用。
e、按照亚光透明釉熔块原料:石英砂15kg、高岭土23kg、白云石4kg、方解石17kg、纯碱1.5kg、钾长石22.5kg、碳酸钡14kg、碳酸锶3kg称取原料。原料经混合后,加入熔块炉经1500℃煅烧熔融,再流出熔块炉水淬成亚光透明釉熔块粒备用。熔块的化学成分组成含量为:sio2为51.2%、al2o3为13%、mgo为1.6%、cao为13.3%、na2o为1.1%、k2o为3.4%、sro2为2.7%、bao为13.2%、灼减为0.2%,fe2o3+tio2为0.3%。
f、按照亚光透明釉原料称取亚光透明釉熔块88kg、煅烧氧化锌6kg、气刀土6kg、水份按干料重量的39%、甲基纤维素0.18kg、三聚磷酸钠0.40kg,球磨10小时,得到釉浆,釉浆过100目筛后用350目筛测筛余为0.4%,达到细度后釉出球过100目筛,陈腐24小时备用。
g、a步骤制作好的素坯经釉线输送到釉柜淋底釉,底釉比重1.78g/m3,流速35秒,釉量560g/m2。
h、砖坯淋底釉后经釉线输送过来淋无光面釉,将釉均匀施到底釉上,淋釉时釉比重1.87g/m3,流速35秒,釉量470g/m2。
i、砖坯淋无光面釉后,进入喷墨印花与喷印深刻墨水。
j、喷印深刻墨水后需放置4分钟待深刻墨水收水干后,淋亚光透明釉,淋釉时釉比重1.92g/m3,流速35秒,釉量480g/m2。
k、施有亚光透明釉的砖坯经洗边、干燥到烧成,烧成温度1200℃、烧成周期40分钟。
l、最后经磨边得到精细模具纹理瓷片。
所述无光面釉化学成分组成含量为:sio2为47%、al2o3为15.5%、mgo为1.8%、cao为8.2%、na2o为1.7%、k2o为3.5%、bao为6.4%、zno为6.3%,zro2为4.5%、sro为2.9%、b2o3为1.2%、fe2o3+tio2为0.28%、灼减为0.72%。所述亚光透明釉化学成分组成含量为:sio2为48%、al2o3为13.6%、mgo为1.4%、cao为11.7%、na2o为1.0%、k2o为3.1%、sro2为2.4%、bao为11.6%、zno为5.9%,灼减为1.0%,fe2o3+tio2为0.3%。
此方法获得的精细模具纹理瓷片,烧成釉面光泽度为12~16°,釉面细腻,具有精细纹理。
根据上述说明书的揭示和教导,本发明所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此,本发明并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式,对发明的一些修改和变更也应当落入本发明的权利要求的保护范围内。此外,尽管本说明书中使用了一些特定的术语,但这些术语只是为了方便说明,并不对本发明构成任何限制。
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